一种精铣曲面自动抛光方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种精铣曲面自动抛光方法，采用磁性磨料，这种磨料在没有施加磁场时，其抛光工艺效果与普通振动光饰相同；在施加磁场的情况下，磨料可凝聚成整体，且磨料能与叶片表面铣削刀痕产生的波纹形状很好的贴合，可很完整的复印叶片表面的波纹度，这样在叶片曲面四周能形成一个整体的抛光介质，当叶片在振动源的作用下进行上下往复运动时，整体抛光介质可有效地去除铣削刀痕的残留，即叶片表面波纹的峰处材料。本发明专利技术的优点是：既能达到自由振动光饰的效果，又能达到选择性的去除刀痕的目的，可替代手工抛光去刀痕70％左右的工作量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及航空发动机
，具体说是一种叶片的抛光方法及装置。
技术介绍
叶片表面精抛光是无余量叶片制造的核心技术之一。目前世界范围内的抛光方法主要是手工抛光和数控设备自动抛光，这两种方法的特点是需要专用的设备和抛磨磨具。手工抛光质量控制难度大。自动抛光设备成本高且存在抛光盲区。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术的目的是提供一种简易的抛光方法，这种方法通用性好，适合大多数叶片抛光并可实现精铣表面精抛光。具体技术方案如下:—种精铣曲面自动抛光方法，采用磁性磨料，这种磨料在没有施加磁场时，其抛光工艺效果与普通振动光饰相同；在施加磁场的情况下，磨料可凝聚成整体，且磨料能与叶片表面铣削刀痕产生的波纹形状很好的贴合，可很完整的复印叶片表面的波纹度，这样在叶片曲面四周能形成一个整体的抛光介质，当叶片在振动源的作用下进行上下往复运动时，整体抛光介质可有效地去除铣削刀痕的残留，即叶片表面波纹的峰处材料。所述磁性磨粒材料按体积配比为:粒径为10-20 μm超细白刚玉5-8，粒径为0.1-0.2 μπι Si02ll_12，粒径为 0.03-0.05 “111纳米级11021本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种精铣曲面自动抛光方法，其特征在于：采用磁性磨料，这种磨料在没有施加磁场时，其抛光工艺效果与普通振动光饰相同；在施加磁场的情况下，磨料可凝聚成整体，且磨料能与叶片表面铣削刀痕产生的波纹形状很好的贴合，可很完整的复印叶片表面的波纹度，这样在叶片曲面四周能形成一个整体的抛光介质，当叶片在振动源的作用下进行上下往复运动时，整体抛光介质可有效地去除铣削刀痕的残留，即叶片表面波纹的峰处材料；所述磁性磨粒材料按体积配比为：粒径为10‑20μm超细白刚玉5‑8，粒径为0.1‑0.2μm SiO211‑12，粒径为0.03‑0.05μm纳米级TiO21‑10，FeS 1‑3；聚晶金刚石1‑10，CBN10‑...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴伟东，蔺志强，王海波，王长建，胡宏浩，
申请(专利权)人：沈阳黎明航空发动机集团有限责任公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21