本发明专利技术公开了一种正性光刻胶组合物的制备方法，包括以下步骤（1）取溶剂溶解光活性物质，搅拌均匀，得到光活性物质溶液；（2）光活性物质溶液升温至50-54℃，加入聚醚改性的有机硅流平剂和树脂，恒温混合均匀；（3）升温至80-83℃，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。本发明专利技术制备的正性光刻胶有很高的感光速度，光刻得到的图像分辨率高。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻胶材料
，具体涉及。
技术介绍
光刻胶是指一大类具有光敏化学作用（或对电子能量敏感）的高分子聚合物材料， 又叫抗蚀剂，也叫光阻剂。主要应用于集成电路，封装，微机电系统，光电子器件光子器件， 平板显示器，太阳能光伏等领域。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应， 使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶 去可溶性部分，得到所需图像。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影 原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是 不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在 硅片表面刻蚀所需的电路图形。 光刻胶的组成为树脂，光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性 质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂，保持光 刻胶的液体状态，使之具有良好的流动性；添加剂，用以改变光刻胶的某些特性，如改善光 刻胶发生反射而添加染色剂等。负性光刻胶：树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是 二甲苯；感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成 交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨；曝光时光刻胶容易 与氮气反应而抑制交联。正性光刻胶：树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻 胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中；感 光剂是光敏化合物，最常见的是重氮萘醌，在曝光前，重氮萘醌是一种强烈的溶解抑制剂， 降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，重氮萘醌在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂， 大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在重氮萘醌中产生羧 酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的 分辨率。 现有的技术中，光刻胶在后烘的高温处理后，膜层表面很容易收缩，使光刻胶涂布 不均。这样应用于基因组测序时，光刻胶涂布于芯片上，会影响检测精度，造成结果不准确。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是，包括以下步骤： (1) 取溶剂溶解光活性物质，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至50-54Γ，加入聚醚改性的有机硅流平剂和树脂，恒温混合 均匀； (3 )升温至80-83 °C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 所述组合物按重量比为聚醚改性的有机硅流平剂0. 4-0. 55份、溶剂22-25份、光 活性物质2-3份和树脂16-18份。 所述聚醚改性的有机硅流平剂为ETA-735。 所述溶剂为四氢呋喃、丙二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺。 所述四氢呋喃、丙二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺的重量比为（4-5) :(13-16): (4-7)〇 所述四氢呋喃、丙二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺的重量比为4 :16 :5。 所述光活性物质为重氮萘醌磺酸酯。 所述树脂为2-羟基乙基丙烯酸甲酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和甲基丙烯 酸正丁酯，2-羟基乙基丙烯酸甲酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸正丁酯的 重量比为3:1:6。 本专利技术中的正性光刻胶中添加了聚醚改性的有机硅流平剂ETA-735,涂布于芯片 上，得到的膜层均匀、平滑。制备得到的光刻胶非常适合涂布于基因组测序中的基因芯片 上，使检测结果精度高，可以进行大规模工业生产。本专利技术中的正性光刻胶有很高的感光速 度，光刻得到的图像分辨率高，非常适合于大规模推广应用。【具体实施方式】 实施例1 (1) 取溶剂四氢呋喃4份、丙二醇甲醚醋酸酯16份和二甲基乙酰胺5份溶解重氮萘醌 磺酸酯2份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至50°C，加入ETA-735 0. 4份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯4份、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯2份和甲基丙烯酸正丁酯12份，恒温混合均匀； (3) 升温至80°C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 实施例2 (1) 取溶剂四氢呋喃4份、丙二醇甲醚醋酸酯14份和二甲基乙酰胺4份溶解重氮萘醌 磺酸酯2份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至54°C，加入ETA-735 0. 55份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯3份、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯3份和甲基丙烯酸正丁酯10份，恒温混合均匀； (3) 升温至83°C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 实施例3 (1) 取溶剂四氢呋喃4份、丙二醇甲醚醋酸酯14份和二甲基乙酰胺7份溶解重氮萘醌 磺酸酯2份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至52°C，加入ETA-735 0. 5份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯5份、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯8份和甲基丙烯酸正丁酯4份，恒温混合均匀； (3 )升温至81°C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 实施例4 (1) 取溶剂四氢呋喃4. 5份、丙二醇甲醚醋酸酯13份和二甲基乙酰胺6. 5份溶解重氮 萘醌磺酸酯3份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至52°C，加入ETA-735 0. 45份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯5份、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯8份和甲基丙烯酸正丁酯4份，恒温混合均匀； (3) 升温至80°C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 实施例5 (1) 取溶剂四氢呋喃5份、丙二醇甲醚醋酸酯14份和二甲基乙酰胺5份溶解重氮萘醌 磺酸酯3份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至52°C，加入ETA-735 0. 48份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯9份、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯4份和甲基丙烯酸正丁酯4份，恒温混合均匀； (3) 升温至82°C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 实施例6 (1) 取溶剂四氢呋喃5份、丙二醇甲醚醋酸酯15份和二甲基乙酰胺5份溶解重氮萘醌 磺酸酯2. 5份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至53°C，加入ETA-735 0. 42份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯8份、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯5份和甲基丙烯酸正丁酯4份，恒温混合均匀； (4) 升温至82. 5°C，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 对比例 (1) 取溶剂四氢呋喃8份、丙二醇甲醚醋酸酯2份和二甲基乙酰胺0. 5份溶解重氮萘醌 磺酸酯2份，搅拌均匀，得到光活性物质溶液； (2) 光活性物质溶液升温至52. 5°C，加入ETA-735 0. 4份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯4 份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯2份和甲基丙烯酸正丁酯4份，恒温混合均匀； (4)升温至60°C，恒温搅拌1小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。 实验例 本专利技术光刻胶作为液态涂料组合物涂覆在芯片基材上，直至涂层不再黏着，通过光掩 膜在活化照射下曝光，用碱性显影液显影，形成浮雕图像。在制备后立即测量实施例1-实 施例4以及对比例光刻胶的感光速度，结果如表1 :表1 由表1可知，本专利技术实施例1-实施例4的制得光刻胶的感光速度显著高于对比例，其 质地平滑均匀，质量本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种正性光刻胶组合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）取溶剂溶解光活性物质，搅拌均匀，得到光活性物质溶液；（2）光活性物质溶液升温至50‑54℃，加入聚醚改性的有机硅流平剂和树脂，恒温混合均匀；（3）升温至80‑83℃，恒温搅拌两小时以除去溶剂，得到光刻胶组合物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈哲，任鲁风，殷金龙，
申请(专利权)人：北京中科紫鑫科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。