本实用新型专利技术提供的一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，其特征在于，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分、样品测量池和加热装置，所述加热装置用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种加热结构，尤其是应用于样品测量装置加热结构。
技术介绍
在工业过程气体在线分析过程中，样品成分非常复杂，在温度较低情况下，样品易凝固，导致气体分析仪样品测量池光学元件及池体内壁被污染，从而增加了维护频率和维护成本。另外，在温度较低情况下，样品中的水分更加容易腐蚀气体分析仪样品测量池，从而可能导致气体分析仪系统崩溃。为了保障气体分析仪的使用效果，通常情况下，气体分析仪的样品测量池往往会设置加热装置，一般是通过加热板辐射方式加热，同时将带加热板的样品测量池放置在保温箱中，从而使得样品测量池中的样品保持一定温度。在此情况下，加热板将对样品测量池和整个保温箱空间同时加热，热量的传递方式主要靠加热板热量的辐射及内部对流，加热效率低，保温箱体内温度分布不均匀，造成仪器各部件受热不均及热量的严重浪费。此类加热方式既不能选择性地加热样品测量池的不同部位，也不能满足较高温度的加热需求，存在一定局限性。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供一种加热效率高的样品测量装置加热结构，有针对性地加热不同区域。如图1和图2所示，本技术提出一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。在优选地实施例中，所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分、样品测量池和加热装置，所述加热装置用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。在优选地实施例中，所述子热源以接触传导的方式作用于各目标加热区域。在优选地实施例中，所述加热装置外设置有保温箱。在优选地实施例中，所述子热源材质可以是陶瓷、云母、铸铜、铸铁、铸铝、不锈钢、石英中的一种及其组合。通过上述改进的技术方案，该技术有益的技术效果为，子热源以接触传导方式作用于样品测量池，提高了加热效率。同时，由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。【附图说明】 附图1是本技术一种样品测量装置加热结构主视图。 附图2是图1 一种样品测量装置加热结构沿箭头所示方向的剖视图。附图3为本技术一种样品测量装置实施例。附图4为本技术一种样品测量装置实施例。附图5为本技术一种样品测量装置实施例。【具体实施方式】以下将结合附图所示的【具体实施方式】对本技术进行详细描述。但这些实施方式并不限制本
的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本技术的保护范围内。如图1和图2所示，图1为本技术一种样品测量装置加热结构主视图，图2为图1 一种样品测量装置加热结构沿箭头所示方向的剖视图，在本技术【具体实施方式】中，包括三个子热源1，所述三个子热源1分散布置于样品测量池3的各目标加热区域2,各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。 根据具体实施需要，部分子热源之间也可以共享同一温度控制模块。 在本实施例中，所述的温度控制模块用于接受温度传感器的温度数据，根据预设的控制策略控制加热目标的温度。如附图3所示，其为样品测量装置加热结构的一种实施例，所述样品测量装置为入射光5依次经过第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8后，由第二光学元件及其安装部分8产生出射光6,所述子热源1加热于第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8。如附图4所示，其为样品测量装置加热结构的一种实施例，所述样品测量装置为入射光5依次经过第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8后，被第二光学元件及其安装部分8回返，并由第一光学元件及其安装部分7产生出射光6,所述子热源1加热于第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8。如附图5所示，其为样品测量装置加热结构的一种实施例，通过对所述第一光学元件及其安装部分7、第二光学元件及其安装部分8的口径、曲率等参数及两者之间的距离，使得入射光5经过第一光学元件及其安装部分7后，在样品测量池3中完成预定次数的多次来回反射，由一光学元件及其安装部分7产生出射光6,出射光6与入射光5非平行，并具有大于零度的夹角。 在本实施例中，所述子热源1以接触传导的方式作用于第一光学元件及其安装部分7、第二光学元件及其安装部分8和样品测量池3。为了对样品测量池3各目标加热区域2进行有针对性地加热，子热源1数量根据需要加热的目标区域而定。 在本实施例中，加热装置外设置有保温箱4,减少热量损失。 在本实施例中，子热源1材质可以是陶瓷、云母、铸铜、铸铁、铸铝、不锈钢、石英中的一种及其组合。 在本实施例中，子热源加热方式包括电加热、磁加热、微波加热。 在具体实施过程中，各子热源分散设置于于第一光学元件及其安装部分7、第二光学元件及其安装部分8和样品测量池3,并由相互独立的温度控制模块驱动。通过上述改进的技术方案，该技术有益的技术效果为，子热源以接触传导方式作用于不同目标区域，提高了加热效率。同时，由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。【主权项】1.一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，其特征在于，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动； 所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分和样品测量池； 所述子热源用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。2.根据权利要求1所述的一种样品测量装置加热结构，其特征在于，所述子热源以接触传导的方式作用于各目标加热区域。3.根据权利要求1所述的一种样品测量装置加热结构，其特征在于，加热结构外设置有保温箱。4.根据权利要求1-3任一所述的一种样品测量装置加热结构，其特征在于，所述子热源材质可以是陶瓷、云母、铸铜、铸铁、铸铝、不锈钢、石英中的一种及其组合。【专利摘要】本技术提供的一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，其特征在于，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分、样品测量池和加热装置，所述加热装置用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。【IPC分类】G01N21/25【公开号】CN205003073【申请号】CN201520387741【专利技术人】邓文平, 朱道龙 【申请人】苏州谱道光电科技有限公司【公开日】2016年1月27日【申请日】2015年6月8日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，其特征在于，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动；所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分和样品测量池；所述子热源用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：邓文平，朱道龙，
申请(专利权)人：苏州谱道光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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