光罩及光罩的制造方法技术

本发明专利技术的名称是光罩及光罩的制造方法。一种光罩的制造方法，其步骤包括：提供可挠性基板。于可挠性基板上形成多个微结构。于可挠性基板上涂布遮光材料，使基板形成遮光层。固化遮光层，且遮光层为单一层体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种光罩及其制造方法。
技术介绍
传统的光学微影技术中，光罩对光阻层的紫外光(UV)曝光技术主要可以分为接触式光学微影技术以及倍缩微影技术两种。接触式光学微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸与实际复制于基板上的图案为1:1的比例，以直接贴近于光阻层表面的方式进行曝光；而倍缩微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸则为实际复制于基板上图案的数倍，经由光学系统投射的方式对光阻进行曝光。其中，在接触式光学微影技术中，光罩表面的遮光图案会与基板上的光阻层接触摩擦，容易使得遮光图案耗损使得光罩使用寿命缩短。另外，当涂布有光阻层的基板表面不是非常平整时，光罩与光阻层会产生不确定的空隙与距离，而造成光线的散射与绕射，进而造成曝光的尺寸误差，并且造成光阻层浅层部分的侧向曝光范围扩大，因而无法制作出高深宽比的光阻结构。因此，如何提供一种低成本、工艺速度较快、操作温度较低、容易制作、增加光罩与光阻层的密合度的光罩及其制作方法，已成为课题之一。
技术实现思路
有鉴于上述课题，本专利技术的目的为提供一种低成本、工艺速度较快、操作温度较低、容易制作、增加光罩与光阻层的密合度的光罩及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩的制造方法，其步骤包括：提供一可挠性基板；于所述可挠性基板上形成多个微结构；于所述可挠性基板上涂布一遮光材料，使所述基板形成一遮光层；以及固化所述遮光层；其中，所述遮光层为单一层体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李永春，吴俊颖，谢恒，谢易达，颜志男，
申请(专利权)人：李永春，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71