一种去除酮连氮法水合肼中有机物的方法技术

本发明专利技术涉及除去有机物的技术领域，具体涉及一种除去水合肼中有机物的方法，包括以下步骤：首先将水解系统送来的含有机杂质的粗水合肼和萃取剂混合，进行萃取，然后将水合肼和含有机杂质的萃取剂分离，所述萃取剂为不溶或微溶于水、沸点低于水合肼的有机物，所述粗水合肼和萃取剂体积比为1:2-5；将萃取后的水合肼送去精馏，去除残余有机杂质。本发明专利技术的方法除去了水合肼中大量的有机物，尤其是用其他方法不易除去的与水合肼沸点相近的有机物，且简单易操作，设备投入小，能耗低；使用过的萃取剂可回收再利用，降低了操作成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及除去有机物的
，具体设及一种除去水合阱中有机物的方法。
技术介绍
水合阱，又名：水合联氨，化学式为N2H4·&0,为强还原剂，是重要的化工原料，也 是医药、农药、染料、发泡剂、显影剂、抗氧化剂的原料；用于锅炉水去氧、高纯金属制取、有 机化合物合成及还原、稀有元素分离，还用作火箭燃料及炸药的制造，随着技术的进步、社 会的发展，近年来水合阱的应用领域在不断拓宽。水合阱的生产方法主要有拉西法、尿素 法、酬连氮法、双氧水法W及空气氧化法等。本专利技术提到的水合阱生产方法为酬连氮法，它 是采用丙酬、次氯酸钢与氨反应生产中间体一酬连氮，酬连氮水解生产水合阱。其主要化学 反应方程式为： 2化OH+Clz一化Cl+NaClO+HzONHs+NaClO-NHzCl+NaOH 阳005] 2CH3C0CH3+NH3+NH2Cl+Na0H一（邸3)2〔= N-N = (CH3)2C+3H2〇+NaCl 阳0(?] 畑3)2C = N-N = C畑3)2+3H2O - N2H4· H2O+2CH3COCH3 由此方法制备水合阱的过程中，同时也生成各种有机杂质，水解系统出来的粗水 合阱，未经过精制或提纯，含有大量的有机杂质，水合阱中的有机杂质的含量通常用T0C值 来表示，粗水合阱中T0C含量达20000-3000化pm。水合阱的应用中要求将水合阱溶液中的 T0C低于lOOOppm，一般多要求T0C在3(K)ppm和5(K)ppm之间，因此需要进一步降低杂质含 量才能使用。 申请号为94115836. 5的专利技术专利公开了一种通过将水合阱蒸馈，使馈出物通过 吸附剂并将蒸汽冷凝而将有机杂质和烙解盐从水合阱及其水溶液中除去的方法。该方法可 去除沸点高于或低于水合阱的有机物，但不能除去与水合阱沸点相近的有机杂质，如化挫 嘟、化咯、化晚等有机物，限制了水合阱在医药或对杂质要求更高的高端领域的应用。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种除去酬连氮法水合阱粗溶液中有机物的 方法，特别是除去与水合阱沸点相近的有机物的方法。 本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是： 一种去除酬连氮法水合阱中有机物的方法，包括W下步骤： 阳〇1引（1)将水解系统送来的含有机杂质的粗水合阱和萃取剂混合，进行萃取，然后将水 合阱和含有机杂质的萃取剂分离，所述萃取剂为不溶或微溶于水、沸点低于水合阱的有机 物，所述粗水合阱和萃取剂体积比为1:2-5; (2)将萃取后的水合阱去精馈，去除残余有机物。 在本专利技术的方法中，优选的所述的萃取剂为甲苯或苯胺。 优选所述的粗水合阱和萃取剂体积比为1:2-4。粗水合阱和萃取剂体积比为 1:2-4时，分层较快，水合阱层较透明，有利于现代化连续性生产的需要。 优选所述萃取是使用反应蓋或萃取塔连续进行的。萃取过程在反应蓋或萃取塔中 连续进行，反应迅速，操作方便，节约人力。 在本专利技术的方法中，将萃取了有机杂质的萃取剂进行洗涂纯化，又回用于萃取过 程。利用反萃取原理使用纯水与萃取剂逆流冲洗，除去萃取剂中的有机杂质，萃取剂循环使 用，降低生产成本。 优选的，所述萃取的时间为10-15分钟，所述萃取的溫度为35-45Γ，在萃取时间 为10-15分钟、溫度为35-45°C时，萃取剂和水合阱分层较快，水合阱层较透明，萃取效果 好。 本专利技术进行了如下实验分析： 取阱含量为60% (重量）的水合阱降至常溫后进行T0C分析，将水合阱与甲苯按 1:1、1:2、1:3、1:4、1:5的体积比加入分液漏斗中，摇动1分钟，排气，反复Ξ次后静置分层， 分离水合阱后进行T0C分析。对萃取后的水合阱进行精馈，得到80%水合阱，再次分析T0C 数据。 表1为水合阱萃取精馈前后T0C含量分析，如表1所示的，经萃取后的水合阱除去 了大部分有机杂质，当水合阱和甲苯比例为1:1或低于1:1时，甲苯和水合阱分层慢，甲苯 层较透明，水合阱层浑浊，即水合阱中含甲苯，甲苯不易从水合阱中分出去；当水合阱和甲 苯比例为1:2-1:5时，分层较快，水合阱层较透明，将经过萃取的水合阱进行精馈除去残余 杂质，进行T0C分析得T0C除去了 99 %W上的有机物。当水合阱和甲苯比例为1:4-1:5时， T0C含量降至lOOppmW下，T0C去除率达99%W上。 表1水合阱萃取精馈前后T0C含量 表2为对水合阱只进行精馈前后的T0C含量，取阱含量为60% (重量）的水合阱 进行精馈操作，得到80%水合阱，分析精馈前后水合阱中T0C数据，由表2可W看出，精馈 过程中除去了 80%W上的有机杂质，但仍有部分杂质未除去，根据蒸馈的原理，未除去的杂 质为与水合阱沸点相近的有机物，因此采用萃取加精馈的方法，既可W除去水合阱中与水 合阱沸点相近的有机物，又可W除去水合阱中大部分的有机杂质，使水合阱中T0C去除率 达99%W上。水合阱的应用中要求将水合阱溶液中的T0C低于lOOOppm，一般多要求T0C 在30化pm和50化pm之间，因此，用本专利技术方法得到的水合阱可应用于大部分水合阱应用领 域，而优化水合阱和萃取剂的比例，可得到T0C含量降至l(K)ppmW下的水合阱，可应用于对 杂质要求更高的高端领域。 阳0巧]表2水合阱精馈前后TOC含量 本专利技术的有益效果是：使用本专利技术提供的方法对水合阱溶液进行萃取，水合阱和 萃取剂比例为1:2-5时分层快速，除去了水合阱大量的有机物，尤其是用其他方法不易除 去的与水合阱沸点相近的有机物，配合后续精馈操作除去残余有机物及离子杂质，水合阱 中T0C去除率达99%W上，可应用于对水合阱中杂质要求较高的领域；水合阱和萃取剂能 较快分离符合现代化连续快速生产的需要；本专利技术提供的方法简单易操作，设备投入小，能 耗低；使用过的萃取剂可回收再利用，降低了操作成本，达到节能降耗的目的。【附图说明】 图1是本专利技术的工艺流程框图。【具体实施方式】 下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。 如图1所示，酬连氮法水合阱生产过程中水解系统送来的高T0C含量的水合阱进 入萃取塔除去大量有机物后，T0C含量较低的水合阱送入后续精馈工序进一步除杂。经过 萃取含有大量有机杂质的萃取剂送入萃取剂再生塔，使用纯水进行反萃取，萃取剂与纯水 逆流接触，除去萃取剂中的有机物，萃取剂存入萃取剂中转罐，W供萃取塔萃取使用。 阳〇3U实施例1:将欲除杂的阱含量为60 % (重量）的水合阱10化与萃取剂甲苯20化加入萃取塔 中，在35Γ下揽拌3分钟后静置10分钟，发生相分离，除去有机层，得到水合阱溶液，再对 T0C含量较低的水合阱溶液通入后续精馈系统进行精馈除杂，T0C去除率达99. 13%。萃取 塔中含有大量有机杂质的萃取剂甲苯送入萃取剂再生塔，使用纯水进行反萃取提纯后存入 萃取剂中转罐，W供萃取塔萃取时使用。整个萃取过程在萃取塔中不间断连续进行。 阳〇3引实施例2:将欲除杂的阱含量为60% (重量）的水合阱10化与萃取剂甲苯40化加入萃取 塔中，在4(TC下揽拌3分钟后静置12分钟，发生相分离，除去有机层，得到水合阱溶液，再 对T0C含量较低的水合阱溶液进行精馈除杂，T0C分析得T0C去除率达99. 63%，T0C含量 降至8：3卵m。 阳03引实施例3:将欲除杂的阱含本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去除酮连氮法水合肼中有机物的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)将水解系统送来的含有机杂质的粗水合肼和萃取剂混合，进行萃取，然后将水合肼和含有机杂质的萃取剂分离，所述萃取剂为不溶或微溶于水、沸点低于水合肼的有机物，所述粗水合肼和萃取剂体积比为1:2‑5；(2)将萃取后的水合肼去精馏，去除残余有机物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：万立，周明，柴进祥，陈尚思，张进萍，
申请(专利权)人：宜宾海丰和锐有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51