一种旋转运动机构的流体供应结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种旋转运动机构的流体供应结构，包括旋转盘及与所述旋转盘的轴孔相配合的中心轴，所述旋转盘的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道，所述第一流道与设置在所述中心轴上的若干个第二流道相贯通，且所述第一流道口上下两侧的旋转盘轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴相配合的密封圈，所述第二流道的进液口分别设置于所述中心轴的两端。此结构设计，使得中心轴上的第二流道与第一流道相贯通，进而方便为旋转中的转盘提供流体，此外，密封圈的设置，也使得相邻流道之间的流体不外溢、不混合。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机械与流体
，尤其涉及一种旋转运动机构的流体供应结构。
技术介绍
现有技术下，一些设备的中心轴固定不动，而转盘绕着中心轴旋转运动，转盘上需要液压油、水、气等流体。而外界流体源又不能和转盘一起旋转，如果直接用管路把流体源和需要流体的转盘连起来肯定行不通的。
技术实现思路
本技术的目的在于提供了一种通过固定不动的中心轴为围绕中心轴旋转的转盘提供液体的流体供应结构。为达此目的，本技术采用以下技术方案:—种旋转运动机构的流体供应结构，包括旋转盘及与所述旋转盘的轴孔相配合的中心轴，所述旋转盘的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道，所述第一流道与设置在所述中心轴上的若干个第二流道相贯通，且所述第一流道口上下两侧的旋转盘轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴相配合的密封圈，所述第二流道的进液口分别设置于所述中心轴的两端。其中，所述第二流道设置为L形或/和T形流道。其中，所述L形流道包括轴向设置于所述中心轴的第一主流道及与所述第一主流道相贯通的第一径向流道，所述第一径向流道与所述第一流道相贯通。其中，所述T形流道包括第二主流道及与所述第二主流道相贯通的第二径向流道，所述第二径向流道的两端分别与径向设置在所述旋转盘的外圆周面上的所述第一流道相贯通。其中，还包括设置于所述旋转盘轴孔两端的轴承，所述轴承与所述中心轴的两端相配合。其中，所述中心轴的下端的轴承的下方依次设置有垫圈和螺母，所述垫圈和螺母的外围设置有法兰，所述法兰与所述旋转盘的下端面相配合。其中，所述中心轴的上端的轴承的上方设置有与所述中心轴相配合的卡盘。本技术的有益效果:本技术包括旋转盘及与所述旋转盘的轴孔相配合的中心轴，所述旋转盘的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道，所述第一流道与设置在所述中心轴上的若干个第二流道相贯通，且所述第一流道口上下两侧的旋转盘轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴相配合的密封圈，所述第二流道的进液口分别设置于所述中心轴的两端。此结构设计，使得中心轴上的第二流道与第一流道相贯通，进而方便为旋转中的旋转盘提供流体，此外，密封圈的设置，也使得相邻流道之间的流体不外溢、不混合。【附图说明】图1是本技术一种旋转运动机构的流体供应结构的剖面结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图1并通过【具体实施方式】来进一步说明本技术的技术方案—种旋转运动机构的流体供应结构，包括旋转盘I及与所述旋转盘I的轴孔相配合的中心轴2，所述旋转盘I的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道11，所述第一流道11与设置在所述中心轴2上的若干个第二流道21相贯通，且所述第一流道11 口上下两侧的旋转盘I轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴2相配合的密封圈3，所述第二流道21的进液口分别设置于所述中心轴2的两端。优选的，所述第二流道21设置为L形或/T形流道。进一步优选的，所述L形流道包括轴向设置于所述中心轴2的第一主流道及与所述第一主流道相贯通的第一径向流道，所述第一径向流道与所述第一流道11相贯通，所述T形流道包括第二主流道及与所述第二主流道相贯通的第二径向流道，所述第二径向流道的两端分别与径向设置在所述旋转盘I的外圆周面上的所述第一流道11相贯通。进一步优选的，还包括设置于所述旋转盘I轴孔两端的轴承4，所述轴承4与所述中心轴2的两端相配合，所述中心轴2的下端的轴承4的下方依次设置有垫圈5和螺母6，所述垫圈5和螺母6的外围设置有法兰7，所述法兰7与所述旋转盘I的下端面相配合，所述中心轴2的上端的轴承4的上方设置有与所述中心轴2相配合的卡盘8。优选的，卡盘8和垫圈5与圆螺母6用于调节轴承间隙。旋转盘I与法兰7固定连接，靠电机带动法兰7进而带动转盘绕中心轴2旋转运动。上述结构设计，能够将流体通过固定不动的中心轴上的第二流道流入对应的第一流道内，进而为旋转中的转盘提供源源不断的流体供应。设置在第二流道端口上下两侧的密封圈，能够有效防止流道内的流体外流，进而避免相邻流道内的流体混合。以上结合具体实施例描述了本技术的技术原理。这些描述只是为了解释本技术的原理，而不能以任何方式解释为对本技术保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本技术的其它【具体实施方式】，这些方式都将落入本技术的保护范围之内。【主权项】1.一种旋转运动机构的流体供应结构，包括旋转盘及与所述旋转盘的轴孔相配合的中心轴，其特征在于:所述旋转盘的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道，所述第一流道与设置在所述中心轴上的若干个第二流道相贯通，且所述第一流道口上下两侧的旋转盘轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴相配合的密封圈，所述第二流道的进液口分别设置于所述中心轴的两端。2.根据权利要求1所述的一种旋转运动机构的流体供应结构，其特征在于:所述第二流道设置为L形或/和T形流道。3.根据权利要求2所述的一种旋转运动机构的流体供应结构，其特征在于:所述L形流道包括轴向设置于所述中心轴的第一主流道及与所述第一主流道相贯通的第一径向流道，所述第一径向流道与所述第一流道相贯通。4.根据权利要求2所述的一种旋转运动机构的流体供应结构，其特征在于:所述T形流道包括第二主流道及与所述第二主流道相贯通的第二径向流道，所述第二径向流道的两端分别与径向设置在所述旋转盘的外圆周面上的所述第一流道相贯通。5.根据权利要求1所述的一种旋转运动机构的流体供应结构，其特征在于:还包括设置于所述旋转盘轴孔两端的轴承，所述轴承与所述中心轴的两端相配合。6.根据权利要求1所述的一种旋转运动机构的流体供应结构，其特征在于:所述中心轴的下端的轴承的下方依次设置有垫圈和螺母，所述垫圈和螺母的外围设置有法兰，所述法兰与所述旋转盘的下端面相配合。7.根据权利要求1所述的一种旋转运动机构的流体供应结构，其特征在于:所述中心轴的上端的轴承的上方设置有与所述中心轴相配合的卡盘。【专利摘要】本技术公开了一种旋转运动机构的流体供应结构，包括旋转盘及与所述旋转盘的轴孔相配合的中心轴，所述旋转盘的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道，所述第一流道与设置在所述中心轴上的若干个第二流道相贯通，且所述第一流道口上下两侧的旋转盘轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴相配合的密封圈，所述第二流道的进液口分别设置于所述中心轴的两端。此结构设计，使得中心轴上的第二流道与第一流道相贯通，进而方便为旋转中的转盘提供流体，此外，密封圈的设置，也使得相邻流道之间的流体不外溢、不混合。【IPC分类】F16K5/04, F16K27/06, F16K5/08【公开号】CN204942585【申请号】CN201520596846【专利技术人】孙山峰 【申请人】深圳市嘉润精密模具有限公司【公开日】2016年1月6日【申请日】2015年8月10日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种旋转运动机构的流体供应结构，包括旋转盘及与所述旋转盘的轴孔相配合的中心轴，其特征在于：所述旋转盘的外圆周面上径向设置有若干个用于外置元件流体供应的第一流道，所述第一流道与设置在所述中心轴上的若干个第二流道相贯通，且所述第一流道口上下两侧的旋转盘轴孔孔壁上环形埋设有与所述中心轴相配合的密封圈，所述第二流道的进液口分别设置于所述中心轴的两端。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙山峰，
申请(专利权)人：深圳市嘉润精密模具有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44