本发明专利技术揭示的液体储槽的回流装置包含一回流管路、至少一监测管及一增压装置。该回流管路设置于该储槽的一槽壁的外侧，使储槽内的液体经由该回流管路回流至于该储槽，该回流管路包含一主回流管及连通于该主回流管的至少一回流歧管。监测管连通该回流歧管，供一监测装置接触该回流歧管内的液体。增压装置设置于该回流管路中，驱动所述液体于该回流管路内流动。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术有关于一种液体储槽，特别是关于一种具回流装置的液体储槽。
技术介绍
光电产业的制程中，包含薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display; TFT-LCD)制程等，会涉及多种不同制程液体及 这些制程液体利用后所产生的废液，所述液体均被提供合适的缓冲用的储 槽，以利整个生产制程能流畅运作。部分需加以监测其质量的液体，则会 配赋予监测仪器，以监测储存液体的质量状况，由此确保其质量。然而，随着产量的增加，用于液体处理的设备与储槽随之而增大。可 是，增大的储槽常因受限于现场空间，造成储槽上的监测仪器布置不易。 例如，因废液处理增加而增高槽体高度达楼板高度的生物系统曝气槽，其 原置于槽体上方的相关监测仪器(如曝气槽污泥浓度、氧化还原电位和 酸碱度等检测仪器)均需自上一楼层的地板上所开的开孔将仪器插入槽内 进行量测。若上层地板无法开孔，则需从侧边抽水以进行量测。但是，由 侧边进行抽水，因槽体内液位较高的缘故，使槽体内的液体于抽水当中容 易满溢出来，造成抽水的不便。此外，若以己知的侧边设置取样口的方式来进行监测，因其仅能获取 每次取样的结果，故无法做到连续实时监控。前述监测仪器的布置所面临的问题，非仅限于有机废水处理的设备， 于其它制程液体的提供或处理，在相似情况发生时，也会面临同样的窘境。鉴于上述因液体储存设备随着需求而增大体积，因而造成监控系统的布置不易的情况，以及槽体侧边取样口的检测方式无法做连续监测等问题， 至今仍有待一种有效的解决方案。
技术实现思路
本专利技术提供一种液体储槽及其回流装置，其是由回流装置使液体储槽 内的液体得以于储槽的外侧进行连续监测，由此有效掌控槽内液体状况， 并维持系统操作的稳定。本专利技术的液体储槽的回流装置，是用于监测一储槽内所储存的液体， 而且所述液体于该储槽内形成一液面，该回流装置包含一回流管路、至少 一监测管及一增压装置。该回流管路设置于该储槽的一槽壁的外侧，使储 槽内的液体经由该回流管路回流至于该储槽，该回流管路包含一主回流管 及连通于该主回流管的至少一回流歧管。监测管连通该回流歧管，供一监 测装置接触该回流歧管内的所述液体。增压装置设置于该回流管路中，驱 动所述液体于该回流管路内流动。本专利技术的液体储槽，是用于储存一液体，该液体储槽包含一具有一设 定液面高度的槽体、 一前述的回流管路、至少一前述的监测管及一前述增 压装置。由上所述，本专利技术由回流装置使液体储槽内的液体得以于储槽的外侧 进行连续监测。附图说明图1A:本专利技术一实施范例的液体储槽的示意图； 图1B:本专利技术一实施范例的液体储槽的设定液面高度示意图； 图2:本专利技术一实施范例的监测装置于监测管内的示意图； 图3:本专利技术另一实施范例的回流管路示意图。附图标号-100液体储槽 104、 104' 回流管路 106监测管 110槽壁114、 114' 回流歧管116进流口120出流口124流量调整装置202监测装置102槽体108增压装置 112主回流管118进流口 122水平管路段204开口具体实施例方式参照图1A、 IB与图2，液体储槽100包含一槽体102、 一回流管路104、 至少一监测管106及一增压装置108。槽体102可储存高度至一设定液面高 度的液体量。回流管路104设置于该槽体102的一槽壁110的外侧，使槽 体102内的液体可经由该回流管路104于槽体102外进行循环流动。回流 管路104包含一主回流管112及连通于该主回流管112的至少一回流歧管 114。监测管106连通该回流歧管114，其是供一监测装置202(参照图2) 接触该回流歧管114内的回流的液体。增压装置108设置于该回流管路104 中，其是用于驱动槽体102内的液体于该回流管路104内流动，并使槽体 102内的液体可由增压装置108的驱动而稳定地分布于各回流歧管114中， 以进行动态连续的监测。于本实施例中，增压装置108为泵。回流歧管114是配合量测所需而于主回流管112上设置，其使液体回 流至原槽体102，且确保水流能顺利平稳通过量测装置202并避免量测死水。 回流歧管114的管径可小于主回流管112,然此非为必要。回流歧管114的 设置高度可高于槽体102内的液面高度。于本实施例中，回流歧管114设置于主回流管112中的一水平管路段122。水平管路段122的设置可提供多个监测管106设置的便利，其高度可 接近地板，使操作便利；该高度也可设于较高之处，如本实施例中所示， 该水平管路段122约略等同于槽体102内的液面高度(如图1B所示)。参照图1B，主回流管112的进流口 116与回流歧管114的进流口 118 高于槽体102内的液面，使主回流管112与回流歧管114内不致倒流而可 让液体保持流通。主回流管112的进流口 116与回流歧管114的进流口 118 可如图1B所示的不等高，也可等高度设置。回流管路104设于该槽壁110 上的一出流口 120是设于槽体102内的液面高度之下，使增压装置108可 将液体加压使其于回流管路104内流动。于本实施例中，回流管路104设 于该槽壁IIO上的一出流口 120接近该槽体102的槽底。参照图2，监测管106是自各回流歧管114向上凸伸，且具一供监测装 置202接触该回流歧管114内的液体的开口 204。该开口 204高于槽体102 内的液面高度。监测装置202自开口 204放入监测管106，并使其处于比回 流歧管114的进水口 118高度低的位置，以确保监测装置202可始终接触 循环的液体，以进行连续量测。监测管106可根据监测需求相对应于监测 装置202设置多个。再参图1A，主回流管112上且靠近该主回流管112的进流口 116另包 含一流量调整装置124，其是用以调整回流歧管114回流的水量，以防止循 环液体短流或自监测管106的开口 204溢流出。 一实施例中，该流量调整 装置124可为一流量调节阀。图3绘示本专利技术另一实施范例的回流管路。回流管路104'包含一主回 流管112及连通于该主回流管112的至少一近似水平的回流歧管114'。相 较于图1的回流歧管114，回流歧管114'是直接流向槽体102。监测管106 连通该回流歧管114'，其是供一监测装置202接触该回流歧管114'内的回 流的液体，以对其进行动态连续的监测。回流歧管114'的管径大小与监测装置202的大小需相对应，使得监测装置202得以沉浸于回流歧管114'内 的水流中。回流歧管114'可为水平，或略为倾斜。虽然本专利技术已以具体实施例揭示，但其并非用以限定本专利技术，任何本 领域的技术人员，在不脱离本专利技术的构思和范围的前提下所作出的等同组 件的置换，或依本专利技术专利保护范围所作的等同变化与修饰，皆应仍属本 专利涵盖之范畴。权利要求1. 一种液体储槽的回流装置，是用于监测一液体储槽内所储存的所述液体，该液体于该液体储槽内形成一液面，其特征在于该回流装置包含一回流管路，设置于该储槽的一槽壁的外侧，使该液体经由该回流管路回流至于该储槽，该回流管路包含一主回流管及连通于该主回流管的至少一回流歧管；至少一监测管，连通该回流歧管，供一监测装置接触该回流歧管内的所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液体储槽的回流装置，是用于监测一液体储槽内所储存的所述液体，该液体于该液体储槽内形成一液面，其特征在于该回流装置包含： 一回流管路，设置于该储槽的一槽壁的外侧，使该液体经由该回流管路回流至于该储槽，该回流管路包含一主回流管及连通于该主回流管的至少一回流歧管； 至少一监测管，连通该回流歧管，供一监测装置接触该回流歧管内的所述液体； 一增压装置，设置于该回流管路中，驱动所述液体于该回流管路内流动。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：古进全，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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