本发明专利技术涉及一种改善的用于制备玻璃制品的方法，所述玻璃制品具有光学涂层和在所述光学涂层上的易清洁涂层，涉及一种用于实施所述方法的设备和使用所述方法制备的产品。具体来说，本发明专利技术涉及一种方法，其中可使用单一设备顺序地施涂所述光学涂层和易清洁涂层。使用本文所述的涂覆设备和衬底载体的组合，得到同时具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品，该玻璃制品具有改善的耐刮擦耐久性和光学性能，此外所得制品是“不含阴影的”。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】光学涂覆方法、设备和产品 相关申请的交叉参考 本申请是2012年11月30日提交的美国非临时专利申请号13/690829、题目为〃 光学涂覆方法、设备和产品（OpticalCoatingMethod,ApparatusandProduct) 〃的部分 继续申请，其要求2012年10月4日提交的美国临时专利申请号61/709423其题目为〃光 学涂覆方法、设备和产品（OpticalCoatingMethod,ApparatusandProduct) 〃以及 2012 年11月30提交的美国非临时专利申请号13/690, 904且题目为"用于制备具有光学和易清 洁涂层的玻璃制品的方法（ProcessforMakingofGlassArticleswithOpticaland Easy-To-CleanCoatings) 〃的优先权，本申请以这些文献为基础并将以上各文的全部内容 通过引用纳入本文。 领域 本专利技术涉及一种用于制备玻璃制品的方法，所述玻璃制品具有光学涂层和在所述 光学涂层上的易清洁（ETC)涂层，涉及一种用于实施所述方法的设备和使用所述方法制备 的制品。具体来说，本专利技术涉及一种方法，其中可使用相同的设备顺序地施涂所述光学涂层 和ETC涂层。 背景 玻璃特别是化学强化的玻璃已变成许多（如果不是多数）消费者电子产品的显 示屏的材料选择。例如，化学强化的玻璃尤其受到"触摸"屏产品的垂青，不管它们是小产 品如手机、音乐播放器、电子书阅读器和电子笔记本，还是更大的产品如计算机、自动售货 机、机场自助服务机和其他类似的电子产品。这些产品中的许多要求在玻璃上施涂减反射 ("AR"）涂层，来减少从玻璃反射的可见光，由此改善对比度和可读性，例如当在直射阳光 下使用该器件时。但是，AR涂层的一些不足是它对表面污染的敏感性、它不良的耐刮擦耐久 性，即在使用中AR涂层容易被刮掉，例如被擦拭布或用户手指上的灰尘和污垢刮掉。在AR 涂覆的表面上的指纹和污点是非常显而易见的，且总是不易于除去。结果，非常期望任何触 摸器件的玻璃表面是易清洁的，这可通过把易清洁（ETC)涂层施涂到玻璃表面来实现。施 涂到玻璃表面来实现。 用于制备同时具有减反射涂层和ETC涂层的现有方法要求使用不同的设备来施 涂该涂层，因此需要使用分开的制造工艺。基本步骤是把减反射（"AR"）涂层施涂至玻璃 制品，例如使用化学气相沉积（"CVD"）或物理气相沉积（"PVD"）方法。在常规的方法中， 把光学涂覆的制品（例如具有AR涂层的制品），从光学涂覆设备转移到另一设备，来在AR 涂层顶部施涂ETC涂层。虽然这些方法可制备同时具有AR涂层和ETC涂层的制品，它们需 要独立的工艺且因需要额外的加工而具有更高的产率损失。因为在AR涂层和ETC涂层步 骤之间的额外加工发生污染，这可导致最终产品的低劣可靠性。例如，使用常规的把ETC涂 层涂覆至光学涂层上的2-步涂覆方法得到的产品在触摸屏应用中容易被刮擦。此外，虽然 可在施涂ETC涂层之前清洁AR涂覆的表面，但这涉及在制造方法中的额外步骤。所有额外 的步骤增加产品成本。因此，需要可替代的方法和设备，通过所述方法和设备，可使用相同 的基本步骤和设备来施涂两种涂层，由此降低制造成本。本文所述的优势和所得产品将在 下面的段落和权利要求中详细描述。 概述 在一个或多个实施方式中，本专利技术提供用于在涂覆过程中固定衬底的衬底载体。 所述衬底载体可包括衬底载体基座，其包括停留表面、底面和设置在停留表面上的衬底停 留区域。衬底停留区域的区域可小于停留表面的区域。衬底载体还可包括结合到衬底载体 基座的底面的多个磁体，并设置在衬底停留区域周界以外。在一个或多个实施方式中，可将 粘合剂材料设置在衬底停留区域的停留表面上方，用于可释放地将至少一个待涂覆的衬底 固定到停留表面。粘合剂材料可包括压敏粘合剂。在一种变体中，粘合剂材料可包括丙烯 酸类粘合剂、橡胶粘合剂和/或硅酮粘合剂。任选地，可在停留表面和粘合剂材料之间设 置聚合物膜。 所述衬底载体可包括多个销钉，用于支撑设置在停留表面上的衬底。任选地，衬 底载体可包括弹簧系统，其包括由弹簧固定到位的可回缩的销钉，当衬底设置在停留表面 上时该弹簧偏移可回缩的销钉来接触衬底，以及从衬底载体基座延伸一定距离的多个侧 面停止销，从而当衬底设置在多个销钉上时多个侧面停止销的顶部在衬底的顶部表面以 下。在一种变体中，衬底载体可包括壳体并将可回缩的销钉设置在壳体之内，其中可回缩 的销钉由弹簧固定到位，当衬底设置在停留表面上时可回缩的销钉从壳体向外偏移并接 触衬底以及当把衬底设置在停留表面上时用于固定衬底边缘的多个可移动的销钉。在另一 种变体中，多个销钉的位置是可调节的，以容纳不同形状和尺寸的衬底。 还在另一种实施方式中，本专利技术提供用于涂覆衬底的涂覆设备。所述涂覆设备可 包括真空室和可旋转的穹顶，其设置在真空室内，并包括磁性材料。等离子体源可设置在真 空室之内，并基本上垂直取向，以把等离子体引导到可旋转的穹顶的底面上，其中等离子 体源设置在可旋转的穹顶以下并从可旋转的穹顶的旋转轴线径向地向外，从而发射自等离 子体源的等离子体从至少可旋转的穹顶的外边缘到至少可旋转的穹顶的中央入射到可旋 转的穹顶的底面上。在一个或多个实施方式中，可旋转的穹顶旋转轴线和等离子体源之间 的距离大于可旋转的穹顶的投影的（projected)周界和等离子体源之间的距离。涂覆设备 可包括至少一个设置在真空室内的热蒸发源。 涂覆设备可任选地包括至少一个电子束源，其设置在真空室内取向以把电子束引 导到设置在真空室内的涂层源材料上。涂覆设备可包括在真空室内的第二电子束源。第二 电子束源可取向，以把第二电子束引导到设置在真空室内的涂层源材料上。 在另一种选择中，涂覆设备可包括至少一个可调节的设置在真空室之内的阴影 掩模。可将阴影掩模在其中至少一个阴影掩模位于至少一个电子束源和可旋转的穹顶之间 的延伸位置以及其中至少一个阴影掩模不位于至少一个电子束源和可旋转的穹顶之间的 回缩位置之间调节。在一个或多个实施方式中，可包括第二阴影掩模。在这种实施方式中， 第二阴影掩模可位于第二电子束源和可旋转的穹顶之间。 所述涂覆设备可包括可旋转的穹顶，其包括可旋转的穹顶顶部中央的开口，覆盖 可旋转的穹顶的开口的透明的玻璃板，和监视器，该监视器位于透明的玻璃板的开口中用 于监测真空室中沉积的涂层材料的沉积速率。可在所述透明玻璃板以上设置光纤，其中当 涂覆所述透明玻璃板时，所述光纤收集从所述透明玻璃板反射的光来测定所述透明玻璃板 的反射率变化，并由此测定施涂至所述透明玻璃板的涂层厚度。 还在另一种实施方式中，本专利技术提供用于涂覆衬底的涂覆设备。所述涂覆设备可 包括真空室和设置在真空室内的可旋转的穹顶。可旋转的穹顶可由磁性材料建造。所述设 备还可包括至少一个衬底载体，用于连接到可旋转的穹顶。所述至少一个衬底载体可包括 衬底载体基座，其包括停留表面、底面和设置在停留表面上的衬底停留区域。可把多个磁体 结合到衬底载体基座的底面，并设置在衬底停留区域周界以外。粘合剂材料可设置在衬底 停留区域的停留表面上方，用于可释放地固定至少一个待涂覆的衬底。所述涂覆设备可包本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于在涂覆过程中固定衬底的衬底载体，所述衬底载体包括：衬底载体基座，其包括停留表面、底面和设置在停留表面上的衬底停留区域，该衬底停留区域的面积小于停留表面的面积；和多个磁体，其结合到所述衬底载体基座的底面并设置在所述衬底停留区域周界以外。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：C·M·李，卢小锋，M·X·欧阳，张军红，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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