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单个纳米颗粒粒径的测量系统及测量方法技术方案

技术编号:12440491 阅读:176 留言:0更新日期:2015-12-04 02:49
本发明专利技术涉及一种单个纳米颗粒粒径的测量系统,包括一光源模组,一载物台,一物镜,一第三凸透镜,一CCD及其控制器,一数据线以及一显示及处理单元依次,所述载物台具有一载物平面,其中,所述光源模组包括一光源,一第一光阑,一第一凸透镜,一第二光阑,及一第二凸透镜,所述光源发出的照明光依次经过第一光阑,第一凸透镜,第二光阑,第二凸透镜后相对于载物台的载物平面斜入射,所述光源模组发出的单色光照射到载物台上并产生散射光,散射光经过物镜,第三凸透镜,最终在CCD及其控制器上成像,并通过数据线传输给显示及处理单元。本发明专利技术进一步涉及一种利用上述单个纳米颗粒粒径的测量系统测量单个纳米颗粒粒径的测量方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及光学测量领域,特别是利用暗场散射强度测量纳米颗粒,用于单个纳 米颗粒粒径快速测量的测量系统及测量方法。
技术介绍
由于金属纳米颗粒具有纳米量级的粒径,使其具有很多特殊效应,如小尺寸效应、 表面效应、量子效应、W及宏观量子隧道效应等,从而使其光、电、声、热和其它物理特性表 现出与传统块体材料截然不同的特殊性质。而金属纳米颗粒的很多特性均与其粒径大小有 密切关系,因此对金属纳米颗粒粒径的测量和表征有重要的科学研究和实用意义。 目前用于金属纳米颗粒粒径测量的主要方法是显微成像法和散射度量法。其中, 显微成像法是应用某种显微成像技术对纳米颗粒直接成像,进而在其显微图像上直接测量 颗粒尺寸的方法。显微成像法可W对单个金属纳米颗粒的粒径进行精确测量,但需要复杂 昂贵的仪器设备,且具有测量速度慢、效率低等缺点;有散射度量法又主要有分为动态光散 射法、小角度X射线散射法、散射光谱法等。散射度量法可W快速测得大样品量纳米颗粒的 尺寸及其分布,但无法对单个颗粒进行测量。 在实际应用中,人们希望实现对单个纳米颗粒进行快速测量,但目前的方法还不 能很好地满足运种需求。【专利技术内本文档来自技高网...
<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/52/CN105115866.html" title="单个纳米颗粒粒径的测量系统及测量方法原文来自X技术">单个纳米颗粒粒径的测量系统及测量方法</a>

【技术保护点】
一种单个纳米颗粒粒径的测量系统,包括一光源模组,一载物台,一物镜,一第三凸透镜,一CCD及其控制器,一数据线以及一显示及处理单元依次,所述载物台具有一载物平面,其特征在于,所述光源模组包括一光源,一第一光阑,一第一凸透镜,一第二光阑,及一第二凸透镜,所述光源发出的照明光依次经过第一光阑,第一凸透镜,第二光阑,第二凸透镜后相对于载物台的载物平面斜入射,所述光源模组发出的单色光照射到载物台上并产生散射光,散射光经过物镜,第三凸透镜,最终在CCD及其控制器上成像,并通过数据线传输给显示及处理单元。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:白本锋肖晓飞
申请(专利权)人:清华大学
类型:发明
国别省市:北京;11

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