对一种或多种材料进行测量的系统及方法技术方案

提供了对一种或多种材料进行测量的系统及方法。一种系统被配置为将一种或多种材料从一个或多个贮存容器转移至测量装置的成像空间。另一系统被配置为在测量装置的成像空间中对一种或多种材料成像。一种附加的系统被配置为在测量装置的成像空间中使一种或多种材料大致上固定不动。又一系统被配置为将一种或多种材料从一个或多个贮存容器转移至测量装置的成像空间、在所述成像空间中对所述一种或多种材料成像、在所述成像空间中使所述一种或多种材料或它们的某种组合大致上固定不动。

【技术实现步骤摘要】
对一种或多种材料进行测量的系统及方法本专利技术申请为申请日2011年5月17日的专利技术名称为“对一种或多种材料进行测量的系统及方法”的第201110130889.1号专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术广义上涉及对一种或多种材料进行测量的系统及方法。特别地，本专利技术所涉及的系统及方法被配置为：将一种或多种材料从一个或多个贮存容器转移至测量装置的成像空间(imagingvolume)、对该成像空间中的一种或多种材料成像、使该成像空间中的一种或多种材料或其一些组合大致上固定不动。
技术介绍
下列说明和示例并不由于包含在本部分之中而被承认为是现有技术。在流动血细胞计数中通常使用的仪器提供了用于测量(或“查询”)被内部染色的微球体(或者其它粒子)的一个或多个特征的可行系统，该微球体与荧光染料、荧光团或荧光标签耦合。与微球体耦合的荧光染料、荧光团或荧光标签可指示在微球体表面发生的生物学反应，和/或与上述反应近似地成比例。在授予Chandler等人的美国专利号5981180中描述了这种仪器的示例，通过引用将该专利的整体内容合并于此，仿佛在此被充分阐述一样。由德克萨斯州奥斯汀市的Luminex公司发售的Luminex100行列仪实质上就是能够实现相当高的灵敏性和专一性的流动血细胞计数器。流动血细胞计数器通常包括多个相对尖端且昂贵的器件，比如半导体激光器、精密注射泵、光电倍增管(PMT)和雪崩光电二极管等。尽管这样的系统的性能基本上很高，但这些仪器的价钱对某些市场来说却过于昂贵。另外，流动血细胞计数器的实体既大且重又相对易损，并且通常情况下受过培训的技术人员必须在安装地点现场进行流动血细胞计数器的校准。流动血细胞计数器还利用容量相对较大容量的鞘流体来通过流体动力使粒子流会聚成为相对较窄的芯流。在生物工艺学应用中所使用的多种当前市售的仪器当中采用了使用检测器(比如电荷耦合装置(CCD)检测器)的成像。市售系统中的许多系统被配置为对成像目标人物(或其它动物)的细胞成像。不利用这样的系统来使用不同光波长生成图像以确定这些细胞的身份或这些细胞所属的亚群(subset)。对使用CCD检测器来测量细胞的荧光发射情况的多元应用而言，细胞或其它粒子的子集或类别基于该图像内荧光发射的绝对位置，而不是荧光发射的特征，比如波长构成等。因此，希望开发如下所述的对一种或多种材料进行测量的系统及方法：不像目前所使用的系统那样昂贵；其光学构造与目前所使用的系统相比没那么复杂且在机械上更稳定，从而使系统的运输和安装更为容易；小于目前所使用的系统；比目前所使用的系统更灵敏；与目前所使用的系统相比，其获取时间更短而处理能力更高；与目前所使用的系统相比，比如鞘流体等的消耗更少；允许对要对其进行测量的一种或多种材料或其组合进行最后的清洁。
技术实现思路
根据本专利技术的系统和方法在很大程度上解决了上述问题。该系统被配置为对粒子进行成像和分析以测量该粒子的特征。该系统被配置为：将粒子转移至成像室、使粒子在成像表面上固定不动并对粒子成像。该系统包括流体控制子系统，该子系统用于往装置中装载样品和从装置中移除样品以及用于清洁该装置或样品。光学子系统包括照射结构(比如多个LED(发光二极管))和采集结构(比如一个或多个成像传感器)。最后，固定子系统被用来在测量期间托住样品。在一种优选形式中，该固定子系统包括磁体，而该样品包括磁珠，其中在成像期间可选择性地操作该磁体来使这些磁珠固定不动。在另一形式中，对成像期间采集结构和照射结构相对于样品的位置进行优化。根据本申请的一个方面，提供了一种用于分析流体样品的系统，包括：流体流通室；磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像，其中所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域的附近时，防止所述磁体与所述流体流通室接触。根据本申请的另一个方面，提供了一种用于分析流体样品的系统，包括：流体流通室；磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像，其中用于指定所述样品探针的目标垂直位置的程序指令包括用于如下的程序指令：用于基于是否监测到所述电容上的变化等于或大于预定阈值，或者是否监测到所述马达没有移动所述预设步进数，来选择性地指定与所述参考位置相距不同距离的所述目标垂直位置。根据本申请的又一个方面，提供了一种用于分析流体样品的系统，包括：流体流通室；磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像，其中，用于在统计学上对所记录的第一位置和第二位置进行分析的程序指令包括用于分析与所记录的第一位置和第二位置有关的参考位置的频数分布的程序指令。附图说明本专利技术的其它目的和优点通过阅读以下详细说明和参照附图将变得显而易见，在所述附图中：图1是成像系统的流体控制子系统的示意图；图2a图示处于伸出位置的贮存容器平台的透视图，该贮存容器平台具有容纳于其中的样品贮存容器，孔板保持装置与该样品贮存容器间隔开；图2b图示图2a中描绘的贮存容器平台处于收回位置的透视图，该贮存容器平台具有容纳于其中并由上述孔板保持装置稳固的样品贮存容器；图2c图示在图2a和图2b中示出的贮存容器平台和孔板保持装置的底面图；图2d至图2f图示用于孔板保持装置的弹簧推杆的不同配置；图3图示用于对样品探针相对于放置在贮存容器平台上的贮存容器的储存孔的位置进行校准的方法的流程图；图4图示成像系统的流体流通室的横截面图；图5图示图4中所绘的流体流通室，其具有在该室的入口和出口之间移动的气泡；图6图示成像系统的固定子系统的横截面图；图7是用于对图6中绘出的固定子系统的机构在流体流通室的附近将磁体移动至的位置进行校准的方法的流程图；图8是成像系统的光学子系统的示意图；图9是由具有六边形的光源布置的光学子系统生成的收集和照射角度空间的示意图；图10是用于对相对于成像透镜的温度对光敏检测子系统的焦点位置进行调节的方法的流程图；图11是用于确定照射子系统的一个或多个光源的工作电流的方法的流程图；图12是用于对光敏检测器的积分时间(integrationtime)进行调节的方法的流程图；图13图示用于成像系统的滤光轮组件的示例性配置；图14是用于对图13中绘出的滤光轮组件的转动轮的静止位置(homeposition)进行校准的流程图。尽管本专利技术允许多种修改和替换形式，但在附图中作为示例示出且在本文中将要详细描述其特定实施方式。应理解，有关附图和详细描述并非意在将本专利技术限制于所公开的特定形式，而是相反地，其意图在于覆盖落在如所附权利要求所限定的本专利技术的精神和范围内的所有改型、等型和替型。具体实施方式尽管在本文中一些实施方式是关于粒子、珠粒和微球体描述的，但应理解，本文中描述的所有系统及方法都可支持粒子、微球体、聚苯乙烯珠、微粒子、黄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于分析流体样品的系统，包括：流体流通室；磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像，其中所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域的附近时，防止所述磁体与所述流体流通室接触。

【技术特征摘要】
2010.05.17 US 12/781,5501.一种用于分析流体样品的系统，包括：流体流通室；磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构包括磁场强度传感器，以及其中所述系统包括能够由处理器执行来控制所述机构停止所述磁体相对于参考电压的移动的程序指令，所述参考电压与所述流体流通室的所述成像区域附近的位置有关，其中用于控制所述机构的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：驱动所述机构的马达来向所述流体流通室的所述成像区域移动所述磁体；在移动所述磁体的同时监测所述磁场强度传感器的输出电压；以及在监测到所述参考电压时关停所述马达。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述流体流通室的所述成像区域的内后部包括粗糙表面。3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述粗糙表面包括介于0.6微米均方根到0.8微米均方根之间的表面粗糙度。4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述流体流通室包括输入通道和输出通道，用于分别接收到所述流体流通室的流体样品和发送来自所述流体流通室的流体样品，且其中所述输入通道和所述输出通道的宽度相对于所述流体流通室的所述成像区域的宽度逐渐变窄。5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述流体流通室的对应于所述流体流通室的所述成像区域的后部覆有覆层，所述覆层被配置为提供针对所述照射子系统发出的光的波长的可忽略的反射与透射比。6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域附近时，将所述磁体定位得使所述磁体的偏振轴位于相对于所述成像区域的中心点的下游。7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域的附近时，将所述磁体定位得使所述磁体的前沿位于相对于所述成像区域的前沿的下游。8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述系统还包括能够由所述处理器执行来校准所述磁体的位置的程序指令，所述位置是使用所述机构在所述流体流通室的所述成像区域附近将所述磁体选择性地移动到的位置，其中用于校准所述磁体的位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：驱动马达来向所述流体流通室的所述成像区域移动所述磁体；在向所述成像区域移动所述磁体的同时测量所述磁场强度传感器的输出电压；在缓冲区中存储测量到的输出电压；在检测出所述磁场强度传感器的输出电压上的变化很小时关停所述马达；以及将所存储的测量到的输出电压之一指定为在所述流体流通室的所述成像区域附近选择性地移动所述磁体时所述机构要达到的参考电压。9.根据权利要求1所述的系统，还包括：贮存容器平台，被配置为容纳和稳固包含样品的贮存容器；以及用于在所述系统内伸出和收回所述贮存容器平台的机构，其中所述贮存容器平台包括：支承底座，其具有用于容纳贮存容器的部分有边框的区域；定位部件，其从所述支承底座延伸，并界定所述部分有边框的区域，其中所述定位部件在所述部分有边框的区域内的表面具有粗糙表面；以及弹簧推杆，被集成在所述支承底座当中，并被配置为：当所述贮存容器平台被收回到所述系统当中时，对所述部分有边框的区域内容纳的所述贮存容器的第一侧壁施加力，其中所述力足以针对所述定位部件的具有粗糙表面的表面稳固该贮存容器的第二相对的侧壁；以及当所述贮存容器平台正被伸出所述系统外时释放所施加的力。10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述弹簧推杆具有用于与所述贮存容器的第一侧壁接触的粗糙表面。11.根据权利要求9所述的系统，其中，所述弹簧推杆包括用于对所述贮存容器的第一侧壁施加向下的力的斜面。12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述弹簧推杆被配置为对所述贮存容器的角点施加向下的力。13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述角点是所述贮存容器的底缘上的角点。14.根据权利要求12所述的系统，其中，所述角点是所述贮存容器的顶部上的角点。15.根据权利要求1所述的系统，还包括：贮存容器平台；样品探针；以及程序指令，能够由处理器执行来校准所述样品探针相对于被置于所述贮存容器平台中的贮存容器的孔的位置，其中用于校准所述样品探针的位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：控制马达移动预设步进数，以向所述孔驱动所述样品探针；在所述样品探针移动期间或之后监测所述样品探针与所述贮存容器平台之间的电容；监测与所述马达被控制移动的所述预设步进数相对的所述马达驱动所述样品探针移动的步进数；在监测到所述电容上的变化等于或大于预定阈值时，或者在监测到所述马达没有移动所述预设步进数时，把所述样品探针的当前位置记录为参考位置；基于所述参考位置指定所述样品探针用于从所述贮存容器的孔中取出所述流体样品的目标垂直位置；以及重复以上控制所述马达移动的步骤、监测电容的步骤和监测所述马达移动的步进数的步骤，直至指定所述目标垂直位置或者直至控制所述马达移动的步骤、监测电容的步骤和监测所述马达移动的步进数的步骤被重复进行预定迭代次数为止。16.根据权利要求15所述的系统，其中，用于指定所述样品探针的所述目标垂直位置的所述程序指令包括用于把与离所述孔的底表面更远的与所述参考位置相距预设距离处的位置指定为所述目标垂直位置的程序指令。17.根据权利要求15所述的系统，其中，用于校准所述样品探针的位置的所述程序指令还包括具有以下作用的程序指令：在监测到所述马达没有移动所述预设步进数时，移除施加给所述马达的驱动电流；以及在移除所述驱动电流之后、记录所述参考位置之前暂停预设时长。18.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光敏检测子系统包括：光敏检测器；成像透镜,被固定地附接到所述流体流通室固定地附接到的外壳；以及温度传感器，被布置在所述成像透镜的镜筒上；其中，所述系统还包括程序指令，所述程序指令能够由处理器执行来相对于所述成像透镜的温度调节所述光敏检测子系统的焦点位置，其中用于调节所述光敏检测子系统的焦点位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：在所述样品被注入所述流体流通室内之前，记录所述光敏检测器相对于所述成像透镜的第一位置以及所述成像透镜的第一温度；在所述样品被注入所述流体流通室的同时，测量所述成像透镜的第二温度；基于所记录的第一位置、所记录的第一温度和所测量到的第二温度计算所述光敏检测器的第二位置；以及在所述光敏检测子系统对所述流体流通室的所述成像区域成像之前，将所述光敏检测器的所述第一位置调整为所计算出的第二位置。19.根据权利要求18所述的系统，其中，用于计算所述光敏检测器的所述第二位置的所述程序指令使用如下等式：F(2nd)＝F(1st)+[T(2nd)–T(1st)]×C其中：F(2nd)是所述光敏检测器的所述所计算出的第二位置；F(1st)是所述光敏检测器的所述所记录的第一位置；T(2nd)是所述成像透镜的所述所测量的第二温度；T(1st)是所述成像透镜的所述所记录的第一温度；以及C是针对所述系统预定的常数修正系数。20.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光敏检测子系统包括：成像透镜；光敏检测器；以及滤光轮组件，被置于所述成像透镜与所述光敏检测器之间，其中所述滤光轮组件包括：转动轮，被固定到轮架；具有不同的光谱特性的多个滤光器，它们对准所述转动轮的圆周；滤光轮磁体，被布置在所述转动轮上；以及磁场强度传感器，被布置在所述轮架上；其中，所述系统还包括程序指令，所述程序指令能够由处理器执行来校准所述转动轮的静止位置，其中用于校准所述转动轮的静止位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：转动所述转动轮；在转动所述转动轮的同时通过所述磁场强度传感器监测所述滤光轮磁体的磁场强度；在监测到磁场强度越过并高于预定阈值时，记录所述转动轮的第一位置；在监测到磁场强度越过并低于所述预定阈值时，记录所述转动轮的第二位置；在所述转动轮移动的同时重复以上记录所述转动轮的第一位置和第二位置的步骤；以及在统计学上对所记录的第一位置和第二位置进行分析，以指定所述转动轮的静止位置。21.根据权利要求20所述的系统，其中，用于在统计学上对所记录的第一位置和第二位置进行分析的程序指令包括具有以下作用的程序指令：针对每组相继记录的第一位置和第二位置计算所述转动轮的中点位置；以及基于所计算出的中点位置的统计学度量来指定所述转动轮的静止位置。22.根据权利要求20所述的系统，其中，用于在统计学上对所记录的第一位置和第二位置进行分析的程序指令包括具有以下作用的程序指令：基于所记录的第一位置的统计学度量来确定所述转动轮的第一参考位置；基于所记录的第二位置的第二统计学度量来确定所述转动轮的第二参考位置；以及计算所述第一参考位置和所述第二参考位置之间的中点位置；以及把所计算出的中点位置指定为所述转动轮的静止位置。23.根据权利要求20所述的系统，其中，用于在统计学上对所记录的第一位置和第二位置进行分析的程序指令包括用于分析与所记录的第一位置和第二位置有关的参考位置的频数分布的程序指令。24.根据权利要求1所述的系统，还包括程序指令，所述程序指令能够由处理器执行来确定用于所述照射子系统的一个或更多个光源的工作电流，其中用于确定所述工作电流的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：施加电流给所述一个或更多个光源，以照射所述流体流通室的所述成像区域；在使用所施加的电流照射所述成像区域的同时，对所述成像区域中的一组固定不动的粒子成像；在成像步骤期间计算所收集的光的在统计学上的代表性度量；针对一个或更多个不同电流重复以上施加电流、对所述成像区域中的所述一组固定不动的粒子成像和计算光的在统计学上的代表性度量的步骤；绘制所施加的电流相对于所计算出的在统计学上的代表性度量的关系；通过所述关系来确定对应于目标的在统计学上的代表性度量的工作电流；施加所确定的工作电流给所述照射子系统的所述一个或更多个光源。25.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光敏检测子系统包括光敏检测器，以及其中所述系统包括：温度传感器；以及程序指令，所述程序指令能够由处理器执行来调节所述光敏检测器的积分时间，其中用于调节所述光敏检测器的积分时间的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：在样品正在被注入所述流体流通室的同时记录所述系统的基础温度；在所述样品正在所述流体流通室中被处理和分析的同时监测所述系统的温度；以及在监测到温度变化大于预设阈值时调节所述光敏检测器的积分时间。26.根据权利要求25所述的系统，其中，用于调节所述光敏检测器的所述积分时间的所述程序指令包括以与所监测到的温度变化成比例的量来调节所述光敏检测器的所述积分时间的程序指令。27.一种用于分析流体样品的系统，包括：流体流通室；磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像，其中，所述光敏检测子系统包括：光敏检测器；成像透镜,被固定地附接到所述流体流通室固定地附接到的外壳；以及温度传感器，被布置在所述成像透镜的镜筒上；其中，所述系统还包括程序指令，所述程序指令能够由处理器执行来相对于所述成像透镜的温度调节所述光敏检测子系统的焦点位置，其中用于调节所述光敏检测子系统的焦点位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：在所述样品被注入所述流体流通室内之前，记录所述光敏检测器相对于所述成像透镜的第一位置以及所述成像透镜的第一温度；在所述样品被注入所述流体流通室的同时，测量所述成像透镜的第二温度；基于所记录的第一位置、所记录的第一温度和所测量到的第二温度计算所述光敏检测器的第二位置；以及在所述光敏检测子系统对所述流体流通室的所述成像区域成像之前，将所述光敏检测器的所述第一位置调整为所计算出的第二位置，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构包括磁场强度传感器，以及其中所述系统包括能够由处理器执行来控制所述机构停止所述磁体相对于参考电压的移动的程序指令，所述参考电压与所述流体流通室的所述成像区域附近的位置有关，其中用于控制所述机构的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：驱动所述机构的马达来向所述流体流通室的所述成像区域移动所述磁体；在移动所述磁体的同时监测所述磁场强度传感器的输出电压；以及在监测到所述参考电压时关停所述马达。28.根据权利要求27所述的系统，其中，所述流体流通室的所述成像区域的内后部包括粗糙表面。29.根据权利要求28所述的系统，其中，所述粗糙表面包括介于0.6微米均方根到0.8微米均方根之间的表面粗糙度。30.根据权利要求27所述的系统，其中，所述流体流通室包括输入通道和输出通道，用于分别接收到所述流体流通室的流体样品和发送来自所述流体流通室的流体样品，且其中所述输入通道和所述输出通道的宽度相对于所述流体流通室的所述成像区域的宽度逐渐变窄。31.根据权利要求27所述的系统，其中，所述流体流通室的对应于所述流体流通室的所述成像区域的后部覆有覆层，所述覆层被配置为提供针对所述照射子系统发出的光的波长的可忽略的反射与透射比。32.根据权利要求27所述的系统，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域附近时，将所述磁体定位得使所述磁体的偏振轴位于相对于所述成像区域的中心点的下游。33.根据权利要求27所述的系统，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域的附近时，将所述磁体定位得使所述磁体的前沿位于相对于所述成像区域的前沿的下游。34.根据权利要求27所述的系统，其中，所述系统还包括能够由所述处理器执行来校准所述磁体的位置的程序指令，所述位置是使用所述机构在所述流体流通室的所述成像区域附近将所述磁体选择性地移动到的位置，其中用于校准所述磁体的位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：驱动马达来向所述流体流通室的所述成像区域移动所述磁体；在向所述成像区域移动所述磁体的同时测量所述磁场强度传感器的输出电压；在缓冲区中存储测量到的输出电压；在检测出所述磁场强度传感器的输出电压上的变化很小时关停所述马达；以及将所存储的测量到的输出电压之一指定为在所述流体流通室的所述成像区域附近选择性地移动所述磁体时所述机构要达到的参考电压。35.根据权利要求27所述的系统，其中，用于控制所述机构的所述程序指令还包括具有以下作用的程序指令：驱动所述机构的马达预定步进数来向所述流体流通室的所述成像区域移动所述磁体；在所述马达已被移动所述预定步进数之后测量所述磁场强度传感器的输出电压；在检测到测量到的输出电压与所述参考电压之间的差小于预定阈值时关停所述马达；以及在检测到测量到的输出电压与所述参考电压之间的差大于预定阈值时执行校正动作。36.根据权利要求27所述的系统，还包括：贮存容器平台，被配置为容纳和稳固包含样品的贮存容器；以及用于在所述系统内伸出和收回所述贮存容器平台的机构，其中所述贮存容器平台包括：支承底座，其具有用于容纳贮存容器的部分有边框的区域；定位部件，其从所述支承底座延伸，并界定所述部分有边框的区域，其中所述定位部件在所述部分有边框的区域内的表面具有粗糙表面；以及弹簧推杆，被集成在所述支承底座当中，并被配置为：当所述贮存容器平台被收回到所述系统当中时，对所述部分有边框的区域内容纳的所述贮存容器的第一侧壁施加力，其中所述力足以针对所述定位部件的具有粗糙表面的表面稳固该贮存容器的第二相对的侧壁；以及当所述贮存容器平台正被伸出所述系统外时释放所施加的力。37.根据权利要求36所述的系统，其中，所述弹簧推杆具有用于与所述贮存容器的第一侧壁接触的粗糙表面。38.根据权利要求36所述的系统，其中，所述弹簧推杆包括用于对所述贮存容器的第一侧壁施加向下的力的斜面。39.根据权利要求38所述的系统，其中，所述弹簧推杆被配置为对所述贮存容器的角点施加向下的力。40.根据权利要求39所述的系统，其中，所述角点是所述贮存容器的底缘上的角点。41.根据权利要求39所述的系统，其中，所述角点是所述贮存容器的顶部上的角点。42.根据权利要求27所述的系统，还包括：贮存容器平台；样品探针；以及程序指令，能够由处理器执行来校准所述样品探针相对于被置于所述贮存容器平台中的贮存容器的孔的位置，其中用于校准所述样品探针的位置的所述程序指令包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：韦恩·D·罗特，爱德华·A·卡尔维，查尔斯·J·柯林斯，威廉·R·戴歇尔，亚尔登·E·克拉格，亚当·R·席尔法特，罗斯·G·约翰逊，科林·D·博察尔特，维克托·塞尔瓦拉杰，埃里克·D·史密斯，尼古拉斯·F·阿拉巴，布鲁斯·J·C·伯纳德，唐纳德·A·康纳，罗贝特·S·罗奇，大卫·L·史密斯，
申请(专利权)人：卢米耐克斯公司，
类型：发明
国别省市：美国;US