本发明专利技术涉及一种由单桢干涉条纹图测量光学表面的方法和装置，属于光电技术检测领域。本发明专利技术的特征在于将光学表面面形的泽尼克多项式系数作为未知参数，同时将干涉装置的特征信息如光强分布、对比度等参数化，并根据干涉原理建立干涉条纹图数学模型。然后通过数学优化计算所有的未知参数，使计算得到的干涉条纹图与实际干涉条纹图最为接近时的参数即为干涉装置系统参数，特别是计算出的泽尼克多项式系数即为光学表面面形分布。本发明专利技术不需要配置现有移相干涉仪必须的移相机构，大大节省了装置成本。同时，相对于其它单桢条纹面形检测算法，不需要密集的条纹，避免了被测光和参考光由于非共光路导致的测量误差。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于先进光学制造与检测领域，涉及一种光学检测装置，用于光学表面面 形测量。尤其涉及一种单桢干涉条纹图测量光学表面的方法与装置。
技术介绍
光学干涉测量技术以光波干涉原理为基础，是公认的检验光学元件的最有效、最 准确的手段之一，在光学加工测量方面发挥了重要的作用。其具有非接触检验的特点，可以 高速、非接触地获取被测信息，并在灵敏度、精度上都优于其它类型的光学测量仪器。目前，可以将干涉仪分为移相干涉仪和单桢条纹干涉仪两类。移相干涉仪通常采 用波长调谐或PZT驱动参考镜完成移相。该类干涉仪虽然精度高，由于增加移相机构，设备 成本高。单桢条纹干涉仪目前主要采用的是傅立叶变换，空间载频或提取骨干法。傅立叶 变换和空间载频由于需要高密度的条纹，因此需要增大参考面倾斜量，导致测量结果中将 含有非共光路回程误差导致的相差。此外，这两种方法由于频率混合的原因，无法测量大误 差表面。对于提取骨干法，由于有效像素点不多，因此恢复相位的误差较大。 常用泽尼克多项式系数描述光学表面面形质量。泽尼克多项式是一系列正交的基 底函数，任意的光学面形都可以通过正交分解为系列多项式的叠加。同时，也可以由已知的 泽尼克多项式系数（通常多采用前36项）叠加生成任意的光学表面的面形分布图。 本专利技术通过将光学表面面形、干涉装置参数化计算模拟的干涉条纹。通过数学计 算，当模拟条纹与实际条纹最为吻合时得到的参数即代表了当前干涉系统的特征参数。特 别是其中的多项式系数即代表了光学表面的面形，由此即可生成光学表面面形分布。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种单桢干涉条纹图测量光学表面的方法和装置。本装置 基于菲索干涉测量光路，无需移相装置，通过单桢条纹图分析光学表面面形，简化了硬件结 构，降低了成本。 本专利技术采用的技术方案为：一种单桢干涉条纹图测量光学表面的装置，包括激光 器、扩束系统、第一分光棱镜、参考镜、被测镜、第二分光棱镜、第一成像透镜、第二成像透 镜、第一相机和第二相机；激光器发出细光束，经过扩束系统后变成平行光束，平行光束通 过第一分光棱镜后通过参考镜的一部分光在参考镜的反射面被反射回第一分光棱镜，另一 部分光在被测镜反射回第一分光棱镜，这两部分光被第一分光棱镜反射到第二分光棱镜， 一部分光通过第二分光棱镜后通过第一成像镜头在第一相机上形成干涉条纹，另一部分被 第二分光棱镜反射到第二成像镜头在第二相机上形成点像。 其中，通过第二相机得到的两个点像的相对位置用于确定光学表面返回波前与参 考光波前相位差的泽尼克多项式系数第二，三项的取值范围。 其中，将干涉装置和光学表面特征参数化，建立干涉条纹数学模型： 共计的特征参数共计42个，包括： 被测表面泽尼克多项式系数=Z1-Z36; 第一相机接收到的条纹强度参数山和I。； 干涉条纹对比度：V ; 激光光源不均匀性分布参数：r。，0。，1 其中，通过第一相机得到的干涉条纹和与所述的干涉条纹数学模型，建立目标函 数： 通过数学优化计算光学表面和干涉装置的最佳参数信息，使得目标函数最小，最 后通过泽尼克多项式系数产生光学表面面形分布。 本专利技术与现有技术相比的优点在于： (1)、与现有的移相干涉测量技术相比，无需移相机构，降低了装置成本。 (2)、与傅里叶变换以及载频测量技术相比，虽然都是单帧测量，但由于本技术无 需高密度条纹，可以减少非共光路测量引入的测量误差。【附图说明】 图1为本专利技术一种单桢干涉条纹图测量光学表面的装置构成示意图； 图2为第二相机11获取的图像； 图3为第一相机10获取的干涉图； 图4为拟和参数后得到的仿真条纹； 图5为由多项式系数产生的光学表面面形。 图中，1为激光器，2为扩束系统，3为第一分光棱镜，4为参考镜，6为被测镜，7为 第二分光棱镜，8为第一成像透镜，9为第二成像透镜，10为第一相机，11为第二相机。【具体实施方式】 下面结合附图及【具体实施方式】详细介绍本专利技术。 如图1所示，搭建单桢干涉条纹图测量光学表面的装置，包括激光器1、扩束系统 2、第一分光棱镜3、参考镜4、被测镜6、第二分光棱镜7、第一成像透镜8、第二成像透镜9、 第一相机10和第二相机11。 激光器1发出细光束，经过扩束系统2后变成平行光束，平行光束通过第一分光棱 镜3后通过参考镜4的一部分光在参考镜4的反射面5被反射回第一分光棱镜3,另一部分 光在被测镜6反射回第一分光棱镜3。这两部分光被第一分光棱镜3反射到第二分光棱镜 7。一部分光通过第二分光棱镜7后通过第一成像镜头8在第一相机10上形成干涉条纹， 另一部分被第二分光棱镜7反射到第二成像镜头9在第二相机11上形成点像。 将激光光源强度，条纹光强分布，条纹对比度，光学表面泽尼克多项式系数作为未 知参数建立干涉条纹图数学模型。定义与第一相机10获取的干涉条纹图和通过数学模型 得到的干涉条纹图（如图3)相关的评价函I通过数学优 化方法，计算未知参数，使F最小时得到的Z1-Z36即光学表面特征系数。此时，仿真条纹图 (如图3)与实际干涉条纹图（如图4)应最为接近。最后通过泽尼克多项式系数产生光学 表面面形分布（如图5)。 本专利技术装置的测量过程和检测步骤如下： 第一步：如图1所示，调整各光学元件等高共轴，然后调节扩束系统中的空间滤波 器（光阑）的针孔大小使光斑当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种单桢干涉条纹图测量光学表面的装置，其特征在于：包括激光器(1)、扩束系统(2)、第一分光棱镜(3)、参考镜(4)、被测镜(6)、第二分光棱镜(7)、第一成像透镜(8)、第二成像透镜(9)、第一相机(10)和第二相机(11)；激光器(1)发出细光束，经过扩束系统(2)后变成平行光束，平行光束通过第一分光棱镜(3)后通过参考镜(4)的一部分光在参考镜(4)的反射面(5)被反射回第一分光棱镜(3)，另一部分光在被测镜(6)反射回第一分光棱镜(3)，这两部分光被第一分光棱镜(3)反射到第二分光棱镜(7)，一部分光通过第二分光棱镜(7)后通过第一成像镜头(8)在第一相机(10)上形成干涉条纹，另一部分被第二分光棱镜(7)反射到第二成像镜头(9)在第二相机(11)上形成点像。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴高峰，吴永前，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。