光学装置、投影光学系统、曝光装置及物品的制造方法制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及使镜的反射面变形的光学装置、包括光学装置的投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。
技术介绍
为了提高用于制造半导体设备的曝光装置的分辨率，需要校正曝光装置中包括的投影光学系统的光学像差。日本特开2004-64076号公报提出了如下光学装置:通过多个致动器对投影光学系统中包括的镜施加力以使镜的反射面变形，来校正投影光学系统的光学像差。在曝光装置中，如果将布置有曝光装置的地板的振动和曝光装置的内部产生的振动等作为干扰发送到镜，则镜可能由于振动而变形。日本特开2004-64076号公报中公开的光学装置基于传感器测量的镜形状与目标形状之间的偏差来控制各致动器，由此校正由振动引起的不期望的镜的变形。然而，利用这种控制，基于由于发送到镜的振动而变形的镜的形状的测量结果来控制各致动器，这使得随着振动的频率增加，难以使各致动器的控制跟随振动。换言之，由具有高频分量的振动引起的不期望的镜的变形可能未被充分校正。
技术实现思路
本专利技术提供一种在例如校正由振动引起的不期望的镜的变形方面有利的光学装置。根据本专利技术的一个方面，提供了一种使镜的反射面变形的...
【技术保护点】
一种使镜的反射面变形的光学装置，所述光学装置包括：底板；多个致动器，其被布置在所述底板与所述镜之间，并且被构造为对所述镜施加力；检测单元，其被构造为检测所述底板中产生的振动；以及控制单元，其被构造为基于所述检测单元进行的检测的结果来控制各致动器，使得作为所述底板中产生的振动的结果而引起的所述镜的变形在可接受的范围之内。
【技术特征摘要】
...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。