光学断层成像设备及其控制方法技术

本发明专利技术公开了光学断层成像设备及其控制方法。该光学断层成像设备控制单元，被配置用于在用于缩窄成像范围的指令被发出的情况下控制测量光光路长度改变单元以缩小测量光的光路长度，并且使得与用于扩展成像范围的指令被发出的情况相比测量光的光路长度的改变速度更低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光学断层成像设备，所述光学断层成像设备被配置用于基于来自被测量光照射的物体的返回光和对应于测量光的参考光组合成的光获得物体的断层图像，所述光学断层成像设备包括：测量光光路长度改变单元，被配置用于改变测量光的光路长度；指令单元，被配置用于发出关于断层图像的成像范围的大小的指令；以及控制单元，被配置用于在用于缩窄成像范围的指令被发出的情况下控制测量光光路长度改变单元以缩小测量光的光路长度，并且使得与用于加宽成像范围的指令被发出的情况相比测量光的光路长度的改变速度更低。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：小峰功，青木博，吉田拓史，坂川幸雄，井上宏之，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP