【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光学断层成像装置，被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与测量光相对应的参照光被组合成的光来获得所述物体的断层图像，所述光学断层成像装置包括：测量光光路长度改变单元，被配置为改变测量光的光路长度；指令单元，被配置为发出关于断层图像的成像范围的大小的指令；以及控制单元，被配置为控制所述测量光光路长度改变单元以在所述指令单元的指令之后相对于所述物体在深度方向上执行对准，并且将测量光的光路长度改变与发出指令所关于的大小的改变相对应的距离。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：小柳津圭介，青木博，坂川幸雄，吉田拓史，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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