研磨装置和研磨方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种研磨装置，包括：研磨机构，所述研磨机构包括研磨头，该研磨头用于对基板上的凸起进行研磨，其所述研磨装置还包括：高度测量机构，用于在研磨过程中实时测量被研磨的凸起的剩余高度；控制机构，用于将被研磨的凸起的剩余高度与预设高度进行对比，当被研磨的凸起的剩余高度小于或等于预设高度时，所述控制机构能够向所述研磨头发送停止信号，以控制所述研磨头停止对该凸起进行研磨。相应地，本发明专利技术还提供一种所述研磨装置的研磨方法。本发明专利技术可以提高研磨效率，改善研磨效果。

【技术实现步骤摘要】
研磨装置和研磨方法
本专利技术涉及显示装置的生产领域，具体涉及一种研磨装置和一种使用该研磨装置的研磨方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)以其具有高画质、低功耗、无辐射等优点成为市场的主流。彩色滤光片作为液晶显示器的主要部件，其品质直接影响到最终的显示效果。彩膜滤光片的生产中经常会在基板的表面产生一定高度的异物凸起，为了减少凸起对显示效果的影响，目前普遍采用研磨装置对凸起进行研磨，使其研磨后的高度降至预定范围之内。现有的研磨装置包括一个或两个接触式高度测量件，在研磨前先测量凸起的高度，然后的对凸起进行研磨，研磨后再次测量凸起的高度，如果凸起的高度在预定范围内，停止研磨，如果凸起的高度超出预定范围，则继续研磨。但是，两次测量会降低研磨效率，同时多次研磨也增加了过研磨的风险。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种研磨装置和一种用于使用该研磨装置的研磨方法，以提高研磨效率，改善研磨效果。作为本专利技术的一方面，提供一种研磨装置，包括：研磨机构，所述研磨机构包括研磨头，该研磨头用于对基板上的凸起进行研磨，所述研磨装置还包括：高度测量机构，用于在研磨过程中实时测量被研磨的凸起的剩余高度；控制机构，用于将被研磨的凸起的剩余高度与预设高度进行对比，当被研磨的凸起的剩余高度小于或等于预设高度时，所述控制机构能够向所述研磨头发送停止信号，以控制所述研磨头停止对该凸起进行研磨。优选地，所述高度测量机构包括光发射件、光接收件和计算单元；所述光发射件用于发射光线，所述光接收件具有接收面，用于接收所述光发射件发射的光线，并确定接收到光线的位置，所述光发射件和所述光接收件中的一者设置在所述研磨头上，所述光发射件和所述光接收件相对设置，以使得所述接收面能够接收到所述光发射件发射的光线，所述计算单元能够根据所述接收面接收到的光线的位置确定正在研磨的凸起的剩余高度。优选地，当所述研磨头的研磨端与所述基板表面接触时，所述光发射件发射的光线照射至所述光接收件的接收面上的基准位置，所述计算单元能够计算所述光接收件的接收面接收到光线的位置与所述基准位置之间的高度差，所述高度差即为正在研磨的凸起的剩余高度。优选地，所述高度测量机构还包括安装件，所述安装件的底端用于支撑在基板的表面上，所述安装件与所述研磨头间隔设置，所述光发射件和所述光接收件中的一者设置在所述研磨头上，另一者设置在所述安装件上。优选地，当所述光发射件设置在所述研磨头上、所述光接收件设置在所述安装件上时，所述基准位置与所述安装件的底端之间的距离等于所述光发射件与所述研磨头的研磨端之间的距离；当所述光接收件设置在所述研磨头上、所述光发射件设置在所述安装件上时，所述基准位置与所述研磨头的研磨端之间的距离等于所述光发射件与所述安装件的底端之间的距离。优选地，所述研磨装置还包括具有校正面的校正板，所述校正面为平面，所述安装件的底端和所述研磨头的研磨端能够支撑在所述校正板的校正面上，以对所述光发射件和/或所述光接收件的位置进行调节，直至所述光接收件的接收面上的基准位置接收到所述光发射件所发射的光线。优选地，当所述光发射件设置在所述研磨头上时，所述基准位置为所述光接收件的接收面的下边缘位置；当所述光接收件设置在所述研磨头上时，所述基准位置为所述光接收件的接收面的上边缘位置。优选地，所述高度测量机构还能够在研磨开始前测量凸起的初始高度；当所述初始高度大于所述预设高度时，所述控制机构能够控制所述研磨头开始进行研磨。相应地，本专利技术还提供一种使用上述研磨装置的研磨方法，所述研磨方法包括：控制所述研磨头从上至下开始对凸起进行研磨；在研磨的过程中，利用所述高度测量机构实时地测量被研磨的凸起的剩余高度；利用所述控制机构将被研磨的凸起的剩余高度与预设高度进行对比，当被研磨的凸起的剩余高度小于或等于所述预设高度时，控制所述研磨头停止对该凸起进行研磨。优选地，所述高度测量机构包括光发射件、光接收件和计算单元，所述光发射件和所述光接收件中的一者设置在所述研磨头上，所述光发射件和所述光接收件相对设置，所述光接收件具有接收面；利用所述高度测量机构实时地测量被研磨的凸起的剩余高度的步骤包括：控制所述光发射件发射光线；利用所述计算单元根据所述接收面接收到光线的位置确定正在研磨的凸起的剩余高度。优选地，当所述研磨头的研磨端与所述基板表面接触时，所述光发射件发射的光线照射至所述光接收件的接收面上的基准位置，利用所述计算单元根据所述接收面接收到光线的位置确定正在研磨的凸起的剩余高度的步骤包括：计算所述光接收件的接收面接收到光线的位置与所述基准位置之间的高度差，所述高度差即为正在研磨的凸起的剩余高度。优选地，所述高度测量机构还包括安装件，所述安装件与所述研磨头间隔设置，所述光发射件和所述光接收件中的一者设置在所述研磨头上，另一者设置在所述安装件上；利用所述高度测量机构实时地测量被研磨的凸起的剩余高度时，所述安装件的底端支撑在基板的表面。优选地，当所述光发射件设置在所述研磨头上、所述光接收件设置在所述安装件上时，所述基准位置与所述安装件的底端之间的距离等于所述光发射件与所述研磨头的研磨端之间的距离；当所述光接收件设置在所述研磨头上、所述光发射件设置在所述安装件上时，所述基准位置与所述研磨头的研磨端之间的距离等于所述光发射件与所述安装件的底端之间的距离。优选地，所述研磨装置还包括具有校正面的校正板，所述校正面为平面，所述研磨方法还包括在对预定数量的凸起研磨之后进行的：将所述安装件的底端和所述研磨头的研磨端分别支撑在校正板的校正面上；控制所述光发射件发射光线；调节所述光发射件和/或所述光接收件的位置，直至所述光接收件的接收面上的基准位置接收到所述光发射件所发射的光线。优选地，当所述光发射件设置在所述研磨头上时，所述基准位置为所述光接收件的接收面的下边缘位置；当所述光接收件设置在所述研磨头上时，所述基准位置为所述光接收件的接收面的上边缘位置。优选地，所述研磨方法还包括在控制所述研磨头进行研磨之前进行的：利用所述高度测量机构测量凸起的初始高度；利用所述控制机构将所述凸起的初始高度与预设高度进行对比，当所述初始高度大于所述预设高度时，控制所述研磨头开始进行研磨。在本专利技术，研磨头对凸起进行研磨的过程中，高度测量机构可以实时地测量凸起的高度，一旦测得凸起的高度小于或等于预设高度时，表明凸起的高度较小，不会影响基板的质量，停止研磨过程。当凸起的剩余高度大于预设高度时，控制机构控制研磨头对凸起研磨。和现有技术中，研磨和测量分开进行的方式相比，本专利技术将测量和研磨同时进行，提高研磨效率，并且可以防止出现过研磨或研磨不够的情况，从而改善研磨效果。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是本专利技术的实施例中研磨装置的结构示意图；图2是本专利技术的实施例中研磨装置对凸起进行研磨时的局部示意图；图3是本专利技术的实施例中光发射件和光接收件的位置关系示意图。其中，附图标记为：10、研磨机构；11、研磨头；12、研磨带；13、移动杆；14、第一研磨轮；15、第二研磨轮；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨装置，包括：研磨机构，所述研磨机构包括研磨头，该研磨头用于对基板上的凸起进行研磨，其特征在于，所述研磨装置还包括：高度测量机构，用于在研磨过程中实时测量被研磨的凸起的剩余高度；控制机构，用于将被研磨的凸起的剩余高度与预设高度进行对比，当被研磨的凸起的剩余高度小于或等于预设高度时，所述控制机构能够向所述研磨头发送停止信号，以控制所述研磨头停止对该凸起进行研磨。

【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，包括：研磨机构，所述研磨机构包括研磨头，该研磨头用于对基板上的凸起进行研磨，其特征在于，所述研磨装置还包括：高度测量机构，用于在研磨过程中实时测量被研磨的凸起的剩余高度；所述高度测量机构包括光发射件、光接收件和计算单元；所述光发射件用于发射光线，所述光接收件具有接收面，用于接收所述光发射件发射的光线，并确定接收到光线的位置，所述光发射件和所述光接收件中的一者设置在所述研磨头上，所述光发射件和所述光接收件相对设置，以使得所述接收面能够接收到所述光发射件发射的光线，所述计算单元能够根据所述接收面接收到的光线的位置确定正在研磨的凸起的剩余高度；控制机构，用于将被研磨的凸起的剩余高度与预设高度进行对比，当被研磨的凸起的剩余高度小于或等于预设高度时，所述控制机构能够向所述研磨头发送停止信号，以控制所述研磨头停止对该凸起进行研磨。2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，当所述研磨头的研磨端与所述基板表面接触时，所述光发射件发射的光线照射至所述光接收件的接收面上的基准位置，所述计算单元能够计算所述光接收件的接收面接收到光线的位置与所述基准位置之间的高度差，所述高度差即为正在研磨的凸起的剩余高度。3.根据权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，所述高度测量机构还包括安装件，所述安装件的底端用于支撑在基板的表面上，所述安装件与所述研磨头间隔设置，所述光发射件和所述光接收件中的一者设置在所述研磨头上，另一者设置在所述安装件上。4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，当所述光发射件设置在所述研磨头上、所述光接收件设置在所述安装件上时，所述基准位置与所述安装件的底端之间的距离等于所述光发射件与所述研磨头的研磨端之间的距离；当所述光接收件设置在所述研磨头上、所述光发射件设置在所述安装件上时，所述基准位置与所述研磨头的研磨端之间的距离等于所述光发射件与所述安装件的底端之间的距离。5.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨装置还包括具有校正面的校正板，所述校正面为平面，所述安装件的底端和所述研磨头的研磨端能够支撑在所述校正板的校正面上，以对所述光发射件和/或所述光接收件的位置进行调节，直至所述光接收件的接收面上的基准位置接收到所述光发射件所发射的光线。6.根据权利要求2至5中任意一项所述的研磨装置，其特征在于，当所述光发射件设置在所述研磨头上时，所述基准位置为所述光接收件的接收面的下边缘位置；当所述光接收件设置在所述研磨头上时，所述基准位置为所述光接收件的接收面的上边缘位置。7.根据权利要求1至5中任意一项所述的研磨装置，其特征在于，所述高度测量机构还能够在研磨开始前测量凸起的初始高度；当所述初始高度大于所述预设高度时，所述控制机构能够控制所述研磨头开始进行研磨。8.一种使用权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：于闪闪，李晶晶，高亚东，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34