本实用新型专利技术提供的基板清洁装置，包括弹性柱体、无尘布及移动机构。所述弹性柱体是由吸水材质制成，所述弹性柱体的一端面上具有注水孔，所述注水孔用于将水导入所述弹性柱体。所述无尘布固持于所述弹性柱体的柱面的两侧，且所述无尘布部分接触所述弹性柱体的所述柱面，而于所述柱面上形成所述无尘布与基板接触的条状区域。所述移动机构耦接于所述弹性柱体及所述无尘布，用于同时移动所述弹性柱体及所述无尘布，使得所述条状区域在所述基板上移动以均匀地擦拭所述基板，降低基板的损坏率。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本专利技术涉及一种基板清洁装置，特别涉及一种用于微影工序的基板清洁装置。【
技术介绍
】随着微影工艺的进步，晶体管的研发渐渐由28纳米进展到16纳米甚至10纳米世代。现有的微影技术已不再适用，需要全新的技术，如极紫外光(extremeultrav1let, EUV)微影技术。如果以超紫外光取代光源，几乎所有的能量都会被透镜吸收。因此，整个曝光过程都得重新设计，将透镜一律改为反射镜，掩膜也得改成反射式，然而反射式掩膜质量要求极高，表面必须极为平整，不能残留有颗粒或者光刻胶的残留物。因此，掩膜的清洁就需要达到极高的水平。然而，现有的掩膜常使用毛刷清洁，而现有的刷毛对于纳米级的掩膜图案的损伤很大，稍有不慎就会对掩膜造成损伤。或者，有人提出了使用注水或者清洁刷搭配旋转台对掩膜进行清洁。然而，不论是采用旋转台或者是清洁刷都容易对掩膜上的保护层造成损伤，一旦保护层损伤，此片掩膜即无法再使用。另夕卜，若使用旋转台模式清洁，对掩膜上的各部位的清洁程度无法达到相同水平，产生清洁效果不均的缺点。【
技术实现思路
】本技术的目的在于提供一种用于微影工序的基板清洁装置，其透过弹性柱体配合无尘布刷过基板表面进行清洁，降低了毛刷对基板表面的伤害，也由于透过移动机构的平移，而可对基板进行均匀的清洁，克服了现有旋转台清洁不均且易造成保护膜破损的缺点。为达成上述目的，本技术提供的基板清洁装置包括弹性柱体、无尘布及移动机构。所述弹性柱体是由吸水材质制成，所述弹性柱体的端面上具有注水孔，所述注水孔用于将水导入所述弹性柱体。所述无尘布固持于所述弹性柱体的一柱面的两侧，且所述无尘布部分接触所述弹性柱体的所述柱面，而于所述柱面上形成所述无尘布与基板接触的条状区域。所述移动机构耦接于所述弹性柱体及所述无尘布，用于同时移动所述弹性柱体及所述无尘布，使得所述条状区域在所述基板上移动以擦拭所述基板。在一优选实施例中，所述吸水材质为聚乙稀醇(Polyvinyl Alcohol, PVA)。在一优选实施例中，所述弹性柱体包括空心轴体，所述空心轴体纵向贯穿所述弹性柱体的两端面，用于固定于所述移动机构。详细而言，所述空心轴体的一端作为所述注水孔，所述空心轴体开设有出水孔或多个出水孔。在此优选实施例中，所述基板清洁装置进一步包括两轴座，所述两轴座分别设置于所述空心轴体的两端并耦接于所述移动机构，用于将所述弹性柱体固定于所述移动机构。在一优选实施例中，所述基板清洁装置进一步包括固持机构，所述固持机构用于将所述无尘布固持于所述弹性柱体的所述柱面的两侧。具体而言，所述固持机构包括设置于所述弹性柱体的所述柱面的两侧的压条座以及对应的压条，所述压条嵌合所述压条座以夹持所述无尘布。在一优选实施例中，所述基板包括掩膜、硅晶圆或玻璃基板。相较于现有技术，本技术采用可泌出水的弹性柱体配合无尘布刷过基板表面进行清洁，降低了毛刷对基板表面的伤害，也由于透过移动机构的平移，而可对基板进行均匀的清洁，克服了现有旋转台清洁不均且易造成保护膜破损的缺点。为让本技术的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，配合所附图式，作详细说明如下:【【附图说明】】图1为本技术的优选实施例的基板清洁装置的方块示意图。图2为此优选实施例的基板清洁装置的立体示意图。图3为图2的沿AA’线段的剖面示意图。图4为本技术的优选实施例的局部元件的立体示意图。【【具体实施方式】】本技术的数个优选实施例借助所附图式与下面的说明作详细描述，在不同的图式中，相同的元件符号表示相同或相似的元件。请参照图1及图2，图1为本技术的优选实施例的基板清洁装置的方块示意图，图2为此优选实施例的基板清洁装置的立体示意图。本技术的基板清洁装置10是用于清洁基板20表面上的灰尘或碎肩等杂质。在此的基板20是指诸如液晶显示器(liquidcrystal display, IXD)、等离子显示面板(plasma display panel, PDP)和有机发光二极管(organic light emitting d1de, OLED)等平板显不器(flat panel display, FPD)、半导体芯片和掩膜玻璃。也就是说，本技术的基板清洁装置并不限于清洁掩膜，还可用于清洁硅晶圆或玻璃基板。如图1所示，本实施例的基板清洁装置10包括弹性柱体12、无尘布14及移动机构16。弹性柱体12是由一吸水材质制成，其可包括丙稀酸(Acrylate Acid)，丙稀酰胺(Acrylamide)和聚乙稀醇(Polyvinyl Alcohol, PVA)。在此实施例中，吸水材质为聚乙稀醇(Polyvinyl Alcohol, PVA)，其为可压缩的弹性材质。如图1及图2所示，所述弹性柱体12的一端面122上具有一注水孔124，所述注水孔124用于将水导入吸水材质(即PVA)的弹性柱体12，使得整个弹性柱体12湿润，甚至泌出水来。请一并参照图2及图3，图3为图2的沿AA’线段的剖面示意图。所述无尘布14固持于所述弹性柱体12的一柱面126的两侧，且所述无尘布14部分接触所述弹性柱体12的所述柱面126，而于所述柱面126上形成无尘布14与基板20接触的条状区域128。其中无尘布14优选为聚酯与聚酰胺复合纤维长丝制成，具优良的吸附着力，透过基板20挤压弹性柱体12时，水份可由条状区域128泌出而湿润无尘布14，进而可对于基板20表面脏污能有效去除。如图1至图3所示，移动机构16耦接于弹性柱体12及无尘布14，所述移动机构16用于同时移动所述弹性柱体12及所述无尘布14，如图1所示的沿垂直弹性柱体12的纵像方向的一水平方向H移动，使得所述条状区域128在所述基板20上移动以擦拭所述基板20，进而可对基板20整个表面进行均匀地清洁。具体而言，移动机构16还包括移动座162、连接移动座162的驱动元件(图未示)，如马达等本领域技术人员所熟知的元件，在此不予以赘述。请一并参照图3及图4，图4为本技术的一优选实施例的局部元件的立体示意图。弹性柱体12包括一空心轴体13，所述空心轴体13纵向贯穿所述弹性柱体的两端面122(如图1所示)，用于将弹性柱体12固定于所述移动机构16。详细而言，请再参照图2至图4，本实施例的基板清洁装置10进一步包括两轴座18，两轴座18分别设置于所述空心轴体13的两端并耦接于所述移动机构16，用于将所述弹性柱体12固定于所述移动机构16的移动座162。需注意的是，如图2所示，空心轴体13的一端可作为上述的注水孔124，而所述空心轴体13开设有一出水孔132，用于将去离子水均匀导入吸水材质的弹性柱体12中。如图4所示，出水孔132为位居空心轴体13纵向的几何中心的狭长条孔。然而，本技术并不限于此，例如空心轴体13开设多个出水孔的形式亦在本技术的范围中。如图3及图4所示，本实施例的基板清洁装置10进一步包括一固持机构19，固持机构19耦接于移动机构16的移动座162。固持机构19用于将无尘布14固持于弹性柱体12的柱面126的两侧。具体而言，所述固持机构19包括设置于弹性柱体12的柱面126的两侧的压条座192以及对应的压条194，压条座192及压条194各具有相对应的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板清洁装置，其特征在于，包括：弹性柱体，是由吸水材质制成，所述弹性柱体的端面上具有注水孔，所述注水孔用于将水导入所述弹性柱体；无尘布，固持于所述弹性柱体的柱面的两侧，且所述无尘布部分接触所述弹性柱体的所述柱面，而于所述柱面上形成所述无尘布与基板接触的条状区域；以及移动机构，耦接于所述弹性柱体及所述无尘布，用于同时移动所述弹性柱体及所述无尘布，使得所述条状区域在所述基板上移动以擦拭所述基板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴欣贤，刘文明，陈薇云，
申请(专利权)人：弘塑科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71
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