在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备制造技术

技术编号:12152847 阅读:104 留言:0更新日期:2015-10-03 14:35
本实用新型专利技术涉及一种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,用于为玻璃容器的内壁形成多层阻隔性薄膜,包括机座、输气管道、微波密封罩、天线、模式转换器、调配器、波导管、脉冲微波发生源。玻璃容器收容于微波密封罩内,微波密封罩置于机座上,输气管道与微波密封罩贯通,脉冲微波发生源通过波导管与模式转换器连通,脉冲微波发生源用于产生高功率脉冲微波,高功率脉冲微波经过波导管导入到模式转换器,且高功率脉冲微波在调配器的调谐下经过天线,并均匀的进入到玻璃容器的内部;还包括真空泵,真空泵设于输气管道上。此设备可对复杂的玻璃容器的内壁进行镀膜,提高产品使用寿命,提高沉积效率,降低生产成本,提高膜层附着力和均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备
技术介绍
目前,通用的玻璃容器阻隔薄膜制备方法基本都是采用物理真空蒸镀、熔胶-凝胶沉积方法。制备阻隔薄膜是将硅的氧化物(S1x)或其它固体颗粒物通过电子枪加热气化,在真空腔体内旋转的圆盘上放有瓶罐,气化后的硅的氧化物(S1x)或其它镀膜材料遇冷附着在玻璃容器外壁上,形成阻隔薄膜,从而达到阻隔的目的。由于蒸镀膜层位于玻璃容器外壁,在使用和流通过程中,其遭受破坏和破损的危险性较大,在显微镜下可以看见蒸镀层出现微小的裂痕,使阻隔性大大降低,影响了使用效果和使用寿命。蒸镀沉积速度慢,工艺时间很长,一般需要几个小时。气化后硅的氧化物(S1x)或其它镀膜材料由于没有导向性,膜层沉积过程中旋转圆盘中心部分和边缘部位的硅的氧化物(S1x)沉积量不均匀,无法达到阻隔性要求。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种使得膜层的沉积量均匀,在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备。本技术的目的是通过以下技术方案来实现的:一种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,用于为玻璃容器的内壁形成多层阻隔性薄膜,包括:机座、输气管道、微波密封罩、天线、模式转换器、调配器、波导管、脉冲微波发生源;所述玻璃容器收容于所述微波密封罩内,所述微波密封罩置于所述机座上,所述输气管道与所述微波密封罩贯通,所述脉冲微波发生源通过所述波导管与所述模式转换器连通,所述脉冲微波发生源用于产生高功率脉冲微波,所述高功率脉冲微波经过所述波导管导入到所述模式转换器,且所述高功率脉冲微波在所述调配器的调谐下经过所述天线,并均匀的进入到所述玻璃容器的内部;在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备还包括真空泵,所述真空泵设于所述输气管道上。优选的,所述脉冲微波发生源的数量为两个。优选的,所述波导管为弯曲的管状结构。本技术通过提供一种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,相对于传统技术,具有以下优点:1、由于膜层位于玻璃容器的内壁,在使用和流通过程中,玻璃容器的内壁遭受破坏和破损的危险性小,阻隔性能稳定,能更好的提高产品的保质期,延长产品的使用寿命;2、采用此种工艺具有很高的沉积效率,在玻璃容器的内壁进行镀膜只需数分钟,大大降低了生产成本;3、镀膜前,氧气的等离子体对玻璃容器的内壁进行清洗和活性化处理,使得膜层的附着力大大提高;4、由于每个工作腔体能量分布均匀,沉积的膜层厚度一致,提高了膜层的均匀性;5、由于等离子体是在空间中包围玻璃容器的,因此,此工艺能对3D工件表面用等离子体技术进行处理。通过使用在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,可对复杂的玻璃容器的内壁进行镀膜,提高了产品的使用寿命,提高了镀膜的沉积效率,降低了生产成本,提高了膜层的附着力,提高了膜层的均匀性。【附图说明】图1为本技术一实施例的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备的主视图;图2为图1所示的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备的侧视图。【具体实施方式】下面结合实施例及附图对本技术作进一步详细的描述,但本技术的实施方式不限于此。如图1所示,其为本技术一实施例的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备10的主视图。请一并参阅图2,其为图1所示的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备10的侧视图。此种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备10用于为玻璃容器20的内壁形成多层阻隔性薄膜,其包括:机座100、输气管道200、微波密封罩300、天线400、模式转换器500、调配器600、波导管700、脉冲微波发生源800。将要被进行镀膜的玻璃容器20放置于微波密封罩300内,即玻璃容器20收容于微波密封罩300内。微波密封罩300置于机座100上,输气管道200与微波密封罩300贯通,脉冲微波发生源800通过波导管700与模式转换器500连通。要特别说明的是,脉冲微波发生源800用于产生高功率脉冲微波,高功率脉冲微波经过波导管700导入到模式转换器500,且高功率脉冲微波在调配器600的调谐下经过天线400,并均匀的进入到玻璃容器20的内部。在本实施例中,脉冲微波发生源800的数量为两个,且波导管700为弯曲的管状结构。在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备10还包括真空泵900,真空泵900设于输气管道200上,真空泵900用于对机座100及输气管道200进行抽真空。此外,还提供一种与上述在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备10对应的工艺。通过真空泵900对机座100及输气管道200进行抽真空,经输气管道200通入氧气到微波密封罩300内,脉冲微波发生源800产生的高功率脉冲微波经过波导管700导入到模式转换器500上,在调配器600的调谐下经过天线400,高功率脉冲微波均匀的进入到真空的玻璃容器20的内部,在玻璃容器20内部产生高能等离子体并均匀分布在玻璃容器20的内壁上。通入的氧气在高功率脉冲微波的作用下产生氧气等离子体,氧气等离子体对玻璃容器20的内壁作加热、表面清洁和表面活化处理。向玻璃容器20内先后通入多种特殊气体,并电离特殊气体,破坏特殊气体的化学键,以使得不同分子之间进行化学反应,从而在玻璃容器20的内壁生成致密、均匀分布的氧化薄膜,并使得不同纳米级厚度的氧当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,用于为玻璃容器的内壁形成多层阻隔性薄膜,其特征在于,包括:机座、输气管道、微波密封罩、天线、模式转换器、调配器、波导管、脉冲微波发生源;所述玻璃容器收容于所述微波密封罩内,所述微波密封罩置于所述机座上,所述输气管道与所述微波密封罩贯通,所述脉冲微波发生源通过所述波导管与所述模式转换器连通,所述脉冲微波发生源用于产生高功率脉冲微波,所述高功率脉冲微波经过所述波导管导入到所述模式转换器,且所述高功率脉冲微波在所述调配器的调谐下经过所述天线,并均匀的进入到所述玻璃容器的内部;在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备还包括真空泵,所述真空泵设于所述输气管道上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:高忠义郭鸿杰刘永利彭彦平鞠浩民谢金桥黄昌焦伟王裕建
申请(专利权)人:惠州欧博莱光电技术有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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