半导体发光装置制造方法及图纸

技术编号:12138914 阅读:75 留言:0更新日期:2015-10-01 17:29
本发明专利技术提供一种可靠性高的半导体发光装置。第2绝缘膜设于第1布线部与第2布线部之间、及半导体层的侧面。光学层设于第1侧、及设于所述半导体层的侧面的第2绝缘膜上,且对发光层的放射光而具有透过性。在与光学层相接的一侧具有粗糙面的膜设置在设于所述半导体层的侧面的第2绝缘膜与光学层之间。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】半导体发光装置本申请案享受以日本专利申请案2014-65820号(申请日:2014年3月27日)为基础申请案的优先权。本申请通过参照该基础申请案而包含基础申请案的全体内容。
本专利技术的实施方式涉及一种半导体发光装置。
技术介绍
提出有一种芯片尺寸封装结构的半导体发光装置,在包含发光层的半导体层的一侧设置荧光体层,在另一侧设置电极、布线层及树脂层,面向实用化而要求较高的可靠性。
技术实现思路
本专利技术的实施方式提供一种可靠性高的半导体发光装置。根据实施方式,半导体发光装置包含半导体层、第I电极、第2电极、第I绝缘膜、第I布线部、第2布线部、第2绝缘膜、光学层、及具有粗糙面的膜。所述半导体层具有第I侦U、与所述第I侧为相反侧的第2侧、以及侧面,且包含发光层。所述第I电极及所述第2电极是设于所述第2侧。所述第I绝缘膜设于所述第2侧。所述第I布线部设于所述第I绝缘膜上,且与所述第I电极连接。所述第2布线部设于所述第I绝缘膜上,且与所述第2电极连接。所述第2绝缘膜设于所述第I布线部与所述第2布线部之间、以及所述侧面。所述光学层设于所述第I侧、以及设于所述侧面的所述第2绝缘膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体发光装置,其特征在于包含:半导体层,具有第1侧、与所述第1侧为相反侧的第2侧、以及侧面,且包含发光层;第1电极,设于所述第2侧;第2电极,设于所述第2侧;第1绝缘膜,设于所述第2侧;第1布线部,设于所述第1绝缘膜上,且与所述第1电极连接;第2布线部,设于所述第1绝缘膜上,且与所述第2电极连接;第2绝缘膜,设于所述第1布线部与所述第2布线部之间、以及所述侧面;光学层,设于所述第1侧、以及设于所述侧面的所述第2绝缘膜上,且对所述发光层的放射光具有透过性;以及膜,设置在设于所述侧面的所述第2绝缘膜与所述光学层之间,且在与所述光学层相接的一侧具有粗糙面。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:布谷伸仁藤村一夫伊藤信也
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:日本;JP

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