【技术实现步骤摘要】
：本专利技术涉及半导体光刻机领域，尤其涉及一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘。
技术介绍
：真空吸盘是半导体光刻设备的重要组成部分，是曝光样片的载体。对不同尺寸规格的样片，往往需要搭载相对应的吸盘来曝光，吸盘更换后还要对其平行性，与光轴的垂直性等进行调节。能否专利技术一种多功能的吸盘，能够吸附各种不同规格的样片，省去更换吸盘的工序，节约时间，提高工作效率呢？这便是摆在光刻领域的一个难题。
技术实现思路
：本专利技术的目的是提供一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，它能实现高产能及支持多种规格要求。本专利技术的技术方案如下：一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：包括有下吸盘，下吸盘上固定有上吸盘，上吸盘上设有十字定位槽，十字定位槽内嵌装有十字定位支架；十字定位支架的正面中心设有十字凸起，所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽；十字定位支架背面朝上时，其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内；十字定位支架正面朝上时，十字凸起部位高出十字定位槽外。一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：所述十字定位槽位于上吸盘的中心位置。一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：上吸盘表面开有若干能配合标示出不同规格样片边缘位置的销钉孔。使用时将十字定位支架正向放置，十字定位支架正面的十字凸起朝上，可同时定位四块方形60*60的样片MASK，减少了中间取放片环节，提升了产能。将十字定位反向放置，十字凸起朝下嵌入十字凹槽中，整个十字支架表面会低于吸盘表面，在吸盘...
【技术保护点】
一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：包括有下吸盘，下吸盘上固定有上吸盘，上吸盘上设有十字定位槽，十字定位槽内嵌装有十字定位支架；十字定位支架的正面中心设有十字凸起，所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽；十字定位支架背面朝上时，其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内；十字定位支架正面朝上时，十字凸起部位高出十字定位槽外。
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：包括有下吸盘，下吸盘上固定有上吸盘，上吸盘上设有十字定位槽，十字定位槽内嵌装有十字定位支架；十字定位支架的正面中心设有十字凸起，所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽；十字定位支架背面朝上时，其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内；十字...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋耀东，项宗齐，方林，何少锋，
申请(专利权)人：合肥芯硕半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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