一种提高通孔工艺窗口的OPC修正方法技术

本发明专利技术提供了一种提高通孔工艺窗口的OPC修正方法，包括：对版图图形进行基于规则的OPC图形修正得到新的目标图形；在新的目标层图形中添加基于规则的亚分辨率辅助图形，然后进行多次OPC图形修正；设定通孔工艺规范，利用OPC工艺窗口模型对OPC修正后的图形进行仿真以对通孔工艺窗口进行检测；根据检测结果，在OPC修正后的图形中设定需要继续进行OPC修正来优化通孔工艺窗口的图形区域；在设定的图形区域中，去除基于规则的亚分辨率辅助图形并添加基于模型的亚分辨率辅助图形；利用OPC修正模型对所设定的添加了基于模型的亚分辨率辅助图形的OPC修正图形继续进行多次OPC修正；对所有OPC修正后的图形进行后处理。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体
，具体涉及一种提高通孔工艺窗口的OPC修正方法。
技术介绍
按照摩尔定律，芯片特征尺寸不断缩小，达到0.13um及其以下工艺节点，使用的光刻波长(193nm)已经远大于关键尺寸(⑶)，这使得衍射、干涉等导致的光学临近效应成为影响光刻工艺的关键因素。光学邻近效应修正(OPC)是通过对掩膜版图形进行修正，最大可能的解决光刻图形变形的问题，典型地如光刻后线端缩短边缘的现象。另外，随着线宽特征尺寸的的不断缩小，曝光图形尤其是通孔结构的掩模版误差因子(Mask ErrorEffect1MEEF)也明显增大，相应地，掩模版图形尺寸的微小波动可能导致硅片上图形线宽的巨大波动，因此对通孔的工艺窗口提出了更高的要求，从而确保一定的良率.通过在通孔周围插入亚分辨率辅助图形(SRAF，sub rule assist feature)可以有效地改善图形的空间频率和空间像，从而提高OPC精度，因此对提高工艺窗口起到一定的作用。在OPC修正过程中，通孔层常规的AF添加方法主要是按照某种规则(Rule)对通孔的目标层添加SRAF (亚分辨率辅助图形)，即RBAF。对于线边AF本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高通孔工艺窗口的OPC修正方法，包括：步骤01：输入版图图形，对版图图形进行基于规则的OPC图形修正得到新的目标图形；步骤02：在所述新的目标层图形中添加基于规则的亚分辨率辅助图形；步骤03：利用OPC修正模型对所述新的目标层图形进行多次OPC图形修正，以得到OPC修正后的图形；步骤04：对所有所述OPC修正后的图形进行后处理；其特征在于，在所述步骤03之后且在所述步骤04之前还包括：步骤011：设定通孔工艺规范，利用OPC工艺窗口模型对所述OPC修正后的图形进行仿真，从而对通孔工艺窗口进行检测；步骤022：根据所述检测结果，在OPC修正后的图形中设定需要继续进行OPC修正的图形区域，从...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡红梅，
申请(专利权)人：上海集成电路研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31