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本发明提供了一种提高通孔工艺窗口的OPC修正方法，包括：对版图图形进行基于规则的OPC图形修正得到新的目标图形；在新的目标层图形中添加基于规则的亚分辨率辅助图形，然后进行多次OPC图形修正；设定通孔工艺规范，利用OPC工艺窗口模型对OPC修...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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