一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法技术

一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法，属于纳米材料制备技术领域。将二氰二胺置于带盖陶瓷坩埚中进行煅烧，得到g-C3N4聚合物材料；将g-C3N4聚合物材料加入碱金属锂或钠的四氢呋喃溶液中，超声分散，并加入卤代有机试剂，反应所得固体产物依次用甲苯、乙醇和水进行洗涤，即得到g-C3N4纳米片。具有原料廉价、工艺简单、制备效率高等优点，所得g-C3N4纳米片比表面积显著增大，在有机相和水相中分散性好，具有良好的光催化性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米材料制备
，涉及一种溶液相制备石墨相氮化碳(g-C3N4)纳米片的方法。
技术介绍
在氮化碳的五种同素异形体中，石墨相氮化碳，即g-C3N4是最稳定的一种。近年来，g-C3N4因其良好的化学稳定性、独特的半导体能带结构、无毒且原料易得、不含金属等优异特性在光催化污染物降解、光解水制氢、光催化有机合成等领域受到人们的广泛关注。然而，作为一种聚合物半导体材料，将g-C3N4作为光催化剂还存在一些问题，如比表面积小(～10m2/g)、光生载流子的激子结合能高、光生电子-空穴复合严重、可见光利用率低等。针对这些问题，人们从g-C3N4光催化剂的优化合成、物理复合改性、化学掺杂改性、共聚改性、表面修饰、纳米化改性等方面对其理化性质，如半导体能带结构、光吸收性质等进行调整，以期提高g-C3N4的光催化性能。与体相材料相比，经过纳米化改性的g-C3N4光催化剂比表面积增大、结晶度提高，其光催化性能明显改善。目前，人们以模板法和非模板法已经合成得到一系列具有特殊形貌的g-本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法，包括以下步骤：1)以二氰二胺为原料，进行煅烧，得到黄色的g‑C3N4聚合物材料；2)将步骤1)所得g‑C3N4聚合物材料分散在四氢呋喃溶液中，在氮气保护条件下超声分散，得到g‑C3N4分散液，在g‑C3N4分散液中依次加入碱金属和萘，持续搅拌，然后加入卤代有机试剂，在氮气保护条件下反应，反应结束后，将所得固体产物依次用甲苯、乙醇和水进行洗涤，得到g‑C3N4纳米片。

【技术特征摘要】
1.一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法，包括以下步骤：
1)以二氰二胺为原料，进行煅烧，得到黄色的g-C3N4聚合物材料；
2)将步骤1)所得g-C3N4聚合物材料分散在四氢呋喃溶液中，在氮气保护条件下超声分
散，得到g-C3N4分散液，在g-C3N4分散液中依次加入碱金属和萘，持续搅拌，然后加入卤代
有机试剂，在氮气保护条件下反应，反应结束后，将所得固体产物依次用甲苯、乙醇和水进
行洗涤，得到g-C3N4纳米片。
2.如权利要求1所述一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法，其特征在于，步骤1)
中，所述煅烧的温度为450～550℃，煅烧的时间为2～4h。
3.如权利要求1所述一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法，其特征在于，步骤2)
中，所述碱金属为金属锂或金属钠。
4.如权利要求1所述一种溶液相制备石墨相氮化碳纳米片的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓顺柳，宋雪欢，冯蓝，谢素原，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：福建;35