Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法技术

Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法，涉及绝缘层上锗。对Ge片进行离子注入，形成缺陷平面；用光固化胶将PDMS与处理后的Ge片绑定；在处理后的柔性支撑衬底上施加平行于剥离平面的剪切力，将表面Ge薄膜沿着缺陷平面与体Ge基底“撕开”，得柔性Ge薄膜；再进行抛光，得锗薄膜，然后与SiO2/Si晶片清洗，将清洗后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片，利用等离子体与晶片表面进行撞击，同时对表面进行活化处理；将处理后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片贴合；用滚压法将界面的空气充分地排出；处理后将样品预键合，随后将柔性衬底与GOI结构剥离，退火，以增强键合表面能，提高键合强度。

【技术实现步骤摘要】
Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法
本专利技术涉及绝缘层上锗，尤其是涉及一种对离子注入后的Ge晶片进行机械剥离获得柔性Ge薄膜，滚压柔性Ge膜将其与SiO2/Si表面贴合，结合低温键合技术的Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法。
技术介绍
GOI材料具有许多独特的物理性质，集合了Ge材料较高的载流子迁移率和SOI材料低功耗、抗辐射、耐高温等优点[1-3]，而且在制造技术上与目前较成熟的硅工艺是相兼容的，成为了一种极具吸引力的Si基新型材料。超大规模集成电路的部分或完全耗尽型器件结构对晶片尺寸的要求为200mm和300mm，而对于MEMS，MOEMS，SmartPower来说，通常要求晶片4寸至6寸[4]，特别是要在大尺寸晶片上形成高质量的Ge层以实现高性能的MOSFETs[5]。此外，半导体产业降低成本的一条最有效途径就是扩大外延片尺寸。很多公司(包括飞利浦Lumileds、三星Samsung、LG、台湾晶电Epistar等)都在进行4英寸甚至更大尺寸外延片的技术研发。因此，制备大尺寸的GOI衬底具有重要的意义。目前，关于GOI的制备方法的报道较多，但往往制备得到的GOI材料位错密度较高，导致迁移率低。而晶片键合是目前备受关注的制备低缺陷密度和较优单晶性能的GOI结构的最有效方法。然而晶片键合对于制备大尺寸GOI也存在一个关键技术瓶颈：晶片键合是将两片体晶片键合。体晶片直接贴合界面气泡较难排出，形成界面缺陷，在后续工艺过程难以消除，往往导致键合后表面微空洞[6]。此外，体晶片键合往往易碎，增大键合压力的控制难度。因此，该方法较难以制备出完整的4寸以上的GOI。参考文献：[1]J.Oh,P.Majhi,H.Lee,O.Yoo,S.Banerjee,C.Y.Kang,J.Yang,R.Harris,H.Tseng,andR.Jammy,IEEEElectronDeviceLett.28,1044(2007).[2]HanhuiLiu,PengWang,DongfengQi,XinLi,XiangHan,ChenWang,SongyanChen*,ChengLi,andWeiHuang,Ohmiccontactformationofmetal/amorphous-Ge/n-GejunctionswithananomalousmodulationofSchottkybarrierheight,Appl.Phys.Lett.,105,192103,2014.[3]T.Matsushita,C.Fukunaga,H.Ikeda,etal.Total-doseeffectsofγ-rayirradiationonSOI-MOStransistors[J].NuclearInstrumentsandMethodsinPhysicsResearchSectionA:Accelerators,Spectrometers,DetectorsandAssociatedEquipment,1995,366(2-3):366-371.[4]SAS.ThinfilmtransferbySmarttechnologybeyondSOI[C]//Silicon-on-insulatorTechnologyandDevicesXI:ProceedingsoftheInternationalSymposium.TheElectrochemicalSociety,2003,2003:13.[5]MiedaE,MaedaT,YasudaT,etal.Large-scaleGe-on-Insulatorwafersusinglow-temperaturebondingandEpitaxialLift-Off(ELO)technique[C]//LowTemperatureBondingfor3DIntegration(LTB-3D),20144thIEEEInternationalWorkshopon.IEEE,2014:22-22.[6]ZhangX,YangF,OuY,etal.TheStudyondefectsofgermanium-on-insulatorfabricatedbyalowtemperatureSmart-cutprocess[J].ECSTransactions,2013,50(7):85-90.
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对晶片键合制备大尺寸GOI存在的表面微空洞与易碎等问题，提供一种Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法。本专利技术包括以下步骤：1)对Ge片进行离子注入，形成缺陷平面；2)用光固化胶将PDMS与步骤1)处理后的Ge片绑定；3)在步骤2)处理后的柔性支撑衬底上施加一个平行于剥离平面的剪切力，将表面Ge薄膜沿着缺陷平面与体Ge基底“撕开”，得到厚度均匀的大面积柔性Ge薄膜；4)对步骤3)处理后的柔性衬底上的薄锗层进行抛光，去除表面损伤层，得到厚度均匀，表面平整的锗薄膜；5)将步骤4)处理后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片进行清洗；6)将步骤5)清洗后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片，利用等离子体与晶片表面进行撞击，产生物理或化学反应，实现分子级的沾污去除，同时对表面进行活化处理，提高晶片表面亲水性；7)将步骤6)处理后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片进行贴合；充分利用柔性衬底的优势，采用滚压法，将界面的空气充分地排出；8)在步骤7)处理后将样品预键合，随后将柔性衬底与GOI结构剥离，最后退火，以增强键合表面能，提高键合强度。在步骤1)中，所述离子可为氢离子或氧离子等；形成缺陷平面后，可调整注入能量控制缺陷平面的位置。在步骤3)中，所述Ge基底经过化学机械抛光后可重复利用。在步骤4)中，所述抛光可采用三步法对Ge薄膜进行抛光，抛光的具体方法可为：先用第一抛光液利用抛光机对锗表面进行第一次抛光，再用第二抛光液利用抛光机对锗表面进行第二次抛光，最后用第三抛光液利用抛光机对锗表面进行第三次抛光；所述第一抛光液按体积比的组成为Nalco2398∶H2O＝1∶20；所述第二抛光液按体积比的组成为Nalco2398∶H2O∶H2O2＝1∶20∶0.2；所述第三抛光液按体积比的组成为NP8040∶H2O∶H2O2＝1∶40∶0.2。本专利技术对离子注入的体Ge晶片进行机械剥离，将体Ge晶片转变为柔性Ge薄膜，利用滚压的方式进行贴合，可以将界面空气充分排出，解决表面微空洞问题；而且柔性薄膜相比于体材料易碎性大大降低，减少了键合过程晶片碎裂的风险。本专利技术创新性地提出柔性Ge膜键合技术。一方面，巧妙地将离子注入形成剥离界面与机械剥离相结合，可以通过控制注入条件可以获得厚度均匀可控的柔性Ge薄膜。另一方面，首次提出利用柔性薄膜滚压的优势，突破了传统体材料贴合的局限，极大程度上提高了界面气泡排出率，使大面积GOI制备成为可能。本专利技术是一种简易、低成本的制备大尺寸GOI的新方法。具体实施方式以下实施例将对本专利技术作进一步的说明。1、首先，利用SRIM2008软件(StoppingandRangeofIonsinMatter)模拟氢离子在不同能量下的投影射程，然后根据所需的GOI顶层Ge厚度来确定氢离子的注入能量。注入前先用PECVD在其表面沉积90本文档来自技高网...

【技术保护点】
Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法，其特征在于包括以下步骤：1)对Ge片进行离子注入，形成缺陷平面；2)用光固化胶将PDMS与步骤1)处理后的Ge片绑定；3)在步骤2)处理后的柔性支撑衬底上施加一个平行于剥离平面的剪切力，将表面Ge薄膜沿着缺陷平面与体Ge基底“撕开”，得到厚度均匀的大面积柔性Ge薄膜；4)对步骤3)处理后的柔性衬底上的薄锗层进行抛光，去除表面损伤层，得到厚度均匀，表面平整的锗薄膜；5)将步骤4)处理后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片进行清洗；6)将步骤5)清洗后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片，利用等离子体与晶片表面进行撞击，产生物理或化学反应，实现分子级的沾污去除，同时对表面进行活化处理，提高晶片表面亲水性；7)将步骤6)处理后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片进行贴合；充分利用柔性衬底的优势，采用滚压法，将界面的空气充分地排出；8)在步骤7)处理后将样品预键合，随后将柔性衬底与GOI结构剥离，最后退火，以增强键合表面能，提高键合强度。

【技术特征摘要】
1.Ge薄膜键合制备绝缘层上锗的方法，其特征在于包括以下步骤：1)根据所需的GOI顶层Ge厚度来确定氢离子的注入能量，注入在其表面沉积90nm的SiO2，作为氢离子注入的保护层，然后，在室温下进行氢离子注入，注入剂量为5×1016cm-2，注入能量为250keV，注入后用稀释HF溶液把表面的SiO2腐蚀掉，形成缺陷平面；2)用光固化胶将PDMS与步骤1)处理后的Ge片绑定；3)在步骤2)处理后的柔性支撑衬底上施加一个平行于剥离平面的剪切力，将表面Ge薄膜沿着缺陷平面与体Ge基底“撕开”，得到厚度均匀的大面积柔性Ge薄膜；4)对步骤3)处理后的柔性衬底上的薄锗层进行抛光，去除表面损伤层，得到厚度均匀，表面平整的锗薄膜；5)将步骤4)处理后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片进行清洗；6)将步骤5)清洗后的Ge薄膜与SiO2/Si晶片，利用等离子体与晶片表面进行撞击，产生物理或化学反应，实现分子级的沾污去除，同时对表面进行活化处理，提高晶片表面亲水性；7...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈松岩，刘翰辉，亓东锋，李成，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：福建;35