本发明专利技术提供了一种乙烯类聚合物。在一个实施例中，本发明专利技术提供了一种乙烯类聚合物，所述乙烯类聚合物包含乙烯与任选一或多种α-烯烃在一或多种第一催化剂系统和任选一或多种第二催化剂系统存在下在单一反应器中的聚合反应产物，其中第一催化剂系统包含：(a)一或多种包含式(I)的金属-配体络合物的主催化剂。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】相关申请案的参考 本申请案要求2012年12月27日提交的美国临时申请案第61/746, 173号的权益。
本专利技术涉及一种乙烯类聚合物。
技术介绍
例如聚乙烯和/或聚丙烯等烯烃类聚合物经由各种催化剂系统产生。用于烯烃类 聚合物的聚合方法中的此类催化剂系统的选择是对此类烯烃类聚合物的特征和特性有影 响的一个重要因素。 已知聚乙烯用于制造多种物品。聚乙烯聚合方法可以在许多方面进行变化，以产 生具有不同物理特性，使得各种树脂适用于不同应用中的各种所得聚乙烯树脂。一般已知 聚乙烯可以在溶液相环流反应器中产生，其中乙烯单体和任选一或多种典型地具有3到10 个碳原子的a烯烃共聚单体在一或多种催化剂系统存在下在压力下通过循环泵在环流反 应器周围循环。乙烯单体和任选的一或多种共聚单体存在于例如烷烃或异烷烃（例如异丁 烷）等液体稀释剂中。还可以添加氢气到反应器中。用于产生聚乙烯的催化剂系统可以典 型地包含络类催化剂系统、齐格勒纳塔催化剂系统（Ziegler Natta catalyst system)和 /或分子（茂金属或非茂金属）催化剂系统。稀释剂和催化剂系统中的反应物在高聚合温 度下在环流反应器周围循环，由此产生聚乙烯均聚物和/或共聚物，取决于是否存在一或 多种共聚单体。周期性地或不断地从环流反应器去除包括溶解于稀释剂中的聚乙烯产物在 内的一部分反应混合物以及未反应的乙烯和一或多种任选的共聚单体。反应混合物在从环 流反应器去除时可进行加工以从稀释剂和未反应的反应物中去除聚乙烯产物，其中稀释剂 和未反应的反应物典型地被再循环回到环流反应器。或者，反应混合物可以被传送到例如 环流反应器等被串联连接到第一环流反应器的第二反应器中，所述第二反应器中可以产生 第二聚乙烯部分。 尽管研宄努力研发适合于例如聚乙烯和/或聚丙烯等聚烯烃聚合的催化剂系统， 但仍然需要在较高反应温度下显示对乙烯的高度选择性的一种主催化剂和一种催化剂系 统；因此，促进了在相对较高的反应温度下较高分子量聚合物的产生。另外，尽管研宄努力 研发特性改善的例如聚乙烯和/或聚丙烯等聚烯烃，但仍然需要特性改善的聚乙烯。
技术实现思路
本专利技术提供了用于烯烃聚合的主催化剂和催化剂系统、用其聚合的烯烃类聚合物 以及用于产生其的方法。 在一个实施例中，本专利技术提供了一种乙烯类聚合物，所述乙烯类聚合物包含乙烯 与任选一或多种 a-稀径在一或多种第一催化剂系统和任选一或多种第二催化剂系统存 在下在单一反应器中的聚合反应产物，其中第一催化剂系统包含： (a) -或多种包含式（I)的金属-配体络合物的主催化剂：【主权项】1. 一种乙烯类聚合物，其包含： 乙烯与任选一或多种α-烯烃在一或多种第一催化剂系统和任选一或多种第二催化 剂系统存在下在单一反应器中的聚合反应产物，其中第一催化剂系统包含： (a) -或多种包含式（I)的金属-配体络合物的主催化剂：其中： M是钛、锆或铪，每一者独立地处于+2、+3或+4的形式氧化态；并且η是O到3的整 数，并且其中当η是O时，X不存在；并且每一 X独立地是中性、单阴离子或双阴离子的单 齿配体；或两个X连在一起形成中性、单阴离子或双阴离子的双齿配体；并且X和η以使得 所述式（I)的金属-配体络合物整体上呈中性的方式来选择；并且每一 Z独立地是0、S、 N(C1-C4tl)烃基或P(C1-C4tl)烃基；并且L是（C 3-C4tl)亚烃基或（C3-C4tl)亚杂烃基，其中所述 (C3-C4tl)亚烃基具有包含连接式（I)中的Z原子（L所键结）的3个碳原子到10个碳原子 连接主链的部分，并且所述（C3-C4tl)亚杂烃基具有包含连接式（I)中的Z原子的3个原子 到10个原子连接主链的部分，其中所述（C3-C4tl)亚杂烃基的所述3个原子到10个原子连 接主链的所述3到10个原子每一者独立地是碳原子或杂原子，其中每一杂原子独立地是0、 S、S(0)、S(0)2、Si(Rc)2、Ge(Rc) 2、P(Rp)或 N(Rn)，其中每一矿独立地是（C1-C3tl)烃基，每一 Rp是（C1-C3tl)烃基；并且每一 #是（C1-C3tl)烃基或不存在；以及 扩24选自由以下各者组成的群组=(C1-C4tl)烃基、（C 1-C4tl)杂烃基、Si (R%、Ge (R%、 P (Rp) 2、N(Rn) 2、0RC、SRC、N02、CN、CF 3、RcS (0) -、RcS (0) 2_、（Rc) 2C = N-、RcC (0) 0-、RcOC (0)-、 ReC(0)N(R)-、（Re)2NC(0)-、卤素原子、氢原子以及其组合；并且其中至少R 1、R16或两者包含 式（II)，并且优选地，R1与R 16相同；当 R22是 H 时，R 19是（C「C4Q)烃基；(C1-C4tl)杂烃基；Si (R%、Ge (R%、P (Rp) 2、N(Rn) 2、 0RC、SRC、N02、CN、CF3、R cS(O)-、RcS (0)2_、（Rc)2C = N-、RcC (0)0-、RcOC(O)-、RcC (O)N (R)-、 (Re)2NC(O)-或卤素原子；和/或 当 R19是 H 时，R 22是（C「C4Q)烃基；(C1-C4tl)杂烃基；Si (R%、Ge (R%、P (Rp) 2、N(Rn) 2、 0RC、SRC、N02、CN、CF3、R cS (O)-、RcS (O) 2-、（Rc)2C = N-、RcC (O) 0-、RcOC (O)-、RcC (O) N(R)-、 (Re)2NC(O)-或卤素原子；和/或 优选地，R22和 R19都是（C1-C4tl)烃基；（C1-C 4tl)杂烃基；Si (R%、Ge(R%、P(Rp)2、N(RN)2、 0RC、SRC、N02、CN、CF3、R cS(O)-、RcS (0)2_、（Rc)2C = N-、RcC (0)0-、RcOC(O)-、RcC (O)N (R)-、 (Re)2NC(O)-或卤素原子；和/或 当 R8是 H 时，R 9是（C1-C4tl)烃基；(C1-C 4tl)杂烃基；Si (R%、Ge (R%、P(Rp)2、N(Rn)2、 0RC、SRC、N02、CN、CF3、R cS(O)-、RcS (0)2_、（Rc)2C = N-、RcC (0)0-、RcOC(O)-、RcC (O)N (R)-、 (Re)2NC(O)-或卤素原子；和/或 当 R9是 H 时，R 8是（C1-C4tl)烃基；(C1-C 4tl)杂烃基；Si (R%、Ge (R%、P(Rp)2、N(Rn)2、 0RC、SRC、N02、CN、CF3、R cS(O)-、RcS (0)2_、（Rc)2C = N-、RcC (0)0-、RcOC(O)-、RcC (O)N (R)-、 (Re)2NC(O)-或卤素原子；和/或 任选地，两个或两个以上R基团（例如来自R9_15、R9_13、R 9_12、R2_8、R4_ 8、R5_8)可以一起组 合成环结构，其中此类环结构除任何氢原子外，在环中具有3到50个原子， 所述芳基、杂芳基、烃基、杂烃基、Si(R%、Ge(R%、P(Rp)2、N(Rn) 2、0RC、SR本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种乙烯类聚合物，其包含：乙烯与任选一或多种α‑烯烃在一或多种第一催化剂系统和任选一或多种第二催化剂系统存在下在单一反应器中的聚合反应产物，其中第一催化剂系统包含：(a)一或多种包含式(I)的金属‑配体络合物的主催化剂：其中：M是钛、锆或铪，每一者独立地处于+2、+3或+4的形式氧化态；并且n是0到3的整数，并且其中当n是0时，X不存在；并且每一X独立地是中性、单阴离子或双阴离子的单齿配体；或两个X连在一起形成中性、单阴离子或双阴离子的双齿配体；并且X和n以使得所述式(I)的金属‑配体络合物整体上呈中性的方式来选择；并且每一Z独立地是O、S、N(C1‑C40)烃基或P(C1‑C40)烃基；并且L是(C3‑C40)亚烃基或(C3‑C40)亚杂烃基，其中所述(C3‑C40)亚烃基具有包含连接式(I)中的Z原子(L所键结)的3个碳原子到10个碳原子连接主链的部分，并且所述(C3‑C40)亚杂烃基具有包含连接式(I)中的Z原子的3个原子到10个原子连接主链的部分，其中所述(C3‑C40)亚杂烃基的所述3个原子到10个原子连接主链的所述3到10个原子每一者独立地是碳原子或杂原子，其中每一杂原子独立地是O、S、S(O)、S(O)2、Si(RC)2、Ge(RC)2、P(RP)或N(RN)，其中每一RC独立地是(C1‑C30)烃基，每一RP是(C1‑C30)烃基；并且每一RN是(C1‑C30)烃基或不存在；以及R1‑24选自由以下各者组成的群组：(C1‑C40)烃基、(C1‑C40)杂烃基、Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、NO2、CN、CF3、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑、卤素原子、氢原子以及其组合；并且其中至少R1、R16或两者包含式(II)，并且优选地，R1与R16相同；当R22是H时，R19是(C1‑C40)烃基；(C1‑C40)杂烃基；Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、NO2、CN、CF3、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑或卤素原子；和/或当R19是H时，R22是(C1‑C40)烃基；(C1‑C40)杂烃基；Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、NO2、CN、CF3、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑或卤素原子；和/或优选地，R22和R19都是(C1‑C40)烃基；(C1‑C40)杂烃基；Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、NO2、CN、CF3、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑或卤素原子；和/或当R8是H时，R9是(C1‑C40)烃基；(C1‑C40)杂烃基；Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、NO2、CN、CF3、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑或卤素原子；和/或当R9是H时，R8是(C1‑C40)烃基；(C1‑C40)杂烃基；Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、NO2、CN、CF3、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑或卤素原子；和/或任选地，两个或两个以上R基团(例如来自R9‑15、R9‑13、R9‑12、R2‑8、R4‑8、R5‑8)可以一起组合成环结构，其中此类环结构除任何氢原子外，在环中具有3到50个原子，所述芳基、杂芳基、烃基、杂烃基、Si(RC)3、Ge(RC)3、P(RP)2、N(RN)2、ORC、SRC、RCS(O)‑、RCS(O)2‑、(RC)2C＝N‑、RCC(O)O‑、RCOC(O)‑、RCC(O)N(R)‑、(RC)2NC(O)‑、亚烃基和亚杂烃基每一者独立地未经取代或经一或多个RS取代基取代，每一RS独立地是卤素原子、多氟取代、全氟取代、未经取代的(C1‑C18)烷基、F3C‑、FCH2O‑、F2HCO‑、F3CO‑、R3Si‑、R3Ge‑、RO‑、RS‑、RS(O)‑、RS(O)2‑、R2P‑、R2N‑、R2C＝N‑、NC‑、RC(O)O‑、ROC(O)...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·黛米洛斯，R·菲格罗阿，J·克洛西，P·J·托马斯，S·德贾斯丁，M·卡普尔，P·P·方丹，
申请(专利权)人：陶氏环球技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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