本发明专利技术提供一种蒸镀设备及采用该蒸镀设备的操作方法。蒸镀设备包括具有一内部空间的主腔体和设置于主腔体下方的蒸镀机构，蒸镀机构包括至少两个坩埚容纳腔体；在第一状态，第一坩埚容纳腔体位于蒸镀执行位置，且与所述主腔体之间连通，构成真空空间，所述第一坩埚容纳腔体中的坩埚所盛放材料执行蒸镀过程；在第二状态，在真空环境下，所述第一坩埚容纳腔体移离所述蒸镀执行位置，第二坩埚容纳腔体移动至所述蒸镀执行位置处，且与所述主腔体之间连通。通过设置至少两个坩埚容纳腔体，能够解决现有技术的蒸镀设备在重新添加材料时破真空对内部蒸镀环境造成污染以及使OLED显示器的制作效率较低的问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示器制造领域，尤其是指一种。
技术介绍
有机发光二极管(Organic Light-Emitting D1de，0LED)显示器以其色彩鲜艳、功耗低、产品薄等诸多优点在市场上受到了广大消费者的喜爱。目前对于OLED显示器的制作，需要在高真空腔室中设置有机材料的坩祸，加热坩祸蒸镀有机材料，形成OLED显示器的有机薄膜，因此OLED显示器中蒸镀是必不可少的制程。现有技术的蒸镀设备中，在蒸镀过程每次材料用尽后都需要破真空，打开真空腔室重新添加材料，该种方式使OLED显示器的制作过程耽误时间，且容易造成污染，因此有必要对用于OLED显示器制作的蒸镀设备进行改进，以达到降低蒸镀制作过程污染的问题。
技术实现思路
本专利技术技术方案的目的是提供一种，用于解决现有技术的蒸镀设备在重新添加材料时破真空对内部蒸镀环境造成污染以及使OLED显示器的制作效率较低的问题。本专利技术提供一种蒸镀设备，包括具有一内部空间的主腔体和设置于主腔体下方的蒸镀机构，其中，所述蒸镀机构包括至少两个坩祸容纳腔体；其中，所述蒸镀机构包括第一状态和第二状态；在第一状态，第一坩祸容纳腔体位于蒸镀执行位置，且与所述主腔体之间连通，构成真空空间，所述第一坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料执行蒸镀过程；在第二状态，在真空环境下，所述第一坩祸容纳腔体移离所述蒸镀执行位置，第二坩祸容纳腔体移动至所述蒸镀执行位置处，且与所述主腔体之间连通。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀机构还包括一个外围腔体，各个所述坩祸容纳腔体均设置于所述外围腔体中；所述蒸镀机构在所述第二状态，所述外围腔体内形成真空空间。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀机构还包括具有容纳空间的第一安装支架，各个所述坩祸容纳腔体设置于所述第一安装支架的容纳空间中，且所述坩祸容纳腔体相组合的形状与所述容纳空间的形状相对应。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀机构还包括驱动结构，与所述第一安装支架连接，用于使所述第一安装支架进行上、下升降运动以及旋转运动；通过驱动所述第一安装支架运动，在所述第二状态，使所述第一坩祸容纳腔体移离所述蒸镀执行位置，所述第二坩祸容纳腔体移动至所述蒸镀执行位置处。优选地，上述所述的蒸镀设备，每一所述坩祸容纳腔体的外壁均包覆有密封材料。 优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀机构还包括蒸镀加热部件，所述蒸镀加热部件固定设置于所述主腔体的侧壁上，且所述主腔体的侧壁上、所述蒸镀加热部件的一侧设置有能够开闭的通孔结构；所述坩祸容纳腔体朝向所述主腔体的一侧设置有开口 ；所述坩祸容纳腔体位于所述蒸镀执行位置，所述开口与所述主腔体的侧壁紧密贴合，所述通孔结构与所述开口相对，所述坩祸容纳腔体通过呈打开状态的所述通孔结构与所述主腔体连通，所述蒸镀加热部件通过所述开口插设进入所述坩祸容纳腔体的内部。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述外围腔体与所述主腔体的侧壁贴合连接，且所述主腔体的侧壁的一部分构成为所述外围腔体在其中一侧面的侧壁。优选地，上述所述的蒸镀设备，每一所述坩祸容纳腔体的侧壁上设置有能够开闭的第一开口结构，通过所述第一开口结构的打开状态，蒸镀用坩祸能够进入所述坩祸容纳腔体的内部或者能够从所述坩祸容纳腔体的内部移出。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述外围腔体的侧壁上设置有能够开闭的第二开口结构，所述第二开口结构呈关闭状态，所述外围腔体的内部形成封闭空间；所述第二开口结构呈打开状态，所述坩祸容纳腔体露出。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀设备还包括:第一抽真空结构，用于对所述主腔体和与所述主腔体连通的所述坩祸容纳腔体抽取真空；第二抽真空结构，用于对所述外围腔体抽取真空。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀设备包括多个所述蒸镀机构，各个所述蒸镀机构设置在所述主腔体的下方，且围绕所述主腔体在竖直方向的轴心均匀分布。优选地，上述所述的蒸镀设备，所述蒸镀设备还包括具有容纳空间的第二安装支架，设置于所述主腔体下方且与所述主腔体连接，各个所述蒸镀机构均安装设置于所述第二安装支架的容纳空间内。本专利技术还提供一种采用以上任一项所述蒸镀设备的操作方法，其中，所述操作方法包括:将所述第一坩祸容纳腔体移动至所述蒸镀执行位置，且使所述第一坩祸容纳腔体与所述主腔体相连通；所述第一坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料执行蒸镀过程；所述第一坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料耗尽时，在真空环境下，所述第一坩祸容纳腔体移离所述蒸镀执行位置，所述第二坩祸容纳腔体移动至所述蒸镀执行位置处，且与所述主腔体之间连通；所述第二坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料执行蒸镀过程。优选地，上述所述的操作方法，所述第二坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料执行蒸镀过程的步骤中，所述操作方法还包括:将所述第一坩祸容纳腔体中的坩祸取出，重新添加材料后放回所述第一坩祸容纳腔体。优选地，上述所述的操作方法，在所述第二坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料执行蒸镀过程执行完毕后，所述操作方法还包括:将所述第一坩祸容纳腔体和所述第二坩祸容纳腔体中的坩祸分别取出，重新添加材料后分别放回所述第一坩祸容纳腔体和所述第二坩祸容纳腔体。优选地，上述所述的操作方法，所述第一坩祸容纳腔体中的坩祸所盛放材料执行蒸镀过程的步骤具体包括:对所述主腔体抽取真空，使所述主腔体和所述第一坩祸容纳腔体均达到预设真空度；对所述第一坩祸容纳腔体内的坩祸进行预热，预热达到预设温度时，执行蒸镀过程，直到坩祸内的材料用尽。本专利技术具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果:所述蒸镀设备通过设置至少两个坩祸容纳腔体，在第一坩祸容纳腔体内的坩祸蒸镀完成之后，在真空环境下可以直接将第二坩祸容纳腔体移动至蒸镀执行位置进行蒸镀，该过程无需破真空更换材料，既能够达到节约时间又能够保证不会造成污染的技术效果。【附图说明】图1表示本专利技术实施例所述蒸镀设备的部分剖面结构示意图；图2表示本专利技术实施例所述蒸镀设备的主视剖面结构示意图；图3表示本专利技术实施例所述蒸镀设备的主视结构示意图；图4表示本专利技术实施例所述蒸镀设备的坩祸容纳腔体的主视结构示意图；图5表示当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种蒸镀设备，包括具有一内部空间的主腔体和设置于主腔体下方的蒸镀机构，其特征在于，所述蒸镀机构包括至少两个坩埚容纳腔体；其中，所述蒸镀机构包括第一状态和第二状态；在第一状态，第一坩埚容纳腔体位于蒸镀执行位置，且与所述主腔体之间连通，构成真空空间，所述第一坩埚容纳腔体中的坩埚所盛放材料执行蒸镀过程；在第二状态，在真空环境下，所述第一坩埚容纳腔体移离所述蒸镀执行位置，第二坩埚容纳腔体移动至所述蒸镀执行位置处，且与所述主腔体之间连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵德江，王浩，藤野诚治，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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