成型体及其制造方法技术

本发明专利技术的包装用成型体将具有阻隔层的层积膜成型而得到，该包装用成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为B的内面，在内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体及其制造方法。
技术介绍
作为容纳食品或药品的容器，使用了具有阻隔层的成型体。该成型体通过将具有阻隔层的层积膜成型而制造。阻隔层起到妨碍内容物与空气中的氧或水蒸气接触的作用。迄今为止正在开发具有阻隔层的各种容器。例如，专利文献1中公开了一种使用经拉伸的聚偏二氯乙烯(PVDC)膜的多层塑料容器。专利文献2中公开了一种由偏二氯乙烯系树脂构成的层压用无拉伸膜。专利文献3、4中公开了一种用于提高偏二氯乙烯系拉伸膜的成型性的热处理。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平3-244537号公报专利文献2：日本特开昭62-285928号公报专利文献3：日本专利第4889478号公报专利文献4：日本特开2011-212983号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，为了使成型体稳定地发挥阻隔性能，在成型体的整个厚度之中希望阻隔层的厚度占特定的比例以上。但是，在专利文献1中记载的专利技术中，使用了经相当程度拉伸的PVDC膜作为阻隔层。因此，在由该PVDC膜制作的成型体中存在阻隔层(PVDC膜)的厚度显著薄的部分。原本PVDC膜具有难以伸长的性质，因此包含PVDC膜的现有的层积膜的成型性不充分，难以应用于深容器的成型。在专利文献2中记载的专利技术中，使用了无拉伸的PVDC膜。在由包含无拉伸的PVDC膜的层积膜制作成型体的情况下，也存在阻隔层(PVDC膜)的厚度显著薄的部分。另外，分子完全未进行取向的单层的PVDC膜脆、处理性显著差，因此对使用该膜稳定地生成制品来说还存在改善的余地。专利文献3、4中记载的专利技术试图通过热处理来提高膜的成型性，但是在深冲成型中的应用、即制造更深的成型容器方面还存在改善的余地。在由包含分子完全未进行取向的无拉伸膜作为阻隔层的层积膜来制造成型体的情况下，无拉伸膜的应力显著较低，因此通过成型而使无拉伸膜产生厚度斑，其结果，容易产生无拉伸膜(阻隔层)的厚度显著较薄的部位。由此，具有成型体的阻隔性能和强度容易不足的问题。另一方面，在由包含分子因拉伸而过度取向的拉伸膜作为阻隔层的层积膜来制造成型体的情况下，拉伸膜的应力显著较高，因而成型性不充分。因此，例如若利用模塞而强行成型，则拉伸膜会产生厚度斑，其结果，成型体中容易产生拉伸膜(阻隔层)的厚度极薄的部位。本专利技术是鉴于上述实际情况而进行的，其目的在于提供一种具有某种程度的深度且具有足够高的阻隔性的成型体及其制造方法。用于解决课题的方案本专利技术人为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，在将包含阻隔层的层积膜加工成成型体后，为了将阻隔层的厚度保持为某个一定厚度以上，将膜的分子取向度保持在适度范围是有用的，由此完成了本专利技术。即，本专利技术如下所述。[1]一种成型体，其为将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体，所述成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为B的内面，在内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12以上。[2]如[1]所述的成型体，其中，内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为3.6以上7以下。[3]如[1]或[2]所述的成型体，其中，阻隔层在120℃条件下的热收缩率为1％以上5％以下。[4]如[1]～[3]的任一项所述的成型体，其中，阻隔层为聚偏二氯乙烯系膜。[5]如[4]所述的成型体，其中，聚偏二氯乙烯系膜的膜截面的二色性比为1.2～1.8。[6]如[4]或[5]所述的成型体，其中，聚偏二氯乙烯系膜的厚度为8μm～50μm。[7]如[1]～[6]的任一项所述的成型体，其中，在该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上0.5以下，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.1以上0.5以下。[8]一种成型体的制造方法，其为制造[1]～[7]的任一项所述的成型体的方法，该制造方法具备以下工序：实施热处理的工序，在Tm－30℃以上的温度条件下对包含熔点为Tm℃的树脂的阻隔膜实施热处理；制作层积膜的工序，该层积膜包含实施了所述热处理的阻隔膜作为阻隔层；和将所述层积膜成型为成型体的工序，其中，在内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，使阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，使阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12以上。[9]如[8]所述的成型体的制造方法，其中，实施热处理的工序和制作层积膜的工序通过挤出层压来实施。专利技术的效果根据本专利技术，可以提供一种具有某种程度的深度且具有足够高的阻隔性的成型体。附图说明图1是示出本专利技术的成型体的实施方式的立体图。图2是示出具有与图1所示的成型体不同的深度的成型体的立体图。图3是示出本专利技术的成型体的其它实施方式的立体图。图4是示出本专利技术的成型体的其它实施方式的立体图。具体实施方式下面，对本专利技术的实施方式进行详细说明。以下的实施方式是用于说明本专利技术的例示，并不意味将本专利技术限定于以下的内容。本专利技术实施时可以在其要点的范围内适当变形。<成型体>图1、2是示出实施方式的成型体的立体图。成型体10A、10B是将具有阻隔层5的层积膜1成型而得到的，用于容纳应当避免与氧或水蒸气接触的食品、化学药品或其它的制品。如图1、2所示，成型体10A、10B具备构成用于容纳内容物的空间的容纳部2、和贴合有盖(未图示)的法兰部3。容纳部2具有开口面积为A的开口2a和表面积为B的内面2b。在开口2a的外侧形成有法兰部3。在成型体中，内面2b的表面积B与开口2a的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下。成型体的表面积B与开口面积A之比B/A是层积膜1的成型时的伸长率的标准。需要说明的是，此处所说的内面2b的表面积B是指不包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成型体，其为将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体，所述成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为B的内面，在所述内面的表面积B与所述开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，所述阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，所述阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种成型体，其为将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体，
所述成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为
B的内面，在所述内面的表面积B与所述开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7
以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，所述阻隔层的最小厚度
TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于
300μm的情况下，所述阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12
以上。
2.如权利要求1所述的成型体，其中，所述内面的表面积B与所述开口的开口
面积A之比B/A为3.6以上7以下。
3.如权利要求1或2所述的成型体，其中，所述阻隔层在120℃条件下的热收缩
率为1％以上5％以下。
4.如权利要求1～3的任一项所述的成型体，其中，所述阻隔层为聚偏二氯乙烯
系膜。
5.如权利要求4所述的成型体，其中，所述聚偏二氯乙烯系膜的膜截面的二色
性比为1.2～1.8。
6.如权利要求4或5所述的成型体，其中，所述聚偏二氯乙烯系膜的厚度为
8μm～50μm。
7.如权利要求1～6的任一项所述的成型体，其中，在该成型体的厚度的...

【专利技术属性】
技术研发人员：松村忠佳，奥田畅，
申请(专利权)人：旭化成化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP