一种等离子发射检测器制造技术

一种等离子发射检测器，包括等离子发光室、反射光组件、滤光组件、光电倍增管、信号处理器，所述反射光组件设置在等离子发光室的左侧，所述滤光组件设置在等离子发光室的右侧，所述滤光组件的右侧依次设置有光电倍增管、信号处理器；所述等离子发光室包括测量池，所述测量池上设置有气体入口。本实用新型专利技术与现有技术相比，通过增加反射光组件，提高等离子体发光的收集效率，且可明显提高等离子检测器的检测限。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种检测器，尤其涉及一种等离子发射检测器。
技术介绍
等离子发射检测器是一种选择性的检测器，随着电子和材料科学的发展，等离子 体技术取得了较大的发展，在基础工业和高科技领域获得了广泛的应用。加拿大LDetek仪 器公司创建者早在20世纪90年代就成功地将等离子技术和特殊的滤光（opticalfilter) 技术结合，将等离子技术成功地应用于气相色谱仪，并且取得了非常好的效果，广泛应用于 高纯气体、特种气体、石油化工和煤化工等行业。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种新型的等离子发射检测器，提高等离子检测器的检 测限。 本技术的目的是通过以下技术方案实现的： -种等离子发射检测器，包括等离子发光室、反射光组件、滤光组件、光电倍增管、 信号处理器，所述反射光组件设置在等离子发光室的左侧，所述滤光组件设置在等离子发 光室的右侧，所述滤光组件的右侧依次设置有光电倍增管、信号处理器；所述等离子发光室 包括测量池，所述测量池上设置有气体入口。 上述的一种等离子发射检测器，其中，所述测量池为石英小池，在所述石英小池的 周围设置有高频的电磁场。 上述的一种等离子发射检测器，其中，所述反射光组件为凹面镜。 载气和杂质气体从气体入口进入测量池中，在高频、高强电磁场的作用下载气和 杂质气体被电离为等离子体。等离子体具有较高的能量，当样品进入检测器的石英小池之 后，被等离子体电离并发出不同波长的光。 根据不同组分发出不同波长的光设计不同的滤光组件，主组分发出的光不能通过 被检测组分的滤光组件，这样就避免了主组分的干扰，光信号经光电倍增管转化为电信号。 在等离子发光室的左侧增加反光的反射光组件，通过光反射原理，将从等离子发 光室中散射出来的光反射到滤光组件，过滤杂色光，通过光电倍增管转变成电信号输出至 信号处理器，在信号积分处理软件中得到峰高。 综上所述，由于采用了上述技术方案，本技术与现有技术相比，通过增加反射 光组件，提高等离子体发光的收集效率，且可明显提高等离子检测器的检测限。【附图说明】 图1是本技术一种等离子发射检测器的结构示意图； 图2是本技术一种等离子发射检测器的原理图。【具体实施方式】 下面结合附图对本技术的【具体实施方式】作详细介绍。请参见图1、图2,一种等离子发射检测器，包括等离子发光室2、反射光组件1、滤 光组件3、光电倍增管4、信号处理器5,所述反射光组件1设置在等离子发光室2的左侧，所 述滤光组件3设置在等离子发光室2的右侧，所述滤光组件3的右侧依次设置有光电倍增 管4、信号处理器5 ;所述等离子发光室2包括测量池21，所述测量池21上设置有气体入口 22〇测量池21为石英小池，在石英小池的周围设置有高频、高强度的电磁场。载气和 杂质气体从气体入口进入测量池中，在高频、高强电磁场的作用下载气和杂质气体被电离 为等离子体。等离子体具有较高的能量，当样品进入检测器的石英小池之后，被等离子体电 离并发出不同波长的光。根据不同组分发出不同波长的光设计不同的滤光组件3,主组分发出的光不能通 过被检测组分的滤光组件3,这样就避免了主组分的干扰，光信号经光电倍增管转化为电信 号。在等离子发光室2的左侧增加反光的反射光组件1，反射光组件1为凹面镜，通过 光反射原理，将从等离子发光室2中散射出来的光反射到滤光组件3,过滤杂色光，通过光 电倍增管4转变成电信号输出至信号处理器5,在信号积分处理软件中得到峰高。 下面是数据比对结果： 载气：He，标准气体CH4 :lOppm，底气He【主权项】1. 一种等离子发射检测器，其特征在于，包括等离子发光室、反射光组件、滤光组件、 光电倍增管、信号处理器，所述反射光组件设置在等离子发光室的左侧，所述滤光组件设置 在等离子发光室的右侧，所述滤光组件的右侧依次设置有光电倍增管、信号处理器； 所述等离子发光室包括测量池，所述测量池上设置有气体入口。2. 根据权利要求1所述的一种等离子发射检测器，其特征在于，所述测量池为石英小 池，在所述石英小池的周围设置有高频的电磁场。3. 根据权利要求1所述的一种等离子发射检测器，其特征在于，所述反射光组件为凹 面镜。【专利摘要】一种等离子发射检测器，包括等离子发光室、反射光组件、滤光组件、光电倍增管、信号处理器，所述反射光组件设置在等离子发光室的左侧，所述滤光组件设置在等离子发光室的右侧，所述滤光组件的右侧依次设置有光电倍增管、信号处理器；所述等离子发光室包括测量池，所述测量池上设置有气体入口。本技术与现有技术相比，通过增加反射光组件，提高等离子体发光的收集效率，且可明显提高等离子检测器的检测限。【IPC分类】G01N21-552【公开号】CN204439545【申请号】CN201520147673【专利技术人】杨任, 王涵文 【申请人】常州磐诺仪器有限公司【公开日】2015年7月1日【申请日】2015年3月16日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子发射检测器，其特征在于，包括等离子发光室、反射光组件、滤光组件、光电倍增管、信号处理器，所述反射光组件设置在等离子发光室的左侧，所述滤光组件设置在等离子发光室的右侧，所述滤光组件的右侧依次设置有光电倍增管、信号处理器；所述等离子发光室包括测量池，所述测量池上设置有气体入口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨任，王涵文，
申请(专利权)人：常州磐诺仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32