栽种山葵的方法技术

一种栽种山葵的方法，是在一般平地的温室场地内的栽种面积范围予以铺设有砾石，其中砾石为直径在1-7公分，并经清洗表面及消毒内部，使其栽种场地所铺设的砾石厚度在30-80公分，而砾石场地上方及四周并架设有管路、风扇、感应器，使其连结到感应控制系统，再将经无菌组织栽培出的山葵育苗栽种在砾石场地，定时、定量地喷洒纯净水分，且整个场地维持在14-24℃温度及70-100%湿度、以形成如同处在具湿荫且寒冷的天然环境，再定时、定量地喷洒经调配过的养料来在无虫害、无重金属成份农药的条件中成长；待收成之后，得将砾石场地予以做清洗并消毒，之后使其重新铺设以为再做栽种使用该场地，是达到短时间即可再利用栽种的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，是在一般平地的温室场地内的栽种面积范围予以铺设有砾石，且在砾石场地上方及四周并架设有管路、风扇、感应器，使其连结到感应控制系统，如此使山葵育苗得以栽种如同处在天然的高地环境中成长；当收成之后得可将该场地做清洗并消毒，以为重新铺设再做栽种，以达到短时间即可再利用栽种的目的。
技术介绍
按，一般国人对于本岛种植的山葵(哇沙米)产地记忆，即为阿里山的高海拔山地为印象，原因即在地处高山林地，其日、夜气候温差大(5-10°C )，其环境系在林荫之中，使湿度相当充足，不仅如此，由于该环境为原始地表，加上又为国有地，在少有人进入情形下，是少数不为人工污染伤害，造成即适合山葵成长。然而，由于山葵系重养份的作物，在土壤栽种时便得供应足够的农肥方能成长，且以这样的自然地生长至收成大约要三至三年六个月的时间，且当在采收之后，其原耕地必需休耕六至九年的时间之后才能再重新栽种，也就是说在原地九至十二年时间仅有一次的收成机会，若为了再有收入的话，便是再另寻它地一途了，而其它地可能较不如原先地的品质，这样遂导致种植的品质会往下降，且还会因种地的品质及面积变差而不易生长，是阿里山的山葵产量便逐年骤减。且，由于山葵系重养份的作物，因此便得在土壤栽种时供应足够的农肥方能成长，无形中也存有「硝酸盐」类成份，当经人体的消化系统分解成亚硝酸盐后若再与胺类结合、则形成亚硝酸胺，而亚硝酸胺是对人体有害的；因此如何栽种出无毒害的山葵、而又可以缩短休耕时间，乃是农栽者急切需要的。因此，申请人遂依多年有关从事的经验及研究结果，终于开发出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，使山葵育苗得以栽种如同处在天然的高地环境中成长；当收成之后得可将该场地做清洗并消毒，以为重新铺设再做栽种，俾以达到短时间即可再利用栽种的目的。为实现上述目的，本专利技术公开了一种，其特征在于:所述方法在一般平地的温室场地内的栽种面积范围予以铺设有砾石，其中砾石为直径在1-7公分，并经清洗表面及消毒内部，使其栽种场地所铺设的砾石厚度在30-80公分，而砾石场地上方及四周并架设有连结到感应控制系统的管路、风扇和感应器，再将经无菌组织栽培出的山葵育苗栽种在5乐石场地中，配合感应控制系统以定时、定量地嗔洒纯净水分，且在风扇吹动造成凉冷气流的不断移动情形下，使整个场地维持在14-24°C温度及70-100%湿度的环境，再由感应控制系统以定时、定量地喷洒经调配过的养料来供山葵在无虫害、无重金属成份农药的条件中成长；待山葵在成长并予收成之后，得将原先已栽种过的砾石场地予以做清洗并消毒，之后使其重新铺设以为再做栽种使用以达到短时间即可再利用栽种的目的。通过上述方法，本专利技术实现了如下技术效果:1、使山葵在无虫害、无重金属成份农药的条件中成长；并达到短时间即可再利用栽种的目的。2、供山葵成长的砾石场地系可以层层做迭放，以充份利用温室空间。3、感应控制系统并具有监控供水品质及场地的温、湿度情形，并予连结至记录系统供日后检视、追足示。4、不再以高山地点、采过量农肥施洒的传统栽种方式进行了，不仅让原来的自然大地得以有较多的时间歇息外，也因而不再受农肥的污染，以为人与自然的平衡共处。【附图说明】图1:本专利技术的场地图示。图2:本专利技术中场地供成长的图示(一)。图3:本专利技术中场地供成长的图示(二)。图4:本专利技术中场地供成长的图不(三)。图5:本专利技术中场地供成长的图示(四)。图6:本专利技术中另一形态场地的图示。【具体实施方式】首先，敬请参阅如图1所示详细说明:本专利技术涉及一种，是在一般平地搭建温室场地，并在温室场地中架设有管路1、风扇2、感应器，使其连结到感应控制系统，如此以为管路I内的水源得呈定时、定量地喷洒纯净水分W及风扇2的吹动，以为整个场地维持在14-24°C温度及70-100%湿度条件，是如同处在具湿荫且寒冷的天然环境般，之后得将铺设有多数的砾石3，其砾石3以直径在1-7公分内、并以4-67公分范围为主体，使其每一砾石3皆经过清洗及消毒后，才予铺设成厚度约在30-80公分深的砾石场地，其砾石场地可为单一层面铺设之外(如图1)，亦可做多层次的叠放排列(如图6)，以为充份利用该温室的空间，同时感应控制系统并具有监控供水品质及场地的温、湿度情形，并予连结至记录系统供日后检视、追足示。如此一来，藉由在砾石场地上方及四周所架设有管路1、风扇2、感应器并连结到感应控制系统，遂将经无菌组织栽培出的山葵4育苗得以栽种在砾石场地中，配合感应控制系统中管路I内的水源得呈定时、定量地喷洒纯净水分W，并在风扇2吹动而造成凉冷气流的不断移动情形下，是整个场地维持在14-24°C温度及70-100%湿度，再同样地由该感应控制系统以定时、定量地喷洒经调配过的养料来供山葵4在无虫害、无重金属成份农药的条件中逐渐成长(如图2、3、4、5)。如此以「砾石耕作」方式栽种山葵4，由于皆以人工的完全监控情形下，不仅每一山葵4的生长速度几近一致外，其各个品质亦是相同，是约在20个月时间成长后即可在收成。之后得将原先已栽种过的砾石场地全部取出后做全盘性的清洗并消毒，再重新铺设以为再做栽种使用；由于该栽种过的「生长地」是可以在短时间经由清洗作业的「人工化」处理之后即予再做栽种利用，且生长期约在20个月时间而已，皆较原先自然地生长要三年时间左右及还要经「自然化」的六至九年时间休耕荒置方式，乃大量地缩减时程；如此也因而提升农栽者的收入。此若是再以多层次的迭放排列(如图6)方式，则更能增加山葵4的产能；如此，便可不再以高山地点、采过量农肥施洒的传统栽种方式进行了，不仅让原来的自然大地得以有较多的时间歇息外，也因而不再受农肥的污染，以为人与自然的平衡共处。【主权项】1.一种，其特征在于:所述方法在一般平地的温室场地内的栽种面积范围予以铺设有砾石，其中砾石为直径在1-7公分，并经清洗表面及消毒内部，使其栽种场地所铺设的砾石厚度在30-80公分，而砾石场地上方及四周并架设有连结到感应控制系统的管路、风扇和感应器，再将经无菌组织栽培出的山葵育苗栽种在砾石场地中，配合感应控制系统以定时、定量地喷洒纯净水分，且在风扇吹动造成凉冷气流的不断移动情形下，使整个场地维持在14-24°C温度及70-100%湿度的环境，再由感应控制系统以定时、定量地喷洒经调配过的养料来供山葵在无虫害、无重金属成份农药的条件中成长；待山葵在成长并予收成之后，得将原先已栽种过的砾石场地予以做清洗并消毒，之后使其重新铺设以为再做栽种使用以达到短时间即可再利用栽种的目的。【专利摘要】一种，是在一般平地的温室场地内的栽种面积范围予以铺设有砾石，其中砾石为直径在1-7公分，并经清洗表面及消毒内部，使其栽种场地所铺设的砾石厚度在30-80公分，而砾石场地上方及四周并架设有管路、风扇、感应器，使其连结到感应控制系统，再将经无菌组织栽培出的山葵育苗栽种在砾石场地，定时、定量地喷洒纯净水分，且整个场地维持在14-24℃温度及70-100%湿度、以形成如同处在具湿荫且寒冷的天然环境，再定时、定量地喷洒经调配过的养料来在无虫害、无重金属成份农药的条件中成长；待收成之后，得将砾石场地予以做清洗并消毒，之后使其重新铺设以为再做栽种使用该场地，是达到短时间即可再利用栽种的目的。【IPC本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种栽种山葵的方法，其特征在于：所述方法在一般平地的温室场地内的栽种面积范围予以铺设有砾石，其中砾石为直径在1‑7公分，并经清洗表面及消毒内部，使其栽种场地所铺设的砾石厚度在30‑80公分，而砾石场地上方及四周并架设有连结到感应控制系统的管路、风扇和感应器，再将经无菌组织栽培出的山葵育苗栽种在砾石场地中，配合感应控制系统以定时、定量地喷洒纯净水分，且在风扇吹动造成凉冷气流的不断移动情形下，使整个场地维持在14‑24℃温度及70‑100%湿度的环境，再由感应控制系统以定时、定量地喷洒经调配过的养料来供山葵在无虫害、无重金属成份农药的条件中成长；待山葵在成长并予收成之后，得将原先已栽种过的砾石场地予以做清洗并消毒，之后使其重新铺设以为再做栽种使用以达到短时间即可再利用栽种的目的。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡忠良，
申请(专利权)人：蔡忠良，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71