【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，属于金属表面处理领 域。
技术介绍
利用气体放电产生等离子体对金属表面进行改性是一种新型的处理手段，相比于 传统的电镀，涂覆，抛光等在不影响使用情况下具有污染小，均匀性好等特点。因此产生诸 如等离子体辅助化学气相沉积（PACVD)，等离子体渗氮、渗碳，离子注入等方法，并在特殊零 件加工，航天航空，医学上都有较好的应用价值，但由于其产生条件较为苛刻，难以在大规 模场合得到应用。随着对等离子体技术的研宄进一步深入，在此基础上，研宄发现一种新型 的放电形式，能够在常压下无需介质阻挡产生类似辉光的放电形态，定义为弥散放电。俄 罗斯的Tomsk研宄所率先开始研宄，发现此种放电形式能够在材料表面发生一系列复杂的 物理、化学反应，且在纳秒脉冲电源下传输到材料表层的功率系数可以达到每立方厘米数 百兆瓦。最后，由弥散放电产生的等离子体除了包含普通气体放电存在的等离子体外还能 够产生各种光学辐射（包括紫外线UV、真空紫外线VUV、X射线等），不仅能够弥补此前等离 子体应用的苛刻条件，还具有良好的处理效果。因此利用弥散放电对金属表面处理具有重 要意义。 现...
【技术保护点】
一种等离子体处理金属表面的实验装置，其特征在于，包括：实验腔(7)，其为空心圆轴状结构；所述实验腔(7)两端分别通过法兰盘A(19)和法兰盘B密封，所述法兰盘A(19)设有进气口(12)，所述法兰盘B设有出气口(16)；其中，所述实验腔(7)的进气口(12)经过阀门控制器(9)分别连接气体流量控制器(11)的输出端和抽气泵(8)，所述气体流量控制器(11)的输入端连接气瓶(10)；所述实验腔(7)的出气口(16)连接集气瓶(5)；所述实验腔(7)顶部经过铜电极A(14)连接高压纳秒脉冲电源(2)阳极，所述实验腔(7)底部经过铜电极B(20)接入地电极；所述高压纳秒脉冲电源(...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：邵涛，周中升，章程，王瑞雪，严萍，
申请(专利权)人：中国科学院电工研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11
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