一种外延片拉曼散射光谱数据生成方法技术

本发明专利技术公开了一种外延片拉曼散射光谱数据生成方法，属于半导体材料制造设备技术领域。该方法在石墨盘旋转的情况下，通过控制采集数据的时间间隔及每个数据采集周期对应的起始外延片，可以使采集的数据遍历布设在石墨盘外周上的所有外延片，即得到布设在石墨盘外周上的所有外延片拉曼散射光谱数据，从而，本发明专利技术提供的外延片拉曼散射光谱数据生成方法能够连续、自动生成布设在石墨盘外周上的外延片拉曼散射光谱数据。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及本专利技术涉及半导体材料制造设备
，特别涉及。
技术介绍
光照射到物质上时会发生散射。在发生散射时，少部分散射光的波长会增大或者减小，即发生拉曼散射，拉曼散射对应的光谱称为拉曼光谱。拉曼光谱属于分子的振动光谱。每一种物质都有自己的特征拉曼光谱，所以，拉曼光谱通常可以作为识别物质的“指纹”。金属有机化学气相沉积设备(MOCVD)是目前制备半导体材料的一种重要设备。目前，采用反射计与高温测定法结合，能够实现对半导体材料外延层的温度、厚度及应力状态灯的在线检测。通过在线光致发光光谱监测半导体材料外延片的拉曼散射光谱，分析半导体材料外延带隙、微结构、组分等信息，能够及时反馈半导体材料波长偏差，减小外延片质量差及报废带来的损失，从而提高外延片优良率并增加产能。现有技术中，参见附图1，外延片2通常在石墨盘I外周上布设一周，在这种情况下，用于生成外延片拉曼散射光谱数据的方法通常比较复杂而难以实现连续、自动生成。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提出了一种能够连续、自动生成布设在石墨盘外周上的外延片拉曼散射光谱数据的外延片拉曼散射光谱数据生成方法。本专利技术提供的外延片拉曼散射光谱数据生成方法包括以下步骤:根据石墨盘每转一圈需要的时间和采集数据的时间间隔，确定石墨盘每转一圈采集数据的次数，其中，石墨盘每转一圈需要的时间与采集数据的时间间隔的比值为正整数；根据石墨盘每转一圈采集数据的次数和布设在石墨盘外周上的外延片的数量，确定石墨盘在旋转的每一圈采集数据对应的各外延片，其中，布设在石墨盘外周上的外延片的数量与石墨盘每转一圈采集数据的次数的比值为正整数；以石墨盘每旋转两圈为一个数据采集周期，在每个数据采集周期内，当石墨盘旋转第一圈时，采集所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱；当石墨盘旋转第二圈时，采集所述对应的各外延片的背景光谱，则，所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱-所述对应的各外延片的背景光谱即生成在每个数据采集周期内所述对应的各外延片拉曼散射光谱数据；连续改变每个数据采集周期对应的起始外延片，使采集的数据遍历布设在石墨盘外周上的所有外延片，即得到布设在石墨盘外周上的所有外延片拉曼散射光谱数据。本专利技术提供的外延片拉曼散射光谱数据生成方法在石墨盘旋转的情况下，通过控制采集数据的时间间隔及每个数据采集周期对应的起始外延片，可以使采集的数据遍历布设在石墨盘外周上的所有外延片，即得到布设在石墨盘外周上的所有外延片拉曼散射光谱数据，从而，本专利技术提供的外延片拉曼散射光谱数据生成方法能够连续、自动生成布设在石墨盘外周上的外延片拉曼散射光谱数据。【附图说明】图1为外延片在石墨盘外周上布设的方式示意图；图2为本专利技术提供的外延片拉曼散射光谱数据生成方法的流程图。【具体实施方式】为了深入了解本专利技术，下面结合附图及具体实施例对本专利技术进行详细说明。参见附图1，本专利技术提供的外延片2拉曼散射光谱数据生成方法包括以下步骤:步骤1:根据石墨盘I每转一圈需要的时间和采集数据的时间间隔，确定石墨盘I每转一圈采集数据的次数，石墨盘I每转一圈需要的时间与采集数据的时间间隔的比值为正整数，从而保证石墨盘I连续旋转时能够实现数据采集；步骤2:根据石墨盘I每转一圈采集数据的次数和布设在石墨盘I外周上的外延片2的数量，确定石墨盘I在旋转的每一圈采集数据对应的各外延片2，布设在石墨盘I外周上的外延片2的数量与石墨盘I每转一圈采集数据的次数的比值为正整数，从而保证石墨盘I连续旋转时能够实现数据采集；步骤3:以石墨盘I每旋转两圈为一个数据采集周期，在每个数据采集周期内，当石墨盘I旋转第一圈时，采集对应的各外延片2的拉曼散射光谱及背景光谱；当石墨盘I旋转第二圈时，采集对应的各外延片2的背景光谱，则，对应的各外延片2的拉曼散射光谱及背景光谱-对应的各外延片2的背景光谱即生成在每个数据采集周期内对应的各外延片2拉曼散射光谱数据；步骤4:连续改变每个数据采集周期对应的起始外延片2，使采集的数据遍历布设在石墨盘I外周上的所有外延片2，即得到布设在石墨盘I外周上的所有外延片2拉曼散射光谱数据。其中，作为采集对应的各外延片2的拉曼散射光谱及背景光谱的仪器的一种具体的实现方式，用于采集对应的各外延片2的拉曼散射光谱及背景光谱的仪器为光谱仪。其中，作为采集对应的各外延片2的背景光谱的仪器的一种具体的实现方式，用于采集对应的各外延片2的背景光谱的仪器为光谱仪。实施例以石墨盘I上一圈排列有18片外延片2 ;石墨盘I转速为lOOOrpm，即石墨盘I每转一圈需要的时间为60ms;光谱仪每20ms米集一次数据为例。石墨盘I旋转第一圈可得到第1、7、13片外延片上的拉曼散射光与背景光的光谱，石墨盘I旋转第二圈可得到第1、7、13片外延片背景光谱；石墨盘I旋转第三圈得到第2、8、14处延片的拉曼散射光与背景光的光谱，石墨盘I旋转第四圈得到相应第2、8、14处延片的背景光谱……石墨盘I旋转第十一圈得到第6、12、18片外延片上的散射光谱与背景光的光谱，石墨盘I旋转第十二圈得到第6、12、18片外延片10上背景光谱。依此循环，逐次遍历石墨盘I外周上布设的所有外延片2。则，对应的各外延片2的拉曼散射光谱及背景光谱-对应的各外延片2的背景光谱即生成在每个数据采集周期内对应的各外延片2拉曼散射光谱数据。本专利技术提供的外延片2拉曼散射光谱数据生成方法在石墨盘I旋转的情况下，通过控制采集数据的时间间隔及每个数据采集周期对应的起始外延片2，可以使采集的数据遍历布设在石墨盘I外周上的所有外延片2，即得到布设在石墨盘I外周上的所有外延片2拉曼散射光谱数据，从而本专利技术提供的外延片2拉曼散射光谱数据生成方法能够连续、自动生成布设在石墨盘I外周上的外延片2拉曼散射光谱数据。以上所述的【具体实施方式】，对本专利技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本专利技术的【具体实施方式】而已，并不用于限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.，其特征在于，包括以下步骤: 根据石墨盘每转一圈需要的时间和采集数据的时间间隔，确定石墨盘每转一圈采集数据的次数，其中，石墨盘每转一圈需要的时间与采集数据的时间间隔的比值为正整数； 根据石墨盘每转一圈采集数据的次数和布设在石墨盘外周上的外延片的数量，确定石墨盘在旋转的每一圈采集数据对应的各外延片，其中，布设在石墨盘外周上的外延片的数量与石墨盘每转一圈采集数据的次数的比值为正整数； 以石墨盘每旋转两圈为一个数据采集周期，在每个数据采集周期内，当石墨盘旋转第一圈时，采集所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱；当石墨盘旋转第二圈时，采集所述对应的各外延片的背景光谱，则，所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱-所述对应的各外延片的背景光谱即生成在每个数据采集周期内所述对应的各外延片拉曼散射光谱数据； 连续改变每个数据采集周期对应的起始外延片，使采集的数据遍历布设在石墨盘外周上的所有外延片，即得到布设在石墨盘外周上的所有外延片拉曼散射光谱数据。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，用于采集所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱的仪器为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种外延片拉曼散射光谱数据生成方法，其特征在于，包括以下步骤：根据石墨盘每转一圈需要的时间和采集数据的时间间隔，确定石墨盘每转一圈采集数据的次数，其中，石墨盘每转一圈需要的时间与采集数据的时间间隔的比值为正整数；根据石墨盘每转一圈采集数据的次数和布设在石墨盘外周上的外延片的数量，确定石墨盘在旋转的每一圈采集数据对应的各外延片，其中，布设在石墨盘外周上的外延片的数量与石墨盘每转一圈采集数据的次数的比值为正整数；以石墨盘每旋转两圈为一个数据采集周期，在每个数据采集周期内，当石墨盘旋转第一圈时，采集所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱；当石墨盘旋转第二圈时，采集所述对应的各外延片的背景光谱，则，所述对应的各外延片的拉曼散射光谱及背景光谱‑所述对应的各外延片的背景光谱即生成在每个数据采集周期内所述对应的各外延片拉曼散射光谱数据；连续改变每个数据采集周期对应的起始外延片，使采集的数据遍历布设在石墨盘外周上的所有外延片，即得到布设在石墨盘外周上的所有外延片拉曼散射光谱数据。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严冬，李成敏，叶龙茂，王林梓，刘健鹏，刘涛，
申请(专利权)人：北京智朗芯光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11