【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括依次形成于衬底基板上的金属导电层、所述金属导电层上方的绝缘层和所述绝缘层上方的辅助导电层；所述金属导电层包括多条第一导线，所述辅助导电层包括多条第二导线，每一条所述第一导线对应至少一条所述第二导线；所述第二导线经所述绝缘层上的连接结构与相对应的所述第一导线电连接，所述连接结构的垂直投影位于所述阵列基板的非显示区内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张洁，李付强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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