一种具有压力响应特性的聚偏氟乙烯中空纤维膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种具有压力响应特性的聚偏氟乙烯中空纤维膜及其制备方法。具有压力响应特性的聚偏氟乙烯中空纤维膜是由10～25wt％的PVDF、0.5～10wt％的FKM、2～15wt％的致孔剂和50～87.5wt％的溶剂制成。本发明专利技术将FKM、PVDF、致孔剂依次加入到溶剂中，加热搅拌溶解3～24小时，静置脱泡2～12小时，制成铸膜液，然后通过干-湿相转化法制备成中空纤维膜。本发明专利技术制得的具有压力响应特性的聚偏氟乙烯中空纤维膜，具有压力响应特性，能提高膜的分离性能和抗污染性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，属于膜科学与膜材料

技术介绍
膜分离技术以其高效、节能、设备简单、操作方便、无污染等特点日益受到关注，并成为替代传统分离方法的有效技术。膜分离技术中的膜材料涉及高分子化学和高分子物理，膜材料的研制是膜分离技术中关键的一个方面。聚偏氟乙烯是一种热塑性半结晶高聚物，具有突出的耐溶剂、耐氧化、抗紫外线、耐老化、耐候等特性，而且它耐高温，化学性质稳定，是被公认的优质膜材料。聚偏氟乙烯(PVDF)中空纤维膜具有比表面积大、拉伸强度、抗冲击强度和耐磨性能均较好的特点，同时还具有极好的耐侯性和化学稳定性，在室温下不受酸、碱等强氧化剂和卤素腐蚀，对脂肪烃、芳香烃、醇和醛等有机溶剂也很稳定，已广泛应用于化工、电子、纺织、食品、生化等领域。但是，由于PVDF的天然疏水性，导致PVDF膜在运行过程中极易污染，通量下降，严重阻碍了 PVDF微滤和超滤膜技术的更大规模的工业应用。提高PVDF膜抗污染的方法主要是对其进行改性，目前常用的PVDF中空纤维膜改性方法主要从两方面考虑:一方面是在制膜前，采用某种方法，可以是接枝、共聚、共混，也可以是高能辐射等表面改性方法对膜材料进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有压力响应特性的聚偏氟乙烯中空纤维膜，其特征在于，原料组分如下，均为质量百分比：聚偏氟乙烯10～25％，氟橡胶0.5～10％，致孔剂2～15％，溶剂50～87.5％；所述致孔剂为聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、二氧化钛、氧化锂、氯化锂、溴化锂或高氯酸锂之一或两种以上的组合；所述溶剂为N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺、N‑甲基吡咯烷酮或二甲基亚砜之一。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王汉利，王军，杨亮，唐妮，
申请(专利权)人：山东华夏神舟新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37