本发明专利技术提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。【专利说明】 液处理装置
本专利技术涉及对用于对基板进行液处理的空间进行排气的技术。
技术介绍
在对作为基板的半导体晶圆(以下称为晶圆)供给各种处理液来进行液处理的单片式的液处理单元(液处理装置)中，向旋转的晶圆的表面供给碱性、酸性的药液，来去除晶圆表面的尘土、自然氧化物等。残存在晶圆表面的药液被冲洗液去除，若在使晶圆保持旋转的状态下停止冲洗液的供给，则残存的冲洗液被甩开而可获得干燥了的晶圆。在此，在晶圆的周围配置有用于回收处理液的回收杯(杯体)，液处理能够在朝向回收杯形成清洁气体的下降流(下降气流)的清洁的气氛中进行。 另一方面，在旋转的晶圆的上方，产生一边向晶圆的旋转方向形成漩涡一边从中央部侧朝向外周侧流动的涡流。有时包含药液的雾状物、蒸气滞留在回收杯的周围，这些成分有可能被在晶圆的上方产生的涡流卷起，再次附着于干燥后的晶圆而引起污染。 在此，在专利文献I中记载有如下基板处理装置:设有用于将容纳有基板保持部件和环绕在该基板保持部件的周围的筒状的杯的处理室内上下分隔的分隔壁，通过将处理室内较小地划分，使从杯向处理室内飞散的雾状物的置换效率提高。 但是，在专利文献I中对如下方法并没有任何公开:在雾状物等滞留在杯的周围等情况下，用于对因前述的涡流引起的基板的污染进行抑制的方法。 专利文献1:日本特开2010 - 192686号公报:段落0008?0010、图1
技术实现思路
_7] 专利技术要解决的问题 本专利技术是在这样的情况下做成的，其目的在于提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。 _9] 用于解决问题的方案 本专利技术的液处理装置，其将基板保持于旋转自如的基板保持部，并对基板供给处理液来进行液处理，其特征在于，该液处理装置包括:杯体，其包围上述基板保持部，并在基板上方设有开口 ；包围构件，其在比上述杯体靠外侧的位置将包括上述杯体的上方空间在内的区域包围；气流形成部，其用于从上述杯体的上侧起在杯体内形成下降气流；板部，其沿着上述杯体的周向设置，堵塞上述杯体和上述包围构件之间的间隙；以及排气口，其为了对位于上述板部上方的被上述包围构件和上述板部包围的区域进行排气而设于比上述杯体靠外侧的位置。 上述板部也可以设于上述板部的上表面与上述杯体的上端平齐的位置。 上述液处理装置也可以具有下述的结构。 (a)上述排气口朝向与切线交叉的方向开口，该切线以上述基板保持部的旋转中心为中心的圆的、沿着基板保持部的旋转方向延伸。 (b)上述包围构件具有划分壁，该划分壁从被上述包围构件和上述板部包围的区域划分、形成将被排出的气流向下侧引导的流路，上述排气口形成于该划分壁。或者，具有使从上述排气口被排出的气流向下侧流动的流路。沿着上述杯体的周向设有多个上述排气□。 (C)上述排气口设于俯视形状构成为矩形的上述包围构件的角部。或者上述包围构件构成为圆筒形状，在上述排气口设有用于将沿着圆筒形状的上述包围构件流动的气流向上述排气口引导的引导板。 (d)该液处理装置具有处理液供给机构，该处理液供给机构包括:喷嘴部，其用于向基板供给处理液；喷嘴臂，上述喷嘴部保持于该喷嘴臂的顶端部；旋转驱动部，其设于上述喷嘴臂的基端部，用于驱动上述喷嘴臂而使上述喷嘴臂以该基端部为中心进行旋转，从而使上述喷嘴部在被保持于上述基板保持部的基板的上方的处理位置和从该处理位置退避开的退避位置之间移动，上述旋转驱动部设于与上述排气口面临的位置。此时，上述包围构件具有分隔壁，该分隔壁用于将设有上述处理液供给机构的区域和上述杯体的上侧的空间分隔开，该分隔壁并设有用于供保持着上述喷嘴部的喷嘴臂通过的通过口，替代设于与上述旋转驱动部面临的位置的排气口，而将上述通过口作为排气口，对被上述包围构件和上述板部包围的区域进行排气，并且，从与上述旋转驱动部面临的位置起对设有该处理液供给机构的区域内进行排气。 (e)上述排气口是沿着上下方向延伸的狭缝。 或者，上述液处理装置也可以具有下述的结构。 (f)上述杯体具有用于接收向基板供给的处理液的第I杯、自上方覆盖上述第I杯的第2杯，在上述第I杯和上述第2杯之间形成有排气路径， 上述板部以与上述第2杯之间没有间隙的方式设置。 (g)上述板部具有第I板部、设于上述第I板部的上侧的第2板部，上述排气口形成于上述第2板部。另外，在上述第I板部和上述第2板部之间形成有缓冲空间，上述第I板部与排气部相连接。 (h)上述排气口以沿着上述包围构件延伸的方式形成于上述板部的与上述包围构件靠近的位置。另外，在上述基板保持部的上侧设有用于在被上述包围构件和上述板部包围的区域形成下降气流的下降气流形成部。 (i)该液处理装置具有处理液供给机构，该处理液供给机构包括:喷嘴部，其用于向基板供给处理液；喷嘴臂，上述喷嘴部保持于该喷嘴臂的顶端部的；旋转驱动部，其设于上述喷嘴臂的基端部，用于驱动上述喷嘴臂而使上述喷嘴臂以该基端部为中心进行旋转，从而使上述喷嘴部在被保持于上述基板保持部的基板的上方的处理位置和从该处理位置退避开的退避位置之间移动，上述退避位置被设定于上述处理液供给机构的喷嘴臂处于该退避位置时该喷嘴臂沿着上述包围构件延伸的位置，上述排气口配置在使上述喷嘴臂退避到该退避位置的处理液供给机构和上述包围构件之间。 专利技术的效果 本专利技术能够利用被形成在保持于基板保持部并旋转的基板的上方的涡流而将流出到杯体的周围的清洗液的成分从排气口高效地排出。 【专利附图】【附图说明】 图1是表示具有本专利技术的实施方式的处理单元的基板处理系统的概要的俯视图。 图2是表示上述处理单元的概要的纵剖侧视图。 图3是表示上述处理单元的详细情况的俯视图。 图4是上述处理单元的上部侧区域的放大纵剖视图。 图5是设于上述处理单元的排气用的狭缝、处理液供给机构的配置区域的放大立体图。 图6是第2实施方式的处理单元的纵剖视图。 图7是第3实施方式的处理单元的纵剖视图。 图8是第4实施方式的处理单元的横剖俯视图。 图9是第5实施方式的处理单元的横剖俯视图。 图10是上述第5实施方式的处理单元的纵剖侧视图。 图11是从其他方向观察上述第5实施方式的处理单元的纵剖侧视图。 【具体实施方式】 图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。以下，为了明确位置关系，规定彼此正交的X轴、Y轴和Z轴，将Z轴正方向设为铅垂向上方向。 如图1所示,基板处理系统I具有输入输出站2和处理站3。输入输出站2和处理站3相邻地设置。 输入输出本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液处理装置，其将基板保持于旋转自如的基板保持部，并对基板供给处理液来进行液处理，其特征在于，该液处理装置包括：杯体，其包围上述基板保持部，并在基板上方设有开口；包围构件，其在比上述杯体靠外侧的位置将包括上述杯体的上方空间在内的区域包围；气流形成部，其用于从上述杯体的上侧起在杯体内形成下降气流；板部，其沿着上述杯体的周向设置，堵塞上述杯体和上述包围构件之间的间隙；以及排气口，其为了对位于上述板部上方的被上述包围构件和上述板部包围的区域进行排气而设于比上述杯体靠外侧的位置。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：胁山辉史，伊藤规宏，东岛治郎，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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