一种可调阴极的对靶磁控溅射系统技术方案

针对溅射过程中，靶材的不均匀轰击的问题，本实用新型专利技术提供一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其中，底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上；底部靶材和顶部靶材相对；底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反；可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。本实用新型专利技术在底部靶材和顶部靶材之间形成均匀的磁场，能够均匀的溅射靶材，当底部靶材消耗一定的程度之后，通过可调电源能够调节阴极，开始使用顶部靶材。本实用新型专利技术能够均匀的溅射靶材，大大提高靶材的利用率。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】针对溅射过程中，靶材的不均匀轰击的问题，本技术提供一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其中，底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上；底部靶材和顶部靶材相对；底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反；可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。本技术在底部靶材和顶部靶材之间形成均匀的磁场，能够均匀的溅射靶材，当底部靶材消耗一定的程度之后，通过可调电源能够调节阴极，开始使用顶部靶材。本技术能够均匀的溅射靶材，大大提高靶材的利用率。【专利说明】—种可调阴极的对靶磁控溅射系统
本技术涉及磁控溅射系统及其附件领域，尤其涉及到一种可调阴极的对靶磁控溅射系统。
技术介绍
磁控溅射是一种重要的薄膜沉积技术。在实际应用中，在磁场的作用下，氩离子不断的轰击靶材，且这种轰击不是均匀轰击的，在靶材上面形成一定的沟槽，当沟槽打穿之后，整个靶材也就浪费了。
技术实现思路
针对溅射过程中，靶材的不均匀轰击的问题，本技术提供一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，能够均匀的溅射靶材，大大提高靶材的利用率。本技术所采取的技术方案为，一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其中，底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上；底部靶材和顶部靶材相对；底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反；可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。 本技术在底部靶材和顶部靶材之间形成均匀的磁场，能够均匀的溅射靶材，当底部靶材消耗一定的程度之后，通过可调电源能够调节阴极，开始使用顶部靶材。本技术能够均匀的溅射靶材，大大提高靶材的利用率。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术的结构示意图。 图中:1底部基体、2底部磁钢、3底部靶材、4顶部基体、5顶部磁钢、6顶部靶材、7可调电源。 【具体实施方式】 以下结合附图实施例对本技术作进一步详细描述。 图1为本技术的结构示意图，底部基体1、底部磁钢2、底部靶材3、顶部基体4、顶部磁钢5、顶部靶材6、可调电源7，其中，底部磁钢2安装在底部基体I上，底部靶材3安装在底部磁钢2上，顶部磁钢5安装在顶部基体4上，顶部靶材6安装在顶部磁钢5上；底部靶材3和顶部靶材6相对；底部磁钢2和顶部磁钢5的磁极性相反；可调电源7的两端分别与底部磁钢2和顶部磁钢5相连接。本技术在底部靶材3和顶部靶材6之间形成均匀的磁场，能够均匀的溅射靶材，当底部靶材3消耗一定的程度之后，通过可调电源7能够调节阴极，开始使用顶部靶材6。本技术能够均匀的溅射靶材，大大提高靶材的利用率。 以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下，本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。【权利要求】1.一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其特征在于: 所述的底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上； 所述的底部靶材和顶部靶材相对； 所述的底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反； 所述的可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。【文档编号】C23C14/50GK204237861SQ201420609556【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年10月16日 优先权日:2014年10月16日 【专利技术者】吴文亮 申请人:吴文亮本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其特征在于：所述的底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上；所述的底部靶材和顶部靶材相对；所述的底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反；所述的可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴文亮，
申请(专利权)人：吴文亮，
类型：新型
国别省市：浙江;33