本发明专利技术涉及显示技术领域，公开了一种显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置。所述显示基板包括光栅，其中，光栅分两个步骤形成：首先通过性质稳定(包括抗腐蚀，不易脱落等)的中介层形成间隔分布的条纹图案，然后利用中介层或衬底基板吸附不透光材料形成遮光条纹。并在两个步骤之间形成所需的各显示膜层。由于所述中介层不需要具有足够低的透光率，厚度较薄，使得形成显示膜层时可以牢固吸附衬底基板，而且稳定的特性使得中介层不会污染形成显示膜层的工艺腔室，提高了三维显示装置和双视场显示装置的良率，降低了工艺难度。
【技术实现步骤摘要】
显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
光栅制作是三维显示和双视场显示中的重要技术。其中，光栅由一组遮光条纹和间隔其中的透光条纹组成。 现有技术中，光栅可以使用对黑色光刻胶进行光刻的方法制作，具体过程为: 在透明基板上涂敷黑色光刻胶； 对黑色光刻胶进行高温烘烤，使其变硬； 利用掩膜板对光刻胶进行曝光； 将基板连同曝光后的光刻胶一起放置在显影液中，进行显影，曝光的光刻胶就会被保留，未曝光的光刻胶就会被清洗掉，从而形成遮光条纹和间隔其中的透光条纹。 在液晶显示器件中，为了满足轻薄需求，将光栅制作在液晶显示面板的外表面。其中，液晶显示面板包括对盒的彩膜基板和阵列基板，光栅可以制作在彩膜基板上，也可以制作在阵列基板上。以光栅制作在彩膜基板上为例，如果先在衬底基板上形成光栅，然后再将该衬底基板翻转，进行后续的彩膜制作和成盒工艺，那么，一方面因为光栅包含黑色颜料，很可能会污染后续工艺的腔室。另一方面为了在光栅的遮光区获得足够低的透过率，则黑色条纹的厚度往往为1-3微米，这样会在后续真空吸附时出现吸不住衬底基板的情况。而如果先完成彩膜制作和对盒工艺，然后在彩膜基板的外表面进行光栅制作，又存在液晶盒需要经过高温烘烤和在显影液中浸泡可能造成的腐蚀、液晶在紫外光照射下可能变性等问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示基板和显示面板及其制作方法，用以解决在显示面板的外表面制作光栅时，会对显示基板和显示面板及其制作工艺产生影响的问题。 本专利技术还提供一种显示装置，包括上述的显示面板，用以提高显示装置的良率。 为解决上述技术问题，本专利技术实施例中提供一种显示基板的制作方法，包括形成光栅的步骤，其中，形成光栅的步骤包括: 在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层，所述中介层具有间隔分布的条纹图案，所述中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附某种不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性； 在衬底基板上形成所述中介层之后，在衬底基板上形成所述包括不透光材料的膜层之前，所述制作方法还包括: 在所述衬底基板与所述中介层相对的表面形成所需的各显示膜层； 在形成有所述中介层的所述衬底基板表面形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹。 如上所述的制作方法，优选的是，通过对中介层或衬底基板进行处理使其带电，来使其具有吸附所述不透光材料的特性。 如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层为透明材料。 如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层为有机材料； 对所述衬底基板形成有中介层的表面进行摩擦起电，使得所述衬底基板具有吸附所述不透光材料的特性。 如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层为导电材料； 通过对所述中介层施加电压，使得所述中介层具有吸附所述不透光材料的特性。 如上所述的制作方法，优选的是，在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层的步骤具体包括: 在所述衬底基板上形成导电膜层； 对所述导电膜层进行光刻工艺，形成间隔分布的条纹图案。 如上所述的制作方法，优选的是，所述不透光材料为碳粉。 如上所述的制作方法，优选的是，在所述衬底基板上形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹的步骤具体为: 将碳粉撒在所述衬底基板和中介层上，碳粉被所述中介层或衬底基板吸附，形成遮光条纹，去除未吸附的碳粉，形成位于所述遮光条纹之间的透光条纹。 如上所述的制作方法，优选的是，形成光栅的步骤还包括: 在所述遮光条纹和透光条纹上形成保护层。 如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层具有抗腐蚀性，并与衬底基板粘接牢固。 本专利技术实施例中还提供一种显示基板，包括光栅，所述光栅包括: 设置在衬底基板表面的中介层，所述中介层性质稳定，具有间隔分布的条纹图案； 覆盖在所述中介层条纹上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹，或， 覆盖在所述中介层条纹之间的衬底基板上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹。 如上所述的显示基板，优选的是，所述光栅还包括: 覆盖在所述遮光条纹和透光条纹上的保护层。 如上所述的显示基板，优选的是，所述中介层为导电材料。 如上所述的显示基板，优选的是，所述中介层为有机材料。 如上所述的显示基板，优选的是，所述不透光材料为碳粉。 本专利技术实施例中还提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括对盒的第一显示基板和第二显示基板，所述制作方法包括: 采用如上所述的制作方法形成所述第一显示基板。 如上所述的制作方法，优选的是，在形成中介层后对盒所述第一显示基板和第二显不基板。 本专利技术实施例中还提供一种显示面板，包括如上所述的显示基板。 如上所述的显示面板，优选的是，所述显示面板为液晶显示面板，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板； 所述显示基板为彩膜基板或阵列基板，所述显示面板的光栅位于彩膜基板的外表面或阵列基板的外表面。 本专利技术实施例中还提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。 本专利技术的上述技术方案的有益效果如下: 上述技术方案中，首先通过性质稳定的中介层在显示基板的一个表面形成光栅的条纹图案。然后在显示基板相对的另一个表面形成所需的各显示膜层。最后在衬底基板形成有中介层的表面形成包括所述不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成光栅的遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成光栅的透光条纹，从而完成显示基板及其上光栅的制作。由于所述中介层不需要具有足够低的透光率，厚度较薄，使得形成显示膜层时可以牢固吸附衬底基板。而且稳定的特性使得中介层不会污染工艺腔室。因此，在显示基板上制作光栅的工艺不会对显示基板及其制作工艺产生影响。 【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 图1-图4表示本专利技术实施例中液晶显示面板的制作过程示意图一； 图5表示本专利技术实施例中对盒彩膜基板和阵列基板后的结构示意图一； 图6表示本专利技术实施例中液晶显示面板的结构示意图一； 图7-图10表示本专利技术实施例中液晶显示面板的制作过程示意图二 ； 图11表示本专利技术实施例中对盒彩膜基板和阵列基板后的结构示意图二 ； 图12表示本专利技术实施例中液晶显示面板的结构示意图二 ； 【具体实施方式】 现有技术中，当显不基板与光栅为一体结构时，由于光栅的遮光条纹由黑色光刻胶制成，为了满足足够低的透光率，其厚度较厚，往往为几微米，造成后续形成显示膜层时衬底基板吸附不牢固的问题。而如果先形成显示膜层，则光栅的制作工艺会对显示膜层产生影响。 针对上述技术问题，本专利技术提供一种显示基板的制作方法，所述制作方法首先通过性质稳定的中介层在衬底基板的一个表面形成光栅的条纹图案，其中本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示基板的制作方法，包括形成光栅的步骤，其特征在于，形成光栅的步骤包括：在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层，所述中介层具有间隔分布的条纹图案，所述中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附某种不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性；在衬底基板上形成所述中介层之后，在衬底基板上形成所述包括不透光材料的膜层之前，所述制作方法还包括：在所述衬底基板与所述中介层相对的表面形成所需的各显示膜层；在形成有所述中介层的所述衬底基板表面形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，包括形成光栅的步骤，其特征在于，形成光栅的步骤包括: 在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层，所述中介层具有间隔分布的条纹图案，所述中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附某种不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性； 在衬底基板上形成所述中介层之后，在衬底基板上形成所述包括不透光材料的膜层之前，所述制作方法还包括: 在所述衬底基板与所述中介层相对的表面形成所需的各显示膜层； 在形成有所述中介层的所述衬底基板表面形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，通过对中介层或衬底基板进行处理使其带电，来使其具有吸附所述不透光材料的特性。3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述中介层为透明材料。4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述中介层为有机材料； 对所述衬底基板形成有中介层的表面进行摩擦起电，使得所述衬底基板具有吸附所述不透光材料的特性。5.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述中介层为导电材料； 通过对所述中介层施加电压，使得所述中介层具有吸附所述不透光材料的特性。6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层的步骤具体包括: 在所述衬底基板上形成导电膜层； 对所述导电膜层进行光刻工艺，形成间隔分布的条纹图案。7.根据权利要求1-6任一项所述的制作方法，其特征在于，所述不透光材料为碳粉。8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹的步骤具体为: 将碳粉撒在所述衬底基板和中介层上，碳粉被所...
【专利技术属性】
技术研发人员：武延兵，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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