一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

技术编号:11210556 阅读:57 留言:0更新日期:2015-03-26 20:00
本发明专利技术提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置,所述彩膜基板包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶区域,所述封框胶区域设置在与封框胶对应的位置,所述封框胶区域上设置有黑矩阵,所述黑矩阵内设置有沟槽,所述黑矩阵之上设置有保护膜,所述保护膜的一部分位于所述沟槽内。所述保护膜嵌入所述黑矩阵的内部,以使所述黑矩阵与所述保护膜形成一体,从而使得所述黑矩阵与所述保护膜的粘合更加牢固,避免发生剥离现象。

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示 >J-U ρ?α装直。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示器中,阵列基板与彩膜基板通过封框胶粘合。图1为现有技术中显示面板的结构示意图。如图1所示,彩膜基板101包括显示区域(Active Area)和封框胶区域(Dummy Area),所述封框胶区域上设置有黑矩阵(Black Matrix) 102和虚拟像素(Dummy Pixel) 103,所述显示区域上设置有彩膜104,所述黑矩阵102之上设置有保护膜(Over Coat) 105,所述保护膜105与阵列基板106通过封框胶107粘合。 由于所述黑矩阵102与所述保护膜105的粘合仅仅依靠光刻胶自身的粘度,而光刻胶自身的粘度比较低,因此所述黑矩阵102与所述保护膜105的粘合不牢固。另外,由于所述黑矩阵102与所述保护膜105的接触面非常平整,稍加外力容易造成所述黑矩阵102与所述保护膜105的分离,从而发生剥离现象。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置,用于解决现有技术中彩膜基板的黑矩阵与保护膜的粘合不牢固而发生剥离现象的问题。 为此,本专利技术提供一种彩膜基板,包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶区域,所述封框胶区域设置在与封框胶对应的位置,所述封框胶区域上设置有黑矩阵,所述黑矩阵内设置有沟槽,所述黑矩阵之上设置有保护膜,所述保护膜的一部分位于所述沟槽内。 可选的,所述沟槽的深度与所述黑矩阵的厚度相同。 可选的,所述黑矩阵的表面为第一凹凸结构。 可选的,所述保护膜的表面为第二凹凸结构。 可选的,所述显示区域的边缘与所述第一凹凸结构靠近所述显示区域的边缘之间的距离大于0.8mm。 可选的,所述显示区域的边缘与所述第二凹凸结构靠近所述显示区域的边缘之间的距离大于0.8mm。 可选的,所述显示区域的边缘与所述第二凹凸结构靠近所述显示区域的边缘之间的距离大于0.5mm。 可选的,所述沟槽的横截面积与所述黑矩阵的横截面积的比例范围为10%?25%。 本专利技术还提供一种显示面板,包括阵列基板、封框胶以及上述任一彩膜基板,所述阵列基板与所述彩膜基板通过所述封框胶粘合。 本专利技术还提供一种显示装置,包括上述显示面板。 本专利技术还提供一种彩膜基板的制备方法,所述彩膜基板包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶区域,所述封框胶区域设置在与封框胶对应的位置;所述制备方法包括:在所述封框胶区域上形成黑矩阵,所述黑矩阵内设置有沟槽;在所述黑矩阵之上形成保护膜,所述保护膜的一部分位于所述沟槽内。 可选的,所述在所述封框胶区域上形成黑矩阵之后,所述在所述黑矩阵之上形成保护膜之前包括:对所述黑矩阵的表面进行粗糙化处理,以形成第一凹凸结构。 可选的,所述黑矩阵之上设置有第一打毛装置,所述第一打毛装置包括第一打毛杆、第一打毛球和第一打毛带,所述第一打毛球通过所述第一打毛杆与所述第一打毛带连接;所述对所述黑矩阵的表面进行粗糙化处理包括:所述第一打毛球与所述黑矩阵接触;所述第一打毛带通过所述第一打毛杆向所述第一打毛球施加压力,以形成所述第一凹凸结构。 可选的,还包括:对所述保护膜的表面进行粗糙化处理,以形成第二凹凸结构。 可选的,所述保护膜之上设置有第二打毛装置,所述第二打毛装置包括第二打毛杆、第二打毛球和第二打毛带,所述第二打毛球通过所述第二打毛杆与所述第二打毛带连接;所述对所述保护膜的表面进行粗糙化处理包括:所述第二打毛球与所述保护膜接触;所述第二打毛带通过所述第二打毛杆向所述第二打毛球施加压力,以形成所述第二凹凸结构。 本专利技术具有下述有益效果: 本专利技术提供的彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置中,黑矩阵内设置有沟槽,保护膜的一部分位于所述沟槽内。本专利技术提供的彩膜基板中的保护膜嵌入所述黑矩阵的内部,以使所述黑矩阵与所述保护膜形成一体,从而使得所述黑矩阵与所述保护膜的粘合更加牢固,避免发生剥离现象。 【附图说明】 图1为现有技术中显示面板的结构示意图; 图2为本专利技术实施例一提供的一种彩膜基板的结构示意图; 图3为图2所示彩膜基板的一种沟槽的形状示意图; 图4为图2所示彩膜基板的另一种沟槽的形状示意图; 图5为图2所示彩膜基板的第三种沟槽的形状示意图; 图6为图2所示彩膜基板的第四种沟槽的形状示意图; 图7为本专利技术实施例三提供的一种彩膜基板的制备方法的流程图; 图8为本实施例中黑矩阵的粗糙化处理示意图; 图9为本实施例中第一凹凸结构的结构示意图; 图10为本实施例中保护膜的粗糙化处理示意图; 图11为本实施例中一种打毛装置的结构示意图; 图12为图11所示打毛装置的打毛球分布图; 图13为本实施例中另一种打毛装置的结构示意图; 图14为图13所示打毛装置的侧视图。 【具体实施方式】 为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面结合附图对本专利技术提供的彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置进行详细描述。 图2为本专利技术实施例一提供的一种彩膜基板的结构示意图。如图2所示,所述彩膜基板包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域(Active Area)和封框胶区域(Du_yArea),所述封框胶区域设置在与封框胶107对应的位置。所述封框胶区域上设置有黑矩阵(Black Matrix) 102,所述黑矩阵102内设置有沟槽108,所述黑矩阵102之上设置有保护膜(Over Coat) 105,所述保护膜105的一部分位于所述沟槽108内。通过所述沟槽108,所述保护膜105嵌入所述黑矩阵102的内部,以使所述黑矩阵102与所述保护膜105形成一体,从而使得所述黑矩阵102与所述保护膜105的粘合更加牢固,避免发生剥离现象。 优选的,所述沟槽108的深度与所述黑矩阵102的厚度相同,也就是说,所述沟槽108贯穿所述黑矩阵102,以使所述保护膜105更加深入地嵌入所述黑矩阵102的内部,从而提高了所述黑矩阵102与所述保护膜105之间的粘合力。当然,所述沟槽108的深度小于所述黑矩阵102的厚度的结构也属于本专利技术的保护范围。 本实施例中,所述沟槽的横截面积与所述黑矩阵的横截面积的比例范围为10%?25%。上述比例范围可以保证所述黑矩阵102与所述保护膜105具有足够的接触面积,从而增大所述黑矩阵102与所述保护膜105之间的粘合力。 参见图2,所述黑矩阵102的表面为第一凹凸结构109。所述第一凹凸结构109增大了所述黑矩阵102与所述保护膜105的接触面积,使得所述黑矩阵102与所述保护膜105结合更加牢固,从而有效防止剥离现象的发生。 本实施例中,所述保护膜105的表面为第二凹凸结构204。所述第二凹凸结构204增大了所述保护膜105与所述封框胶107的接触面积,使得所述保护膜105与所述封框胶107粘合更加牢固,从而避免泄漏事件的发生。而且,所述保护膜105的表面凸凹不平,可以有效阻止聚酰亚胺(Polyimide,PI)液向外扩散,从而防止对所述封框胶107造成污染。 图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶区域,所述封框胶区域设置在与封框胶对应的位置,所述封框胶区域上设置有黑矩阵,所述黑矩阵内设置有沟槽,所述黑矩阵之上设置有保护膜,所述保护膜的一部分位于所述沟槽内。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶区域,所述封框胶区域设置在与封框胶对应的位置,所述封框胶区域上设置有黑矩阵,所述黑矩阵内设置有沟槽,所述黑矩阵之上设置有保护膜,所述保护膜的一部分位于所述沟槽内。2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述沟槽的深度与所述黑矩阵的厚度相问。3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵的表面为第一凹凸结构。4.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述保护膜的表面为第二凹凸结构。5.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述显示区域的边缘与所述第一凹凸结构靠近所述显示区域的边缘之间的距离大于0.8_。6.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述显示区域的边缘与所述第二凹凸结构靠近所述显示区域的边缘之间的距离大于0.5_。7.根据权利要求6所述的彩膜基板,其特征在于,所述显示区域的边缘与所述第二凹凸结构靠近所述显示区域的边缘之间的距离大于0.8_。8.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述沟槽的横截面积与所述黑矩阵的横截面积的比例范围为10%?25%。9.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板、封框胶以及权利要求1-8任一所述的彩膜基板,所述阵列基板与所述彩膜基板通过所述封框胶粘合。10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求9所述的显示面板。11.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区...

【专利技术属性】
技术研发人员:樊利宽郑英花孙鹏王旦
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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