照明装置(IU)具有：第1光源部(21a)；光的射出方向与第1光源部不同的第2光源部(21b)；和以使来自第1光源部的光和来自第2光源部的光的行进方向一致的方式使光的至少一部分偏转的偏转部(22)。第1光源部和第2光源部以使从各光源部射出并经由偏转部的光所射入的照明区域沿规定方向连续地排列的方式在规定方向上配置在不同位置。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】照明装置(IU)具有：第1光源部(21a)；光的射出方向与第1光源部不同的第2光源部(21b)；和以使来自第1光源部的光和来自第2光源部的光的行进方向一致的方式使光的至少一部分偏转的偏转部(22)。第1光源部和第2光源部以使从各光源部射出并经由偏转部的光所射入的照明区域沿规定方向连续地排列的方式在规定方向上配置在不同位置。【专利说明】
本专利技术涉及。 本申请基于2012年5月29日的美国临时申请61/652, 719号主张优先权，并在此 援用其内容。
技术介绍
近年来，作为电视机等的显示装置，大多使用例如液晶显示面板等平板显示器。在 平板显示器这样的各种器件的制造中，利用曝光装置等处理装置。例如，利用基于曝光装置 而实现的光刻方法、蚀刻技术等，在玻璃板上形成透明薄膜电极等各种膜图案，由此来制造 液晶显示面板。作为光刻方法，提出有取代玻璃板而在卷绕成卷状的片状基板上对掩膜图 案的像进行投影曝光的方法（例如，参照下述的专利文献1)。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本国特开2007-114385号公报
技术实现思路
出于能够高效地制造器件等的观点而期待曝光装置等处理装置扩大处理范围，在 用于这样的处理装置的照明装置中，期望扩大与被处理物的移动方向垂直的方向上的光的 照射范围。 本专利技术方案的目的在于，提供一种能够扩大处理范围的照明装置、处理装置及器 件制造方法。 根据本专利技术的第1方案，提供一种照明装置，具有：第1光源部；第2光源部，其光 的射出方向与上述第1光源部不同；和偏转部，其以使来自上述第1光源部的光和来自上述 第2光源部的光的行进方向一致的方式，使该光的至少一部分偏转，上述第1光源部和上述 第2光源部以使从各光源部射出并经由上述偏转部的光所射入的照明区域在规定方向上 连续地排列的方式，在上述规定方向上配置在不同位置。 根据本专利技术的第2方案，提供一种处理装置，将形成为掩膜图案的图案转印到具 有感应层的基板上，该处理装置具有：对上述掩膜图案进行照明的第1方案的照明装置；和 使上述掩膜图案和上述基板沿与上述规定方向垂直的方向相对移动的移动装置。 根据本专利技术的第3方案，提供一种器件制造方法，包括：通过第2方案的处理装置， 一边使上述掩膜图案和上述基板相对移动一边将上述图案连续地转印到上述基板上；利用 转印有上述图案的上述基板的感应层的变化来实施后续处理。 专利技术效果 根据本专利技术的方式，能够提供一种可扩大处理范围的照明装置、处理装置及器件 制造方法。 【专利附图】【附图说明】 图1是表示器件制造系统的一例的图。 图2是表示第1实施方式的处理装置（曝光装置）的侧视图。 图3是表示第1实施方式的处理装置（曝光装置）的主视图。 图4A是表示第1实施方式的照明模块的图。 图4B是表示第1实施方式的照明模块的图。 图5是表示第1实施方式的偏转部的立体图。 图6是表示第1实施方式的偏转部的俯视图。 图7是表不照度分布及滤光片的一例的图。 图8是表示照度分布及滤光片的其他例子的图。 图9是表示第2实施方式的处理装置（曝光装置）的侧视图。 图10是表示第2实施方式的照明装置的立体图。 图11是表示第2实施方式的照明装置的俯视图。 图12是表示第2实施方式的照明装置的光源的俯视图。 图13A是表示第2实施方式的照明装置的光学杆部件的图。 图13B是表示第2实施方式的照明装置的光学杆部件的图。 图14是表示第2实施方式的照明装置的中继透镜的俯视图。 图15是表示第2实施方式的照明装置的偏转部的图。 图16是表示第2实施方式的照明装置的光阑部件的图。 图17是表示第3实施方式的处理装置（曝光装置）的侧视图。 图18是表示第3实施方式的处理装置（曝光装置）的俯视图。 图19是表示第4实施方式的处理装置（曝光装置）的侧视图。 图20是表示第4实施方式的处理装置（曝光装置）的主视图。 图21是表示第4实施方式的照明装置的偏转部的主视图。 图22是表示器件制造方法的一例的流程图。 【具体实施方式】 图1是表示器件制造系统SYS(柔性显示器生产线）的结构例的图。在此，示出了 从供给卷FRl引出的挠性基板P(片、膜等）依次经由η台处理装置U1、U2、U3、U4、U5、? Un而卷绕至回收卷FR2为止的例子。 在图1中，将XYZ正交坐标系设为，基板P的表面（或背面）被设定为与XZ面垂 直，与基板P的搬送方向（长度方向）正交的方向（宽度方向）被设定为Y轴方向。Z轴方 向被设定为例如铅垂方向，X轴方向及Y轴方向被设定为水平方向。此外，为了便于说明， 有时将从X轴方向（搬送方向的下游）观察到的图称为主视图，将从Y轴方向（旋转中心 轴的方向）观察到的图称为侧视图，将从Z轴方向（铅垂方向的上方）观察到的图称为俯 视图。 卷绕在供给卷FRl上的基板P通过夹持的驱动辊DRl而被引出，通过边缘位置控 制器EPCl而在Y方向上被定位并向处理装置Ul输送。 处理装置Ul是以印刷方式将感光性功能液（感光胶、感光性耦合材料、UV固化树 脂液等）沿基板P的搬送方向（长度方向）连续地或选择性地涂敷于基板P表面的涂敷装 置。在处理装置Ul内设有涂敷机构Gpl和干燥机构Gp2等，其中，该涂敷机构Gpl包括卷 绕基板P的压版辊DR2、用于在该压版辊DR2上将感光性功能液均匀地涂敷于基板P表面的 涂敷用辊或将感光性功能液选择性地涂敷的凸版或凹版的印版辊等，干燥机构Gp2用于快 速地除去被涂敷于基板P的感光性功能液所包含的溶剂或水分。 处理装置U2是加热装置，用于将从处理装置Ul搬送来的基板P加热至规定温度 (例如，数l〇°C至120°C左右）而使被涂敷于表面的感光性功能层稳定地固定。在处理装置 U2内设有用于将基板P折返搬送的多个辊和空气转向杆（air turn bar)、冷却室部HA2、夹 持的驱动辊DR3等。 作为曝光装置的处理装置U3包括曝光装置，该曝光装置对从处理装置U2搬送来 的基板P的感光性功能层照射与显示器用的电路图案和布线图案对应的紫外线的经图案 化的光。在处理装置U3内设有将基板P的Y方向（宽度方向）的中心控制于固定位置的 边缘位置控制器EPC2、夹持的驱动辊DR4、通过空气轴承层以规定张力对沿X方向搬送的基 板P的背面以平面或圆筒状的弯曲面进行支承的基板载置台ST (基板支承部件）、以及用于 对基板P赋予规定的松弛（余裕）DL的两组驱动辊DR6、DR7等。 而且在处理装置U3内还设有：旋转滚筒14,其在外周面上卷绕有片状的掩膜基板 (以下称作掩膜图案M)且绕与Y方向平行的中心线旋转；照明装置IU，其对卷绕在该旋转 滚筒14上的掩膜图案M照射沿Y方向延伸的狭缝状的曝光用照明光而将掩膜图案M的图 案转印到由基板载置台ST以平面状支承的基板P的一部分上；以及对准显微镜AM，其为了 使被转印的图案与基板P相对对位（对准）而检测预先形成在基板P上的对准标记等。 图1的处理装置U3包括所谓的接近（proximity)方式的曝光装置，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种照明装置，其特征在于，具有：第1光源部；第2光源部，其光的射出方向与所述第1光源部不同；和偏转部，其以使来自所述第1光源部的光和来自所述第2光源部的光的行进方向一致的方式，使该光的至少一部分偏转，所述第1光源部和所述第2光源部以使从各光源部射出并经由所述偏转部的光所射入的照明区域在规定方向上连续地排列的方式，在所述规定方向上配置在不同位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：根岸武利，福井达雄，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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