输送装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种输送装置，其介质的面相对于对该面进行处理的处理单元的位置，即使介质的厚度不同，也难以发生变动。第1接触部件（11）位于处理区域（E1）的输送方向（A1）的上游侧，具有与输送的介质（P）的第1面接触的第1接触部（C11）。第2接触部件（12）位于处理区域的输送方向的下游侧，具有与输送的介质（P）的第1面接触的第2接触部（C12）。第3接触部件（21）位于第1接触部（C11）的输送方向的上游侧，具有与输送的介质的第2面接触的第3接触部（C21）。第4接触部件（22）位于第2接触部（C12）的输送方向的下游侧，具有与输送的介质（P）的第2面接触的第4接触部件（22）。

【技术实现步骤摘要】
输送装置
[0001 ] 本专利技术涉及一种输送装置。
技术介绍
在专利文献I中公开有下述技术，S卩，具有凸出的前端的控制部件将原稿按压在抵接部件上，该抵接部件在与原稿的输送方向大致正交的方向上横贯设置。 专利文献1:日本特许第4078902号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于，使得介质的面相对于对该面进行处理的处理单元的位置，在即使介质的厚度不同的情况下也难以发生变动。 本专利技术的技术方案I所涉及的输送装置的特征在于，具有:处理单元，其在沿输送方向在输送路径上进行输送的介质通过一定区域时，对该介质的第I面中的正在通过该区域的部分进行处理；第I接触部件，其位于所述区域的所述输送方向的上游侧，具有与所输送的所述介质接触的第I接触部；第2接触部件，其位于所述区域的所述输送方向的下游侦U，具有第2接触部，该第2接触部与输送的所述介质接触，并具有与所述第I接触部共同的切平面；以及输送单元，其在夹在所述第I及第2接触部之间的区间内，以所述第I面通过所述切平面的方式，对所述介质进行输送。 本专利技术的技术方案2所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案I所述的结构中，所述输送单元具有接触单元，其在第I位置和第2位置处与该介质的所述第I面相反侧的第2面接触，其中，第I位置位于所述第I接触部的所述输送方向的上游侧，是与所述切平面相比而以第I长度更加远离所述处理单元的位置或与该位置相比位于该处理单元侧的位置，第2位置位于所述第2接触部的所述输送方向的下游侧，是与所述切平面相比而以第2长度更加远离所述处理单元的位置或与该位置相比位于该处理单元侧的位置。 本专利技术的技术方案3所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案2所述的结构中，所述接触单元具有:第3接触部件，其具有在所述第I位置与输送的所述介质接触的第3接触部；以及第4接触部件，其具有在所述第2位置与该介质接触的第4接触部。 本专利技术的技术方案4所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案I至3的任一项所述的结构中，所述输送单元具有:第I输送部件，其具有设置在所述第I接触部件的所述输送方向的上游侧，并以轴为中心进行旋转的旋转部件，使该旋转部件旋转而对与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送；以及第2输送部件，其具有设置在所述第2接触部件的所述输送方向的下游侧，并以轴为中心进行旋转的旋转部件，使该旋转部件旋转而将与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送，所述第2输送部件具有的旋转部件，以本部件的表面的移动速度比所述第I输送部件具有的旋转部件的旋转部件的该速度快的方式进行旋转。 本专利技术的技术方案5所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案2所述的结构中，所述接触单元具有:第I输送部件，其具有设置在所述第I接触部件的所述输送方向的上游侦U，并以轴为中心进行旋转的旋转部件，使该旋转部件旋转而将与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送；以及第2输送部件，其具有设置在所述第2接触部件的所述输送方向的下游侧，并以轴为中心进行旋转的旋转部件，使该旋转部件旋转而将与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送，该第I输送部件在所述第I位置与所述第2面接触，该第2输送部件在所述第2位置与所述第2面接触。 本专利技术的技术方案6所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案5所述的结构中，所述第2输送部件以本部件具有的旋转部件的表面移动速度比所述第I输送部件的该速度快的方式进行旋转。 本专利技术的技术方案7所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案2至6的任一项所述的结构中，该输送装置具有变动单元，其使所述第I及第2位置与所述切平面的距离变动。 本专利技术的技术方案8所涉及的输送装置的特征在于，在技术方案7所述的结构中，所述变动单元与输送的所述介质的厚度相对应地使所述距离变动。 专利技术的效果 根据技术方案I所涉及的专利技术，与不具有以第I面通过切平面的方式输送介质的结构的情况相比，能够使得介质的面相对于对该面进行处理的处理单元的位置，在即使介质的厚度不同的情况下也不易发生变动。 根据技术方案2所涉及的专利技术，与不具有在第I及第2位置与第2面接触的结构的情况相比，能够使得第I面容易通过切平面。 根据技术方案3所涉及的专利技术，与不具有接触部件的特定的部位与介质接触的结构的情况相比，能够使第I及第2位置稳定。 根据技术方案4、6所涉及的专利技术，与各旋转部件不以本专利技术所示的速度旋转的情况相比，能够使介质沿输送方向不易松弛。 根据技术方案5所涉及的专利技术，与不旋转的接触部件与第2面接触的情况相比，能够减小介质的输送所需的驱动力。 根据技术方案7所涉及的专利技术，能够对介质沿输送方向进行输送时受到的阻力进行调整。 根据技术方案8所涉及的专利技术，和与介质的厚度无关而使距离变动的情况相比，能够在各介质的厚度不同的情况下也使得这些介质容易进行输送。 【附图说明】 图1是表示第I实施方式的输送装置的硬件结构的一个例子的图。 图2是表示处理部分的一个例子的图。 图3是将各接触部件放大而示出的图。 图4是表示介质在输送路径上进行输送的情况的例子的图。 图5是表示厚度较大的介质在输送路径上进行输送的情况的一个例子的图。 图6是表示第2实施方式中的输送装置的硬件结构的一个例子的图。 图7是表示介质在输送路径上进行输送的情况的一个例子的图。 图8是表示变形例的输送装置的硬件结构的一个例子的图。 图9是表示变形例的接触部件的一个例子的图。 图10是表示变形例的输送装置的硬件结构的一个例子的图。 图11是表示变形例的输送装置的硬件结构的另一个例子的图。 图12是表示变形例的接触区域的例子的图。 图13是表示变形例的接触部件的一个例子的图。 标号的说明 I…输送装置、2…输送路径、3…读取装置、4…输送单元、11...第I接触部件、Cll…第I接触部、12...第2接触部件、C12…第2接触部、20...接触单元、21...第3接触部件、C21…第3接触部、22...第4接触部件、C22…第4接触部、30...第I输送部件、40...第2输送部件、31、41…第I旋转部件、32、42…第2旋转部件、50...变动单元、51...控制部、52...驱动部、53...旋转部 【具体实施方式】 [第I实施方式] [1-1]硬件结构 图1是表示第I实施方式的输送装置的硬件结构的一个例子的图。在该例子中，示出了具有输送路径2、读取装置3、输送单元4、第I接触部件11、第2接触部件12的输送装置I。输送单元4是具有接触单元20、第I输送部件30、第2输送部件40的单元。在图1 (a)中仅示出输送装置1，在图1 (b)中示出输送装置I对通过未图示的图像形成单元形成了图像的介质Pl进行输送的情况。下面，一边同时参照图1 (a)及(b)，一边对各部分进行说明。输送路径2是输送介质Pl的路径。介质Pl沿输送方向Al进行输送。在本实施方式中，输送方向Al沿水平方向A2。 读取装置3是在沿输送方向Al在输送路径2上进行输送的介质通过某个区域(以下称为“处理区域”)时，对该介质的一个面(以下称为“第I面”)中的正在通过该区域的部分进行处理的处理单元的一个例子。在图1 (b)中，介质Pl所具有的面中的朝向铅直方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种输送装置，其具有：第1接触部件，其具有与所输送的介质接触的第1接触部；第2接触部件，其位于输送方向的下游侧，具有与所输送的所述介质接触的第2接触部，所述第1接触部和所述第2接触部具有一致的切平面；输送单元，其在夹在所述第1及第2接触部之间的区间内，使所述介质的第1面与所述切平面一致而进行输送；以及处理单元，其配置在所述第1及第2接触部之间，对正在通过该区域的所述介质的第1面进行处理。

【技术特征摘要】
2013.08.20 JP 2013-1707111.一种输送装置，其具有: 第I接触部件，其具有与所输送的介质接触的第I接触部； 第2接触部件，其位于输送方向的下游侧，具有与所输送的所述介质接触的第2接触部，所述第I接触部和所述第2接触部具有一致的切平面； 输送单元，其在夹在所述第I及第2接触部之间的区间内，使所述介质的第I面与所述切平面一致而进行输送；以及 处理单元，其配置在所述第I及第2接触部之间，对正在通过该区域的所述介质的第I面进行处理。2.根据权利要求1所述的输送装置，其中， 所述输送装置具有接触单元，其与该介质的与所述第I面相反一侧的第2面接触，所述接触单元在第I位置和第2位置处与所述第2面进行接触。3.根据权利要求2所述的输送装置，其中， 所述接触单元具有:第3接触部件，其具有在所述第I位置处与所输送的所述介质接触的第3接触部；以及第4接触部件，其具有在所述第2位置处与该介质接触的第4接触部。4.根据权利要求1所述的输送装置，其中， 所述输送单元具有: 第I输送部件，其具有设置在所述第I接触部件的所述输送方向的上游侧的第I旋转部件，使该旋转部件旋转而对与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送；以及 第2输送部件，其具有设置在所述第2接触部件的所述输送方向的下游侧的第2旋转部件，使该旋转部件旋转而对与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送， 所述第2旋转部件的表面移动的速度，比所述第I旋转部件的表面移动的速度快。5.根据权利要求2所述的输送装置，其中， 所述输送单元具有: 第I输送部件，其具有设置在所述第I接触部件的所述输送方向的上游侧的第I旋转部件，使该旋转部件旋转而对与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送；以及 第2输送部件，其具有设置在所述第2接触部件的所述输送方向的下游侧的第2旋转部件，使该旋转部件旋转而对与该旋转部件的表面接触的所述介质进行输送， 所述第2旋转部件的表面移动的速度，比所述第I旋转部件的表面移动的速度快。6.根据权利要求3所述的输送装置，其中， 所述输送单元具有: 第I输送部件，其具有设置在所述第I接触部...

【专利技术属性】
技术研发人员：莳田圣吾，古谷孝男，细井清，坂卷克己，蜂须贺正树，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP