曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种卷对卷方式的曝光装置，可以自动进行掩模板的图案面的除尘，并且，不对曝光动作造成影响便能进行掩模板的图案面的除尘。其具体为，具备：曝光载物台(240)，具有保持基板(W)的曝光工作台(241)，可沿z轴与基板(W)一起升降；掩模除尘部(230)，将从掩模板(210)的后方侧端部(210a)沿x轴离开规定间隔的第1位置(x1)和从掩模板(210)的前方侧端部(210b)沿x轴离开规定间隔的第2位置(x4)之间作为往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对掩模板(210)的图案面(M)除尘的动作；掩模除尘部控制装置(400)，控制掩模除尘部(230)的往复移动；及曝光载物台控制装置(500)，控制曝光载物台(240)的升降。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置
本专利技术涉及一种曝光装置，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，通过使基板的感光面曝光而在基板上转印图案。
技术介绍
以往已知有各种曝光装置，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，通过使基板的感光面曝光而在基板上转印图案。在这种曝光装置中，不只是对基板的感光面进行除尘，对掩模板的与基板的相对面(称为掩模板的图案面)进行除尘也很重要。这是因为在掩模板的图案面上存在尘埃时，则曝光时尘埃会与形成在掩模上的图案一起被转印，发生该基板成为次品的不良现象。 然而，在这种曝光装置中，不仅仅只是将一张一张呈短尺寸片状的基板作为曝光对象的曝光装置，还有将长尺寸片状基板作为曝光对象的曝光装置。 将长尺寸片状基板作为曝光对象的曝光装置是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使基板的感光面曝光的装置，作为所谓的卷对卷(Roll to Roll)方式的曝光装置而在以往为人所知(例如参照专利文献I)。 图8是为了说明专利文献I所记载的曝光装置900而示出的图。如图8所示，专利文献I所公开的曝光装置900是在输送长尺寸片状基板910的输送部920和卷绕完成曝光的基板的卷绕部930之间配置曝光部940，在搬运基板910的过程中，使基板910的感光面和掩模板950的图案面相面对，并使基板910的感光面曝光的“卷对卷方式的曝光装置”。 另外，由于专利文献I所记载的曝光装置900是如下装置，即基板910的两面为感光面，能够使基板910的两面同时曝光，因此掩模板950被上下分别设置为夹着基板910。另外，在以下的说明中，将上侧的掩模板950作为上侧掩模板951,将下侧的掩模板950作为下侧掩模板952而进行说明。 在这种卷对卷方式的曝光装置中，对掩模板950(上侧掩模板951及下侧掩模板952)的各图案面进行除尘也很重要。在专利文献I所记载的曝光装置900中，上侧掩模板951及下侧掩模板952中的各图案面的除尘如下进行。 在专利文献I所记载的曝光装置900中，进行上侧掩模板951的除尘时，利用可使基板910沿z轴升降的高度调节辊960，使基板910沿z轴上升，由此使基板910离开下侧掩模板952，并且通过使上侧掩模板951沿z轴上升，而使上侧掩模板951离开基板910，在该状态下，对上侧掩模板951的图案面进行除尘。 另一方面，进行下侧掩模板952的除尘时，使上侧掩模板951沿z轴上升而与下侧掩模板952之间形成较宽的间隔，并且利用高度调节辊960使基板910离开下侧掩模板952，在该状态下，对下侧掩模板952进行除尘。 专利文献1:日本国特开2001-125274号公报 如上所述，在专利文献I所记载的曝光装置900中对掩模板950 (上侧掩模板951及下侧掩模板952)的各图案面进行除尘时，为了便于上侧掩模板的图案面及下侧掩模板的图案面的除尘，进行使基板及上侧掩模板移动的操作，使各图案面和基板隔开间隔，在此基础上，进行上侧掩模板的图案面及下侧掩模板的图案面的除尘。另外，在专利文献I所记载的曝光装置900中，由于并未特别设置用于对掩模板的图案面进行除尘的除尘装置，因此可以认为掩模板的图案面的除尘是作业人员通过人工作业而进行的。因此，进行掩模板的图案面的除尘时花费很多的精力和时间。 另外，在专利文献I所记载的曝光装置900中，进行掩模板的图案面的除尘时，需要使曝光动作停止。因此，在原本应该能够实现高速有效的曝光的卷对卷方式的曝光装置中，为了掩模的除尘而较大地损害高速化及高效化。尤其是在要进行更高品质的曝光时，由于要求频繁进行掩模的除尘，因此每次进行掩模的除尘，都需要每次进行如上所述的工序，变为更大地损害高速化及高效化。 另外，在本说明书中，“曝光动作”是指“在间歇地各按规定量搬运长尺寸片状基板的过程中，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使基板的感光面曝光的动作”。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述情况而进行的，其目的在于提供一种曝光装置，在卷对卷方式的曝光装置中，可以自动进行掩模板的图案面的除尘，而且，不对该卷对卷方式的曝光装置进行的曝光动作造成影响便能进行掩模板的图案面的除尘。 [I]本专利技术的曝光装置是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使所述基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，使所述基板沿由X轴及I轴形成的Xy平面中的X轴朝向所述卷绕部的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧时，则具有:曝光载物台，配置在夹着所述基板而与所述掩模板相对的位置上，可沿与xy平面正交的z轴与所述基板一起升降；掩模除尘部，可实现沿X轴的往复移动且可与所述曝光载物台一起沿z轴升降，并且被设置在所述曝光载物台上，以从所述基板的感光面沿z轴离开的状态位于所述掩模板侧，至少将从所述掩模板的所述后方侧端部沿X轴进一步向后方侧离开规定间隔的第I位置和从所述掩模板的所述前方侧端部沿X轴进一步向前方侧离开规定间隔的第2位置之间的范围作为所述往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对所述掩模板的图案面除尘的动作；掩模除尘部驱动机构部，用于使所述掩模除尘部进行所述往复移动；掩模除尘部控制装置，通过控制所述掩模除尘部驱动机构部而控制所述掩模除尘部的所述往复移动；曝光载物台驱动机构部，用于可使所述曝光载物台沿z轴升降；及曝光载物台控制装置，通过控制所述曝光载物台驱动机构部而控制所述曝光载物台的升降，所述掩模除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下进行旋转前进的动作，从所述掩模除尘部相对于所述掩模板沿X轴及z轴分别离开的位置使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面接触时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿X轴的端部附近相对的位置，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，当所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿X轴的端部附近相对的位置时，使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面中的沿X轴的端部附近接触，使所述基板的感光面曝光时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部处于到达所述第I位置或所述第2位置的状态，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，在所述掩模除尘部到达所述第I位置或所述第2位置的状态下，使所述曝光载物台沿z轴移动而使所述基板的感光面和所述掩模板的图案面处于接触或接近的状态。 本专利技术的曝光装置呈如下构成，掩模除尘部在沿X轴的方向上将比掩模板宽的范围(第I位置和第2位置之间的范围)作为可动范围，通过沿该可动范围前进而对掩模板的图案面进行除尘。而且，使基板的感光面曝光时，在掩模除尘部到达第I位置或所述第2位置的状态下，使曝光载物台沿z轴移动而使基板的感光面和掩模板的图案面处于接触或接近的状态，从而进行曝光。由此，根据本专利技术的曝光装置，在卷对卷方式的曝光装置中，也可以自动进行掩模板的图案面的除尘，而且，不对该卷对卷方式的曝光装置进行的曝光动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使所述基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，使所述基板沿由x轴及y轴形成的xy平面中的x轴朝向所述卷绕部的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧时，则具有：曝光载物台，配置在夹着所述基板而与所述掩模板相对的位置上，可沿与xy平面正交的z轴与所述基板一起升降；掩模除尘部，可实现沿x轴的往复移动且可与所述曝光载物台一起沿z轴升降，并且被设置在所述曝光载物台上，以从所述基板的感光面沿z轴离开的状态位于所述掩模板侧，至少将从所述掩模板的所述后方侧端部沿x轴进一步向后方侧离开规定间隔的第1位置和从所述掩模板的所述前方侧端部沿x轴进一步向前方侧离开规定间隔的第2位置之间的范围作为所述往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对所述掩模板的图案面除尘的动作；掩模除尘部驱动机构部，用于使所述掩模除尘部进行所述往复移动；掩模除尘部控制装置，通过控制所述掩模除尘部驱动机构部而控制所述掩模除尘部的所述往复移动；曝光载物台驱动机构部，用于可使所述曝光载物台沿z轴升降；及曝光载物台控制装置，通过控制所述曝光载物台驱动机构部而控制所述曝光载物台的升降，所述掩模除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下进行旋转前进的动作，从所述掩模除尘部相对于所述掩模板沿x轴及z轴分别离开的位置使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面接触时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，当所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置时，使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近接触，使所述基板的感光面曝光时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部处于到达所述第1位置或所述第2位置的状态，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，在所述掩模除尘部到达所述第1位置或所述第2位置的状态下，使所述曝光载物台沿z轴移动而使所述基板的感光面和所述掩模板的图案面处于接触或接近的状态。...

【技术特征摘要】
2013.08.30 JP 2013-1807431.一种曝光装置，是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使所述基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于， 使所述基板沿由X轴及I轴形成的Xy平面中的X轴朝向所述卷绕部的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧时，则具有: 曝光载物台，配置在夹着所述基板而与所述掩模板相对的位置上，可沿与xy平面正交的Z轴与所述基板一起升降； 掩模除尘部，可实现沿X轴的往复移动且可与所述曝光载物台一起沿Z轴升降，并且被设置在所述曝光载物台上，以从所述基板的感光面沿z轴离开的状态位于所述掩模板侧，至少将从所述掩模板的所述后方侧端部沿X轴进一步向后方侧离开规定间隔的第I位置和从所述掩模板的所述前方侧端部沿X轴进一步向前方侧离开规定间隔的第2位置之间的范围作为所述往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对所述掩模板的图案面除尘的动作； 掩模除尘部驱动机构部，用于使所述掩模除尘部进行所述往复移动； 掩模除尘部控制装置，通过控制所述掩模除尘部驱动机构部而控制所述掩模除尘部的所述往复移动； 曝光载物台驱动机构部，用于可使所述曝光载物台沿Z轴升降； 及曝光载物台控制装置，通过控制所述曝光载物台驱动机构部而控制所述曝光载物台的升降， 所述掩模除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状， 所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下进行旋转前进的动作， 从所述掩模除尘部相对于所述掩模板沿X轴及Z轴分别离开的位置使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面接触时， 所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部， 使所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿X轴的端部附近相对的位置， 所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部， 当所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿X轴的端部附近相对的位置时，使所述掩模除尘部与所述掩模板的图...

【专利技术属性】
技术研发人员：河东和彦，羽生慎一，
申请(专利权)人：倍科有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP