一种用于活塞的密封圈制造技术

技术编号:11143808 阅读:107 留言:0更新日期:2015-03-13 02:28
本实用新型专利技术涉及一种用于活塞的密封圈,其特征在于:包括密封圈本体,该密封圈本体的外壁呈向外凸出的弧形状,该密封圈本体的内壁呈内凹的弧形面,该密封圈内圈的边沿向轴向两端延伸有第一环形凸起及第二环形凸起,密封圈外圈的边沿向轴向两端延伸有第三环形凸起及第四环形凸起,该第一环形凸起与第三环形凸起形成上环形凹槽,该第二环形凸起与第四环形凸起形成下环形凹槽;本实用新型专利技术在于:密封圈的外壁为弧形状,与气缸的内壁是线接触,未增加摩擦力的情况下提高了密封效果,且密封圈的内壁为弧形面,使该密封圈具有弹力,保证了密封圈在受力时的回弹力,保证了密封效果,且在密封圈上设置上环形凹槽与下环形凹槽,有效的增加了密封性能。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及气缸领域,特别是指一种用于活塞的密封圈
技术介绍
气缸是一种气压传动中将压缩气体的压力能转换为机械能的气动执行元件。现有的气缸包括前盖、缸体及后盖,前盖与后盖分别连接于缸体的两端,在缸体内设置有活塞杆,该活塞杆的前端穿出前盖设置,活塞杆上连接有活塞,现有的活塞基本采用圆柱状结构,在活塞的外壁简单的设置了单个密封圈,该密封圈为简单的圆环型结构,由于圆环型结构的密封圈无论在于气缸的内壁及活塞的连接面均为线接触,密封效果较差,且在气缸内壁给密封圈在运动方向的摩擦力而变形的情况下,该密封圈便会变形,无法实现密封的效果,无法满足现有的气缸需求。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本技术的目的在于提供一种密封性能较好且不易变形的用于活塞的密封圈。本技术的技术方案是这样实现的:一种用于活塞的密封圈,其特征在于:包括密封圈本体,该密封圈本体的外壁呈向外凸出的弧形状,该密封圈本体的内壁呈内凹的弧形面,该密封圈内圈的边沿向轴向两端延伸有第一环形凸起及第二环形凸起,密封圈外圈的边沿向轴向两端延伸有第三环形凸起及第四环形凸起,该第一环形凸起与第三环形凸起形成上环形凹槽,该第二环形凸起与第四环形凸起形成下环形凹槽,所述的第三环形凸起的端面上间隔设置有上缓冲块,第四环形凸起的端面上间隔设置有下缓冲块。通过采用上述技术方案,密封圈的外壁为弧形状,与气缸的内壁是线接触,未增加摩擦力的情况下提高了密封效果,且密封圈的内壁为弧形面,使该密封圈具有弹力,保证了密封圈在受力时的回弹力,保证了密封效果,且在密封圈上设置上环形凹槽与下环形凹槽,有效的增加了该密封圈的柔韧性,使密封圈具备受力时的回弹力,使该结构的密封圈的密封性能更强,上缓冲块及下缓冲块具有缓冲余量,能更好的承受在运动过程中,由于气缸内壁给密封圈在运动方向的摩擦力而变形的情况,保证了密封圈的使用寿命。本技术进一步设置为:所述的上缓冲块与下缓冲块沿竖直方向错位设置。通过采用上述技术方案,使缓冲圈在受到气缸给密封圈在运动方向的摩擦力时,承受更加均匀,进一步保证了密封圈的使用寿命。本技术进一步设置为:所述的上缓冲块包括上缓冲块本体,该上缓冲块本体沿长度方向上的两侧面为弧形面,且上缓冲块本体沿长度方向上的两端为半圆状结构,所述的下缓冲块包括下缓冲块本体,该下缓冲块本体沿长度方向上的两侧面为弧形面,且下缓冲块本体沿长度方向上的两端为半圆状结构。通过采用上述技术方案,将上缓冲块的两侧面设置成弧形面,提高了上缓冲块的弹性,保证了上缓冲块的缓冲余量,保证了密封圈的使用寿命,同样,下缓冲块的功能与上缓冲块相同,增加了密封圈的变形复原量,防止密封圈受力时变形的情况产生。本技术进一步设置为:所述的上环形凹槽的底面与第一环形凸起的侧面所呈的角为100-120度之间,所述的上环形凹槽的底面与第三环形凸起的侧面所呈的角为100-120度之间。通过采用上述技术方案,有效的保证了上环形凹槽的变形量,当上环形凹槽的底面与第一环形凸起小于100度时,该上环形凹槽的底面与第一环形凸起接近直角,直角的回弹能力较差,存在过渡变形时无法回弹的情形;当上环形凹槽的底面与第一环形凸起大于120度时,该上环形凹槽的底面与第一环形凸起所成的钝角过大,使该第一环形凸起的回弹力小于第一环形凸起本身趋向与另一边的内应力,无法实现密封圈在受力时复位,会降低密封圈的回弹能力,故将上环形凹槽的底面与第一环形凸起所成的角控制在100-120度之间时,最为恰当;同理,上环形凹槽的底面与第三环形凸起的侧面所呈的角为100-120度之间最为恰当。本技术进一步设置为:所述的下环形凹槽的底面与第二环形凸起的侧面所呈的角为100-120度之间,所述的下环形凹槽的底面与第四环形凸起的侧面所呈的角为100-120度之间。通过采用上述技术方案,有效的保证了下环形凹槽的变形量,当下环形凹槽的底面与第二环形凸起小于100度时,该下环形凹槽的底面与第二环形凸起接近直角,直角的回弹能力较差,存在过渡变形时无法回弹的情形;当下环形凹槽的底面与第二环形凸起大于120度时,该下环形凹槽的底面与第二环形凸起所成的钝角过大,使该第二环形凸起的回弹力小于第二环形凸起本身趋向与另一边的内应力,无法实现密封圈在受力时复位,会降低密封圈的回弹能力,故将下环形凹槽的底面与第二环形凸起所成的角控制在100-120度之间时,最为恰当;同理,下环形凹槽的底面与第四环形凸起的侧面所呈的角为100-120度之间最为恰当。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术具体实施方式结构示意图;图2为本技术具体实施方式结构剖视示意图;图3为图2的A部放大图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。如图1—图3所示,本技术公开了一种用于活塞的密封圈,在本实用新型具体实施例中,包括密封圈本体1,该密封圈本体的外壁呈向外凸出的弧形状,该密封圈本体的内壁呈内凹的弧形面,该密封圈内圈的边沿向轴向两端延伸有第一环形凸起2及第二环形凸起4,密封圈外圈的边沿向轴向两端延伸有第三环形凸起3及第四环形凸起5,该第一环形凸起2与第三环形凸起3形成上环形凹槽6,该第二环形凸起4与第四环形凸起5形成下环形凹槽7,所述的第三环形凸起3的端面上间隔设置有上缓冲块8,第四环形凸起5的端面上间隔设置有下缓冲块9,密封圈的外壁为弧形状,与气缸的内壁是线接触,未增加摩擦力的情况下提高了密封效果,且密封圈的内壁为弧形面,使该密封圈具有弹力,保证了密封圈在受力时的回弹力,保证了密封效果,且在密封圈上设置上环形凹槽与下环形凹槽,有效的增加了该密封圈的柔韧性,使密封圈具备受力时的回弹力,使该结构的密封圈的密封性能更强,上缓冲块及下缓冲块具有缓冲余量,能更好的承受在运动过程中,由于气缸内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于活塞的密封圈,其特征在于:包括密封圈本体,该密封圈本体的外壁呈向外凸出的弧形状,该密封圈本体的内壁呈内凹的弧形面,该密封圈内圈的边沿向轴向两端延伸有第一环形凸起及第二环形凸起,密封圈外圈的边沿向轴向两端延伸有第三环形凸起及第四环形凸起,该第一环形凸起与第三环形凸起形成上环形凹槽,该第二环形凸起与第四环形凸起形成下环形凹槽,所述的第三环形凸起的端面上间隔设置有上缓冲块,第四环形凸起的端面上间隔设置有下缓冲块。

【技术特征摘要】
1.一种用于活塞的密封圈,其特征在于:包括密封圈本体,该密封圈本体
的外壁呈向外凸出的弧形状,该密封圈本体的内壁呈内凹的弧形面,该密封圈
内圈的边沿向轴向两端延伸有第一环形凸起及第二环形凸起,密封圈外圈的边
沿向轴向两端延伸有第三环形凸起及第四环形凸起,该第一环形凸起与第三环
形凸起形成上环形凹槽,该第二环形凸起与第四环形凸起形成下环形凹槽,所
述的第三环形凸起的端面上间隔设置有上缓冲块,第四环形凸起的端面上间隔
设置有下缓冲块。
2.根据权利要求1所述的用于活塞的密封圈,其特征在于:所述的上缓冲
块与下缓冲块沿竖直方向错位设置。
3.根据权利要求1或2所述的用于活塞的密封圈,其特征在于:所述的上
缓冲块包括上缓冲块本体,该上缓冲块本体沿长度方向上的两侧面为弧形面,
且上缓冲块本体沿长度方向上的两端为半圆状结构,所述的下缓冲块包括下缓
冲块本体,该下缓冲块本体沿长度方向上的两侧面为弧形面,且下缓冲块本体
沿长度方向上的两端为半圆状结...

【专利技术属性】
技术研发人员:支一杰支绍财颜晓彬
申请(专利权)人:乐清卓正气动有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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