本实用新型专利技术涉及一种真空刻蚀线传送装置，包括外框架，架设于两侧外框架之间的旋转杆，所述旋转杆上套设有若干主滚轮，所述主滚轮在所述旋转杆上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间设有至少一个辅助滚轮，所述辅助滚轮的外径小于所述主滚轮的外径。本实用新型专利技术通过在所述稀疏区的主滚轮之间加装辅助滚轮，以起到支撑板角的作用，同时令辅助滚轮的外径小于主滚轮的外径，避免辅助滚轮与电路板板面的接触。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种真空刻蚀线传送装置，包括外框架，架设于两侧外框架之间的旋转杆，所述旋转杆上套设有若干主滚轮，所述主滚轮在所述旋转杆上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间设有至少一个辅助滚轮，所述辅助滚轮的外径小于所述主滚轮的外径。本技术通过在所述稀疏区的主滚轮之间加装辅助滚轮，以起到支撑板角的作用，同时令辅助滚轮的外径小于主滚轮的外径，避免辅助滚轮与电路板板面的接触。【专利说明】真空刻蚀线传送装置
本技术涉及真空刻蚀设备领域，特别涉及一种真空刻蚀线传送装置。
技术介绍
在印制电路板过程中，以HDI (高密度互连，英文全称:High DensityInterconnector)板微影真空刻蚀生产线为例，需要用真空刻蚀传送装置传送电路板，如图1所示，现有的真空刻蚀线传送装置包括边缘的外框架1，架设于两侧外框架I之间的旋转杆2，所述旋转杆2上套设有若干滚轮3，目前，所述滚轮3在所述旋转杆2上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，当电路板在所述滚轮3的带动下，沿图中箭头方向移动时，可起到减少电路板的板面与滚轮3的接触面积，进而减少残铜等板面品质异常及增加刻蚀均勻性的作用。但是，在生产厚度小于等于4.0mil (约0.1mm)的薄板时,薄板的边缘容易在稀疏区中两相邻的滚轮3之间下垂，造成折伤板角或卡板异常。
技术实现思路
本技术提供一种真空刻蚀线传送装置，以解决上述技术问题。 为解决上述技术问题，本技术提供一种真空刻蚀线传送装置，包括外框架，架设于两侧外框架之间的旋转杆，所述旋转杆上套设有若干主滚轮，所述主滚轮在所述旋转杆上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间设有至少一个辅助滚轮，所述辅助滚轮的外径小于所述主滚轮的外径。 较佳地，所述主滚轮的外径为30mm，所述辅助滚轮的外径为25mm。 较佳地,所述旋转杆的长度为890mm,所述稀疏区的长度为700mm,所述密集区的长度为95mm。 较佳地，所述密集区内，两个相邻的主滚轮之间的间距为15_，所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间的距离为60mm。 较佳地，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间的所述辅助滚轮的数量为2?3个。 与现有技术相比，本技术提供的真空刻蚀线传送装置，包括外框架，架设于两侧外框架之间的旋转杆，所述旋转杆上套设有若干主滚轮，所述主滚轮在所述旋转杆上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间设有至少一个辅助滚轮，所述辅助滚轮的外径小于所述主滚轮的外径。本技术通过在所述稀疏区的主滚轮之间加装辅助滚轮，以起到支撑板角的作用，同时令辅助滚轮的外径小于主滚轮的外径，避免辅助滚轮与电路板板面的接触。 【专利附图】【附图说明】 图1为现有的真空刻蚀线传送装置的结构示意图； 图2为本技术一【具体实施方式】的真空刻蚀线传送装置的结构示意图。 图1中:1-外框架、2-旋转杆、3-滚轮； 图2中:10_外框架、20-旋转杆、30-主滚轮、40-辅助滚轮、50-电路板。 【具体实施方式】 为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的【具体实施方式】做详细的说明。需说明的是，本技术附图均采用简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。 本技术提供的真空刻蚀线传送装置，如图2所示，包括外框架10，架设于两侧外框架10之间的旋转杆20，所述旋转杆20上套设有若干主滚轮30，所述主滚轮30在所述旋转杆20上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮30之间设有至少一个辅助滚轮40，所述辅助滚轮40的外径小于所述主滚轮30的外径。本技术通过在所述稀疏区的主滚轮30之间加装辅助滚轮40，以起到支撑板角的作用，同时令辅助滚轮40的外径小于主滚轮30的外径，避免辅助滚轮40与电路板50板面的接触。 较佳地，请继续参考图2，所述主滚轮30的外径为30mm，所述辅助滚轮40的外径为25mm，当然，该尺寸可根据板厚及硬度等因素进行调节；较佳地，所述旋转杆20的长度为890_，所述稀疏区的长度为700_，所述密集区的长度为95_，使得该传送装置适用于各种不同尺寸的电路板50 ;较佳地，所述密集区内，两个相邻的主滚轮30之间的间距为15mm，所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮30之间的距离为60mm，较佳地，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮30之间的所述辅助滚轮40的数量为2?3个，既能避免电路板50的板角下垂，出现折伤板角及卡板异常，又能避免电路板50的板面与辅助滚轮40接触过多，进而影响蚀刻均匀性。 综上所述，本技术提供的真空刻蚀线传送装置，包括外框架10，架设于两侧外框架10之间的旋转杆20，所述旋转杆20上套设有若干主滚轮30，所述主滚轮30在所述旋转杆20上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮30之间设有至少一个辅助滚轮40，所述辅助滚轮40的外径小于所述主滚轮30的外径。本技术通过在所述稀疏区的主滚轮30之间加装辅助滚轮40，以起到支撑板角的作用，同时令辅助滚轮40的外径小于主滚轮30的外径，避免辅助滚轮40与电路板50板面的接触。 显然，本领域的技术人员可以对技术进行各种改动和变型而不脱离本技术的精神和范围。这样，倘若本技术的这些修改和变型属于本技术权利要求及其等同技术的范围之内，则本技术也意图包括这些改动和变型在内。【权利要求】1.一种真空刻蚀线传送装置，包括外框架，架设于两侧外框架之间的旋转杆，所述旋转杆上套设有若干主滚轮，所述主滚轮在所述旋转杆上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，其特征在于，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间设有至少一个辅助滚轮，所述辅助滚轮的外径小于所述主滚轮的外径。2.如权利要求1所述的真空刻蚀线传送装置，其特征在于，所述主滚轮的外径为30_，所述辅助滚轮的外径为25mm。3.如权利要求1所述的真空刻蚀线传送装置，其特征在于，所述旋转杆的长度为890_，所述稀疏区的长度为700_，所述密集区的长度为95_。4.如权利要求1所述的真空刻蚀线传送装置，其特征在于，所述密集区内，两个相邻的主滚轮之间的间距为15mm，所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间的距离为60mm。5.如权利要求4所述的真空刻蚀线传送装置，其特征在于，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间的所述辅助滚轮的数量为2?3个。【文档编号】H05K3/00GK204157167SQ201420556672【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年9月25日 优先权日:2014年9月25日 【专利技术者】刘爱斌, 鲍艺, 郑贵平 申请人:昆山鼎鑫电子有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空刻蚀线传送装置，包括外框架，架设于两侧外框架之间的旋转杆，所述旋转杆上套设有若干主滚轮，所述主滚轮在所述旋转杆上的分布分为两端的密集区和中部的稀疏区，其特征在于，在所述稀疏区内，两个相邻的主滚轮之间设有至少一个辅助滚轮，所述辅助滚轮的外径小于所述主滚轮的外径。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘爱斌，鲍艺，郑贵平，
申请(专利权)人：昆山鼎鑫电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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