【技术实现步骤摘要】
基于表面镀膜共焦显微形貌测量装置的膜厚误差校正方法属于共焦扫描光学测量
技术介绍
对于光滑大区率表面样品,由于照明光在其表面发生镜面反射,当测量与样品表面法线方向与测量系统光轴超过一定角度,经样品表面反射回的信号光无法被口径有限的物镜全部收集,甚至无法收集,从而造成此类样品无法测量或测量分辨率降低。解决上述问题,可以在光滑大区率表面镀上一层荧光膜,使得光滑样品表面具有散射特性,在理想情况下,信号光以近90度的立体角散射传播,实现信号光的全口径收集。然而,由于镀膜工艺无法保证样品表面的荧光膜厚度一致,荧光膜厚度会随着样品表面斜率的增加而变薄,这种膜厚不均会引入二分之一厚膜厚度的误差,影响测量精度。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术设计了一种基于表面镀膜共焦显微形貌测量装置的膜厚误差校正方法,该膜厚误差校正方法能够实现对荧光膜膜厚引入误差的补偿,有效校正镀膜膜厚不均引起的误差,并将此误差降低到十分之一膜厚以下。本专利技术的目的是这样实现的:基于表面镀膜共焦显微形貌测量装置的膜厚误差校正方法,包括以下步骤:步骤a、获得镀膜待测样品三维形貌,轴向扫描间隔为z,扫描层数为N;步骤b、选取三维形貌梯度最大点,将该点轴向响应曲线数据归一化,记为I1,将其余点轴向响应曲线数据归一化,记为I2;步骤c、以sinc4(a(x×z-b))为目标函数,利用Levenberg-Marquardt算法分别拟合 ...
【技术保护点】
基于表面镀膜共焦显微形貌测量装置的膜厚误差校正方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤a、获得镀膜待测样品三维形貌,轴向扫描间隔为z,扫描层数为N;步骤b、选取三维形貌梯度最大点,将该点轴向响应曲线数据归一化,记为I1,将其余点轴向响应曲线数据归一化,记为I2;步骤c、以sinc4(a(x×z‑b))为目标函数,利用Levenberg‑Marquardt算法分别拟合I1与I2,求得两组a和b,第一组对应I1的最优拟合参数,记为a1和b1,第二组对应I2的最优拟合参数,记为a2和b2;步骤d、分别计算I1(n)=sinc4(a1×n×z)和I2(n)=sinc4(a2×n×z),n为大于min(int(‑π/(a1×z)),int(‑π/(a2×z))),小于max(int(‑π/(a1×z)),int(‑π/(a2×z)))的整数,min()表示最小值,max()表示最大值,int()表示取整运算;步骤e、将I1(n)与矩形函数做卷积运算,结果记为I'(n,hi),有:hi为非0整数,也是矩形函数的偏移量,还是矩形函数的半宽度;步骤f、从I'(n,hi)与I2(n)中提取半高以上数据,分别 ...
【技术特征摘要】
1.基于表面镀膜共焦显微形貌测量装置的膜厚误差校正方法,其特征在于,包括
以下步骤:
步骤a、获得镀膜待测样品三维形貌,轴向扫描间隔为z,扫描层数为N;
步骤b、选取三维形貌梯度最大点,将该点轴向响应曲线数据归一化,记为I1,将
其余点轴向响应曲线数据归一化,记为I2;
步骤c、以sinc4(a(x×z-b))为目标函数,利用Levenberg-Marquardt算法分别拟合I1与I2,求得两组a和b,第一组对应I1的最优拟合参数,记为a1和b1,第二组对应I2的最优拟合参数,记为a2和b2;
步骤d、分别计算I1(n)=sinc4(a1×n×z)和I2(n)=sinc4(a2×n×z),n为大于min(int(-π/(a1×z)),
int(-π/(a2×z))),小于max(int(-π/(a1×z)),int(-π/(a2×z)))的整数,min()表示最小值,max()
表示最大值,int()表示取整运...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘俭,谭久彬,刘辰光,张贺,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:黑龙江;23
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