本发明专利技术的目的在于提供一种耐酸性和耐候性良好的信息记录介质基板用玻璃。一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物以摩尔％表示时，所述玻璃包含：61～72％的SiO2、3～12％的Al2O3、0.1～14.3％的Li2O、0～22％的Na2O、0～22％的K2O、4～13％的MgO、0～6％的TiO2和0～5％的ZrO2；限制条件是：Li2O、Na2O和K2O的总含量、即R2O的含量为8～15％，并且(a)Li2O的含量和R2O的含量之比Li2O/R2O至多为0.52，(b)Na2O的含量和R2O的含量之比Na2O/R2O至少为0.35，或者(c)K2O的含量和R2O的含量之比K2O/R2O至少为0.45。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术的目的在于提供一种耐酸性和耐候性良好的信息记录介质基板用玻璃。一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物以摩尔％表示时，所述玻璃包含：61～72％的SiO2、3～12％的Al2O3、0.1～14.3％的Li2O、0～22％的Na2O、0～22％的K2O、4～13％的MgO、0～6％的TiO2和0～5％的ZrO2；限制条件是：Li2O、Na2O和K2O的总含量、即R2O的含量为8～15％，并且(a)Li2O的含量和R2O的含量之比Li2O/R2O至多为0.52，(b)Na2O的含量和R2O的含量之比Na2O/R2O至少为0.35，或者(c)K2O的含量和R2O的含量之比K2O/R2O至少为0.45。【专利说明】信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁 盘 本专利技术专利申请是申请号为201010159823. 0,申请日为2010年4月1日，名称 为"信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘"的专利技术专利申请的分案申 请。
本专利技术涉及例如磁盘（硬盘）等信息记录介质基板所用的玻璃、信息记录介质用 玻璃基板W及磁盘。
技术介绍
玻璃基板被广泛用作信息记录介质、特别是磁盘用的基板，已知一种市售玻璃基 板，该玻璃基板的组成W摩尔％表示包含；65. 4 %的Si〇2、8. 6 %的Al2〇3、12. 5 %的叫0、 10. 5 %的Na2〇和3. 0 %的Zr〇2。该市售玻璃经过化学强化处理W便使用。 另一方面，专利文献1提出了一种未经过化学强化处理的磁盘用基板玻璃。 专利文献 1 ; JP-A-2002-358626 (表 1 ?14) 在磁盘用玻璃基板的抛光或洗涂工序中使用低抑的酸，所W要求磁盘用玻璃基 板在抛光或洗涂工序中在低抑条件下不会发生表面粗趟，也即具有耐酸性。此外，通过使 用具有低抑的酸，可提高抛光速率或洗涂工序中除去缺陷的能力。但是，对于耐酸性低的 玻璃，如果使用具有低抑的酸，则抛光速率降低，或者在洗涂后容易有缺陷残留，导致质量 变差。 要求磁盘用玻璃基板具有W下性质：形成于基板上的膜、例如基底膜、磁性膜、保 护膜不会因储存过程中的显著的表面状况变化而剥离，即要求具有耐候性。例如Li、化、K 等碱金属组分被广泛用作玻璃烙化促进剂。但是，该类组分会被空气中的水分从玻璃中选 择性地析出，最终与空气中的例如二氧化碳气体或二氧化硫气体等组分反应，W碱金属碳 酸盐或碱金属硫酸盐（白斑）的形式附着于玻璃表面。因此要求防止上述反应。 此外，如果碱金属组分扩散到磁性膜中，则容易发生记录的信息被擦除的现象。因 此，存在记录介质的可靠性下降的问题。 本专利技术人对上述的市售的经化学强化的玻璃进行了下述的耐候性试验，结果Li、 化和K的总沉淀量Ce为3. 5nmol/cm2 (后述的实施例123)。未经化学强化的玻璃的Ce为 18. 3nmol/cm2(后述的实施例124)。未经化学强化的玻璃的耐候性低，显然化学强化处理 可提高耐候性。也就是说，本专利技术人首次提出，通过化学强化处理可使玻璃能用作磁盘用玻 璃基板，认为其原因如下：玻璃表面的具有较大的离子半径的碱金属组分的量随着化学强 化处理而增加，迁移率降低。但是，存在如下问题；化学强化处理会增加制造工序数，导致成 本上升，且基板表面容易因化学强化处理而受到污染。 另一方面，专利文献1中例举的组成中，除碱金属组分外大都包含至少1摩尔％的 Bs化。添加Bs化例如是为了降低玻璃的脆性、降低比重或改进玻璃的烙烙性质。但是，如果 B2化与碱金属组分共存，则会形成具有极低的蒸气压的碱金属测酸盐化合物，该碱金属测酸 盐组分从玻璃烙体中剧烈地挥发和扩散。 图1所示为测化合物的蒸气压曲线，该蒸气压曲线根据Malcolm W.化ase，化. 的 NIST-JANAF 热化学表（Thermochemical T油Ies), (U. S. A.),第四版，the American Qiemical Society and American Institute of Physics, 1998 年，第 242-274 页中掲不 的热力学数据算出。蒸气压P根据各温度下的气相和冷凝相之间的自由能差值AG通过W 下公式算出。结果示于图1。 [001 引 AG = RTlnP 式中R为气体常数。 由图1可知，碱金属测化合物的蒸气压明显高于B203的蒸气压。由于上述现象，会 产生例如条纹等不均匀缺陷，使得玻璃的质量变差，同时也存在如下问题：挥发的材料在玻 璃烙炉中使用的耐火材料上冷凝，因而耐火材料的强度大幅下降，挥发物质的回收需要很 高的成本。 此外，为了研究Bs化的含量对碱金属组分从玻璃中挥发的影响，将下述实施例29、 137U38的各玻璃置于笛巧锅，在160(TC下放置23小时，在置于笛巧锅之前和之后分别用 ICP-MS分析玻璃中的LiaO和Na2〇的量。此外，实施例29、137、138的玻璃中的Ba化含量分 别为0摩尔％、1摩尔％、1. 5摩尔％。 结果，置于笛巧锅之前和之后的实施例29、137、138的玻璃中的LisO的减少量（绝 对量）分别为0.0质量％、〇. 1质量％、〇. 1质量％。Na2〇的减少量（绝对量）分别为0.4 质量％、0. 8质量％、0. 9质量％。也就是说，不含B203的实施例29与包含至少1摩尔％ B203 的实施例137、138相比，Na2〇的减少量明显不同。 此外，专利文献1中掲示了五个不含B203的实施例。但是，上述各实施例中，玻璃 中的碱金属组分的含量高，因而认为旬至少为12nmol/cm 2,还认为碱金属容易扩散到磁性 膜中，可靠性差。此外，后述的实施例125对应于专利文献1中的实施例63的玻璃，后述的 硝酸蚀刻速率为181nm/h。因此，表面粗趟很可能导致要在低抑条件下进行抛光或洗涂工 序，质量变差。 本专利技术人认为，上述问题发生的原因在于，玻璃在耐酸性试验中表现出高硝酸蚀 刻速率，且在耐候性试验中有大量的碱金属沉淀。因此，为了在不实施化学强化处理并且不 引入大量的Bs化的情况下解决上述问题，从而完成了本专利技术。
技术实现思路
本专利技术提供一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物W摩 尔％表示时，所述玻璃包含；61?72%的Si〇2、3?12%的Al2〇3、〇. 1?14. 3%的Li2〇、0? 22%的化2〇、0?22%的馬0、4?13%的Mg0、0?6%的Ti〇2和0?5%的Zr〇2 ;限制条件 是；叫0、化2〇和馬0的总含量、即RaO的含量为8?15 %，并且（a)叫0的含量和RaO的含 量之比Li2〇/R2〇至多为0. 52,（b)Na2〇的含量和尺2〇的含量之比Na2〇/R2〇至少为0. 35,或者 (C)KsO的含量和尺2〇的含量之比K2O/R2O至少为0. 45。在此，例如"包含0?14. 3的Li2〇" 是指LigO不是必需的，但可W包含最局为14. 3%的LigO。 此外，本专利技术提供上述的信息记录介质基板用玻璃，其中，AI2O3为3?11 %，R2O为 10 ?15%。 此外，本发本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物以摩尔％表示时，包含：61～72％的SiO2、3～12％的Al2O3、0.1～14.3％的Li2O、0～22％的Na2O、0～22％的K2O、4～13％的MgO、0～6％的TiO2和0～5％的ZrO2；限制条件是：Li2O、Na2O和K2O的总含量、即R2O的含量为8～15％，并且(a)Li2O的含量和R2O的含量之比Li2O/R2O至多为0.52，(b)Na2O的含量和R2O的含量之比Na2O/R2O至少为0.35，或者(c)K2O的含量和R2O的含量之比K2O/R2O至少为0.45。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：远藤淳，长嶋达雄，中岛哲也，M·D·雷耶斯，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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