可溶液加工的氧化钨缓冲层和包括其的电子器件制造技术

技术编号:10812912 阅读:162 留言:0更新日期:2014-12-24 17:49
本发明专利技术涉及有机电子器件领域,例如OLED、OPV和有机光检测器。本发明专利技术特别地提供适于制造这种有机电子器件的中间体和材料,提供特殊的制造方法和提供特殊的应用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】可溶液加工的氧化钨缓冲层和包括其的电子器件本专利技术涉及有机电子器件领域,例如OLED和OPV。本专利技术特别地提供适于制造这种有机电子器件的中间体和材料,提供特殊的制造方法和提供特殊的应用。已知将缓冲层用于有机电子器件中,例如有机发光二极管(OLED)或者有机光伏电池(OPV),从而增加器件效率。这些层的厚度通常在100纳米以下,以保留光学透明度和较低的串联电阻。这种层可包括WO3和/或MoO3,其呈现显著深埋(deeplying)的电子态,且被氧空缺强烈n-掺杂。梅也(Meyer)等,(《先进材料》(Adv.Mater.)2008,20,3839–3843)揭示了从覆盖了MoO3或WO3空穴注入层(HIL)(也称为空穴传输层(HTL))的ITO电极,使用深埋的HOMO能级有效地将空穴注入有机材料。因此,可实现只由一或两个有机层组成的简化器件结构。如上所述的MoO3和WO3空穴注入层通常通过在高真空下的热蒸发来制造;就低成本、大面积制造加工而言,这是不利的。梅也(Meyer)等,(《先进材料》(Adv.Mater.)德语23,702011)和斯图班(Stubhan)等(《应用物理快报本文档来自技高网...
可溶液加工的氧化钨缓冲层和包括其的电子器件

【技术保护点】
一种悬浮液形式的组合物,所述组合物包含(a)选自下组的氧化钨纳米颗粒■纯氧化钨纳米颗粒,■掺杂的氧化钨纳米颗粒,以及■核‑壳纳米颗粒,其中所述壳由氧化钨或掺杂的氧化钨组成且所述核由不同的无机材料组成;(b)均相溶剂组合物,其包括■水,■与水形成二元共沸物的第一有机溶剂;其中,在所述溶剂组合物(b)中水的量在相对于所述第一有机溶剂的共沸总含水量以下;以及其中,纳米颗粒的量:水的量之比在9:1(重量/重量)以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.02.22 EP 12001157.21.一种悬浮液形式的组合物,所述组合物包含(a)选自下组的氧化钨纳米颗粒■纯氧化钨纳米颗粒,■掺杂的氧化钨纳米颗粒,以及■核-壳纳米颗粒,其中所述壳由氧化钨或掺杂的氧化钨组成且所述核由不同的无机材料组成;(b)均相溶剂组合物,其包括■水,■与水形成二元共沸物的第一有机溶剂;其中,在所述溶剂组合物(b)中水的量在相对于所述第一有机溶剂的共沸总含水量以下;其中,在所述组合物中水的量是0.1-20重量%,以及其中,纳米颗粒的量:水的量之比在9:1(重量/重量)以下。2.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,■在所述组合物中水的量是0.1-20重量%;以及■在所述组合物中氧化钨纳米颗粒的量是1-5重量%。3.如权利要求1或2所述的组合物,其特征在于,所述均相溶剂组合物(b)还包括与水形成二元共沸物的第二有机溶剂,其中,在所述溶剂组合物(b)中水的量在相对于所述第一有机溶剂和所述第二有机溶剂的共沸总含水量以下。4.如权利要求1或2所述的组合物,其特征在于,所述均相溶剂组合物(b)还包括不与水形成二元共沸物的第三有机溶剂。5.如权利要求1所述的组合物,其由下述组分组成6.如权利要求3所述的组合物,其特征在于,■所述第一有机溶剂选自下组:醇和腈;■所述第二有机溶剂选自下组:醇、腈、酮、酯、醚、醛和烷氧基醇;以及,其中所述醇可部分地或全部地被卤素取代,以及,其中所述醇可包含多重键,以及,其中所述有机溶剂可包括直链的、支化的或环状的衍生物。7.如权利要求1或2所述的组合物,其特征在于,所述纳米颗粒的量的范围是0.1-20重量%,所述均相溶剂组合物的量的范围是80-99.9重量%。8.如权利要求4所述的组合物,其特征在于,■所述第三有机溶剂选自下组:醇、腈、酮、酯、醚、醛和烷氧基醇;以及,其中所述醇可部分地或全部地被卤素取代,以及,其中...

【专利技术属性】
技术研发人员:N·A·卢钦格S·C·哈利姆
申请(专利权)人:纳米格拉德股份公司
类型:发明
国别省市:瑞士;CH

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