氧化钨光催化剂及其制造方法技术

本发明专利技术涉及制造其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂的方法，包括将脲溶解在溶液中，在所述溶液中，负载铜离子的氧化钨粒子均匀分散在二氧化钛溶胶中，将脲热分解，由此使二氧化钛沉淀在负载铜离子的氧化钨的表面上并负载在其上；还涉及通过该方法获得的用二氧化钛和铜离子改性的氧化钨光催化剂，其中在紫外线照射之前和之后的漫反射率（在700纳米波长下）变化率小于3％，且二氧化钛以1至100纳米大小的岛形状负载在氧化钨上。本发明专利技术的其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂在可见光照射下表现出高的催化剂活性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及其上负载有二氧化钛和铜离子的。具体而言，本专利技术涉及其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂，其在波长400纳米或更高的可见光照射下具有高催化剂活性，长时间保持催化剂性能而没有变色，并可用于对抗细菌和病毒、消除气味、脱臭、净化空气、净化水等等；还涉及其制造方法。
技术介绍
二氧化钛是众所周知为光催化剂的材料，但在没有紫外线的地方几乎无功能。因此，已经对可使用可见光的氧化钨光催化剂进行了广泛的研究。通过在可见光照射下的光激发，仅使用氧化钨粒子的光催化剂分别产生在价带中的空穴和在导电带中的电子。但是由于导电带具有比氧化还原电位低的能级，因此无法用导电带中激发的电子还原氧，且活性氧物类的生成不足。因此，该光催化剂在可见光照射下的环境中没有表现出光催化剂活性。因此，在改进可见光照射下的催化剂活性的尝试中，已提出具有负载在氧化钨表面上的助催化剂的催化剂。例如，负载钼的催化剂可表现出在可见光照射下的光催化剂活性(JP-A-2009-160566 (美国专利No. 8，017，238);专利文献I)。但是，贵金属，例如钼，由于它们的稀缺性而具有高成本的问题。另一方面，已提出了一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.07 JP 126842/20111.制造其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂的方法，包括将脲溶解在溶液中，在所述溶液中，负载铜离子的氧化钨粒子均匀分散在二氧化钛溶胶中，将脲热分解，由此使二氧化钛沉淀在负载铜离子的氧化钨的表面上并负载在其上。2.如权利要求1中所述的制造其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂的方法，其中脲的热分解在60至95°C进行。3.如权利要求1或2中所述的制造其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂的方法，其中脲相对于100质量份的负载铜离子的氧化钨粒子以5至20质量份的量添加。4.如权利要求1至3任一项中所述的制造其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂的方法，其中所述二氧化钛溶胶是通过将四氯化钛的水溶液与60°C或更高温度的热水混合并使所述混合物水解而制成的水分散的二氧化钛溶胶。5.如权利要求1至4任一项中所述的制造其上负载有二氧化钛和铜离子的氧化钨光催化剂的方法，其中二氧化钛以I至100...

【专利技术属性】
技术研发人员：细木康弘，黑田靖，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：
国别省市：