放射线屏蔽膜及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种具有柔韧性、使用便利性高、加工成型性好且具有较高的放射线屏蔽效果的放射线屏蔽膜。该放射线屏蔽膜含有80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料和作为粘合剂的0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯。

【技术实现步骤摘要】
放射线屏蔽膜及其制造方法
本专利技术涉及一种放射线屏蔽膜及其制造方法，本专利技术的放射线屏蔽膜含有能够屏蔽X射线等放射线的放射线屏蔽材料。
技术介绍
作为放射线屏蔽材料，一直以来主要使用铅和含有铅的复合材料。但是，铅成分若被人体吸收则是有害的，需要特别注意铅成分的使用、废弃等，存在安全方面的问题。另外，作为放射线屏蔽材料，一直以来使用例如具有一定厚度的铅板、将具有较高的放射线屏蔽率的粉体与热塑性树脂或热塑性弹性体混合后成型而成的屏蔽板等，但是在形成为板状的情况下，存在使用便利性差及加工成型性差的这一问题。近年来，作为铅的替代，将钨、锡、锑和铋等用作放射线屏蔽材料。钨是一种具有较高的放射线屏蔽能力但价格较为昂贵的材料，铋也是一种具有与铅同等的放射线屏蔽能力但价格比较昂贵的材料。另一方面，锑和锡不具备足够的放射线屏蔽能力，因此若要使屏蔽膜保持所需要的屏蔽能力，存在需要增加屏蔽膜厚度的问题。另外，在专利文献1（日本特开2007–271539号公报）中，作为铅的代替品，例如公开了将屏蔽能力高的钨粉末涂敷到衬底表面上而形成的放射性屏蔽膜、由钨粒子和热塑性树脂构成的放射线屏蔽膜等。但是，这些屏蔽膜由于其主要原料钨的价格昂贵，所以存在制造成本高的问题。此外，专利文献2（日本特开2007–212304号公报）中提出一种用硫酸钡代替铅来作为放射线屏蔽材料的屏蔽膜，即、含有75wt%以上的硫酸钡和热塑性树脂及/或热塑性弹性体的放射线屏蔽膜。另外，专利文献3（日本特表2007–085865号公报）中提出了一种将稀土氧化物用作屏蔽材料的放射线屏蔽膜，其中，有机高分子材料为5wt%～20wt%，并且放射线屏蔽膜内的空隙率为10%～30%。但是，采用这些屏蔽材料时，因为屏蔽能力不够，所以在将具有足够屏蔽能力的屏蔽材料填充到屏蔽膜内的情况下，存在屏蔽膜增厚、多用性较差等的问题。另外，在专利文献2中虽然已经公开了通过少量混合作为改性剂的PTFE系树脂而获得的屏蔽膜，但是该屏蔽膜将聚氯乙烯用作粘合剂，所以在柔韧性方面存在问题。在这种情况下，希望开发一种不存在安全方面的问题、具有较高的放射线屏蔽能力且更为经济的放射线屏蔽膜。
技术实现思路
本专利技术鉴于现有技术的缺陷，目的在于提供一种具有柔韧性、使用便利性高、易于加工成型且具有较高的放射线屏蔽效果的放射线屏蔽膜。本专利技术的一方面在于提供一种放射线屏蔽膜，其含有80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料和作为粘合剂的0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯，其中，所述放射线屏蔽膜的总重量为100wt%。较优的，所述放射线屏蔽膜的空隙率为3%～30%。较优的，所述放射线屏蔽膜的厚度为0.5mm～6.0mm。较优的，所述的放射线屏蔽膜还含有聚四氟乙烯以外的粘合剂，该聚四氟乙烯以外的粘合剂的相对于上述聚四氟乙烯的总重量的含量为50wt%以下；或者所述的放射线屏蔽膜不含有聚四氟乙烯以外的粘合剂。较优的，所述聚四氟乙烯为纤维状。较优的，所述放射线屏蔽材料选自钨、锡、锑、铋、钡、硅的单质，钨、锡、锑、铋、钡、硅的化合物，以及稀土元素氧化物中的一种或者两种以上的组合。更优的，所述放射线屏蔽材料选自铋、硫酸钡和氧化铈中的一种或者两种以上的组合。较优的，所述放射线屏蔽膜还含有着色剂。更优的，所述着色剂为炭黑或活性炭。本专利技术第二方面在于提供一种上述放射线屏蔽膜的制造方法，其包括混合工序和膜化工序，在所述混合工序中，按照所述放射线屏蔽膜的总重量为100wt%计，将80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料和0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯混合；在所述膜化工序中，在以使所述聚四氟乙烯成为纤维的条件下，轧制混合工序中所获得的混合物而使其成为膜状。较优的，在所述混合工序中，还混合有着色剂。更优的，所述着色剂是炭黑或活性炭。较优的，在所述混合工序中，在所述混合工序中混合聚四氟乙烯以外的粘合剂，该聚四氟乙烯以外的粘合剂的相对于所述聚四氟乙烯的总重量的含量为50wt%以下；或者在所述混合工序中不混合聚四氟乙烯以外的粘合剂。本专利技术的放射线屏蔽膜由于屏蔽材料含量较高，所以放射线屏蔽能力优异，而且柔韧性好，使用便利性高，加工成型性好（即易于进行加工成型）。附图说明图1是本专利技术的放射线屏蔽膜的一例。图2是一种本专利技术的放射线屏蔽膜的另一例。1、钡、铋化合物颗粒2、纤维化的PTFE高分子材料3、炭黑具体实施方式下面，进一步详细说明本专利技术的放射线屏蔽膜（以下，有时简称为“屏蔽膜”）。本专利技术的放射线屏蔽膜含有80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料、和作为粘合剂的0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯（其中，上述放射线屏蔽膜的总重量为100wt%）。〈放射线屏蔽材料〉作为本专利技术所用的放射线屏蔽材料，可以举出钨、锡、锑、铋、钡、硅这些元素、这些元素的化合物（例如氧化物和硫氧化物等）、稀土类元素（例如从镧（La）、铈（Ce）、镨（Pr）、钕（Nd）、钐（Sm）、铕（Eu）、钆（Gd）中选择的至少1种）的氧化物等。这些放射线屏蔽材料可以单独使用，也可以适当地组合使用2种以上。在这些放射线屏蔽材料中，优选使用屏蔽能力高的铋及其化合物（例如氧化物和硫氧化物等）。若进一步考虑到成本的问题，则特别优选混合使用铋和硫酸钡。铋与硫酸钡的混合比（重量比）优选为1：3～3：1。这种放射线屏蔽材料的组合方式能够降低成本，且能够发挥较高的放射线屏蔽能力。对于放射线屏蔽材料的形状，没有特别限定，可以使用颗粒状、粉末状等与以往公知的材料所具有的形状相同的形状。其中，优选为粉末状。放射线屏蔽材料的含量通常是本专利技术放射线屏蔽膜的总重量的80wt%～99.9wt%，优选是80wt%～97wt%，更优选是85wt%～97wt%。当放射线屏蔽材料的含量处于此范围内时，放射线屏蔽材料能够以高密度被填充，因此上述屏蔽膜具有较高的放射线屏蔽能力，而且也能保持屏蔽膜的强度，比较理想。〈聚四氟乙烯〉作为本专利技术所用的聚四氟乙烯（PTFE），除了四氟乙烯的均聚物以外，例如还可以采用改性PTFE（四氟乙烯单体与含量为0.5mol%以下（将单体的总量设为100%）的其他单体的共聚物等）。另外，PTFE的形状优选为纤维状。PTFE的含量通常是本专利技术的放射线屏蔽膜的总重量（100wt%）的0.01wt%～20wt%，优选是3wt%～20wt%，进一步优选的是3wt%～10wt%。当PTFE的含量处于此范围内时，能够将放射线屏蔽材料以极高的密度填充到屏蔽膜内。〈其他的添加剂〉为了达到改变屏蔽膜色调的目的，在本专利技术的放射线屏蔽膜中还可以混合有着色剂。所述着色剂，例如可以是炭黑、活性炭和石墨粉末等；其中优选炭黑和活性炭；特别优选炭黑。着色剂的使用量可做适当调整，例如是放射线屏蔽材料和PTFE的总重量（数值）的0.001wt%～5wt%。本专利技术的放射线屏蔽膜优选不含PTFE以外的其他粘合剂（例如聚氯乙烯等的树脂）。另外，即使含有了上述粘合剂，其相对于PTFE的总重量也要在50wt%以下。不含上述粘合剂、或者即使含有了上述粘合剂但在上述范围内的情况，从本专利技术的屏蔽膜的柔韧性优异这一点而言，是比较理想的。〈屏蔽膜的制造方法〉通过将放射线屏蔽材料和PTFE混合，接着对所获得的混合物以使上述PTFE成为纤维的条本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种放射线屏蔽膜，其特征在于，以所述放射线屏蔽膜的总重量为100wt%计，该放射线屏蔽膜含有80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料、和作为粘合剂的0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯。

【技术特征摘要】
1.一种放射线屏蔽膜，其特征在于，以所述放射线屏蔽片的总重量为100wt％计，该放射线屏蔽片含有80wt％～99.9wt％的放射线屏蔽材料和作为粘合剂的0.01wt％～20wt％的聚四氟乙烯；所述放射线屏蔽材料选自单质，化合物以及稀土元素氧化物中两种以上的组合；所述单质选自钨、锡、锑、铋、钡和硅中的一种或两种以上，所述化合物选自钨、锡、锑、铋、钡和硅的化合物中的一种或两种以上；所述聚四氟乙烯为纤维状。2.根据权利要求1所述的放射线屏蔽膜，其特征在于，所述放射线屏蔽片的空隙率为3％～30％。3.根据权利要求1所述的放射线屏蔽膜，其特征在于，所述放射线屏蔽片的厚度为0.5mm～6.0mm。4.根据权利要求1所述的放射线屏蔽膜，其特征在于，所述的放射线屏蔽片含有聚四氟乙烯以外的粘合剂，该聚四氟乙烯以外的粘合剂的相对于上述聚四氟乙烯的总重量的含量为50wt％以下；或者所述的放射线屏蔽片不含有聚四氟乙烯以外的粘合剂。5.根据权利要求1所述的放射线屏蔽膜，其特征在于，所述放射线屏蔽材料选自铋、硫酸钡和氧化铈中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪漠，何晓辉，张毅，程飞，吉山友章，
申请(专利权)人：日本华尔卡工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP