一种卷绕式ITO结晶设备制造技术

技术编号:10748696 阅读:124 留言:0更新日期:2014-12-10 19:32
一种卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊,第一组夹紧辊,高温辊,第二组夹紧辊,收膜辊,第一速度检测传感器,薄膜,第二速度检测传感器;其中:放膜辊与第一组夹紧辊平行布置在框架上,第一组夹紧辊和高温辊平行布置在框架上;高温辊和第二组夹紧辊平行布置在框架上,第二组夹紧辊和收膜辊平行布置在框架上;第一速度检测传感器布置在第二组夹紧辊的下后方;第二速度检测传感器布置在第一组夹紧辊的下前方;薄膜绕在放膜辊上,顺次通过第一组夹紧辊、高温辊、第二组夹紧辊和收膜辊上。本发明专利技术的优点:加热辊能与零张力的薄膜完整贴合,且能保证每一点都能受热均匀,可以有效解决薄膜宽度的限制,可制备大尺寸ITO结晶膜。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊,第一组夹紧辊,高温辊,第二组夹紧辊,收膜辊,第一速度检测传感器,薄膜,第二速度检测传感器;其中:放膜辊与第一组夹紧辊平行布置在框架上,第一组夹紧辊和高温辊平行布置在框架上;高温辊和第二组夹紧辊平行布置在框架上,第二组夹紧辊和收膜辊平行布置在框架上;第一速度检测传感器布置在第二组夹紧辊的下后方;第二速度检测传感器布置在第一组夹紧辊的下前方;薄膜绕在放膜辊上,顺次通过第一组夹紧辊、高温辊、第二组夹紧辊和收膜辊上。本专利技术的优点:加热辊能与零张力的薄膜完整贴合,且能保证每一点都能受热均匀,可以有效解决薄膜宽度的限制,可制备大尺寸ITO结晶膜。【专利说明】一种卷绕式I TO结晶设备
本专利技术涉及Ι--结晶膜生产设备,特别涉及了一种卷绕式ΙΤ0结晶设备。
技术介绍
现在对于薄膜ΙΤ0结晶来说,薄膜主要的承载方式为平面式承载,即在0张力情 况下薄膜依附于平面板上,放置于加热真空腔室内。这种方式的缺点,薄膜宽度不能大于 500_,因为宽度过大,会造成四周与中心受热不均匀,影响结晶效果。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了能够有效解决薄膜宽度的限制,制备大尺寸ΙΤ0结晶膜,特 提供了一种卷绕式ΙΤ0结晶设备。 本专利技术提供了一种卷绕式ΙΤ0结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ΙΤ0结晶设 备,包括放膜辊1,第一组夹紧辊2,高温辊4,第二组夹紧辊5,收膜辊6,第一速度检测传感 器7,薄膜8,第二速度检测传感器9 ; 其中:放膜辊1与第一组夹紧辊2平行布置在框架上,第一组夹紧辊2和高温辊4 平行布置在框架上; 高温辊4和第二组夹紧辊5平行布置在框架上,第二组夹紧辊5和收膜辊6平行 布置在框架上; 第一速度检测传感器7布置在第二组夹紧辊5的下后方;第二速度检测传感器9 布置在第一组夹紧辊2的下前方; 薄膜8绕在放膜辊1上,顺次通过第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5和收 膜辊6上。 所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,还包括一个能抽真空环境的封闭箱体3 ; 放膜辊1、第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5、收膜辊6、第一速度检测传感 器7、薄膜8和第二速度检测传感器9均布置在能抽真空环境的封闭箱体3内。 所述的卷绕式Ι--结晶设备,还包括控制单元,控制单元为PC。 所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,还包括电机驱动装置,电机驱动装置分别连接放膜 辊1、高温辊4和收膜辊6。 工作原理: 通过放膜辊的薄膜,经过第一组夹紧辊,使其自然下垂,通过重力自然吸附在高温 辊上,薄膜贴合着高温辊来进行运动,来实现ΙΤ0的结晶。 当机构运转时,放膜辊、加热辊和收膜辊同方向旋转;加热辊的镀膜速度由人工调 节;放膜辊的速度由第二速度检测传感器进行反馈,反馈给PC,由PC进行调速。如果放膜 辊部分膜下垂量不足,则放膜辊加速,相反则减速。收膜辊的收膜速度由第一速度检测传感 器进行调节,如果收卷部分膜下垂量不足,则收膜辊减速,反之则加速。 本专利技术的优点: 本专利技术所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,加热辊能与零张力的薄膜完整贴合,且能保 证每一点都能受热均匀,可以有效解决薄膜宽度的限制,可制备大尺寸ΙΤ0结晶膜。 【专利附图】【附图说明】 下面结合附图及实施方式对本专利技术作进一步详细的说明: 图1为卷绕式ΙΤ0结晶设备结构示意图。 【具体实施方式】 实施例1 本实施例提供了一种卷绕式ΙΤ0结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ΙΤ0结晶设 备,包括放膜辊1,第一组夹紧辊2,高温辊4,第二组夹紧辊5,收膜辊6,第一速度检测传感 器7,薄膜8,第二速度检测传感器9 ; 其中:放膜辊1与第一组夹紧辊2平行布置在框架上,第一组夹紧辊2和高温辊4 平行布置在框架上; 高温辊4和第二组夹紧辊5平行布置在框架上,第二组夹紧辊5和收膜辊6平行 布置在框架上; 第一速度检测传感器7布置在第二组夹紧辊5的下后方;第二速度检测传感器9 布置在第一组夹紧辊2的下前方; 薄膜8绕在放膜辊1上,顺次通过第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5和收 膜辊6上。 所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,还包括一个能抽真空环境的封闭箱体3 ; 放膜辊1、第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5、收膜辊6、第一速度检测传感 器7、薄膜8和第二速度检测传感器9均布置在能抽真空环境的封闭箱体3内。 所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,还包括控制单元,控制单元为PC。 所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,还包括电机驱动装置,电机驱动装置分别连接放膜 辊1、高温辊4和收膜辊6。 工作原理: 通过放膜辊的薄膜,经过第一组夹紧辊,使其自然下垂,通过重力自然吸附在高温 辊上,薄膜贴合着高温辊来进行运动,来实现ΙΤ0的结晶。 当机构运转时,放膜辊、加热辊和收膜辊同方向旋转;加热辊的镀膜速度由人工调 节;放膜辊的速度由第二速度检测传感器进行反馈,反馈给PC,由PC进行调速。如果放膜 辊部分膜下垂量不足,则放膜辊加速,相反则减速。收膜辊的收膜速度由第一速度检测传感 器进行调节,如果收卷部分膜下垂量不足,则收膜辊减速,反之则加速。【权利要求】1. 一种卷绕式ITO结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊 (1),第一组夹紧辊(2),高温辊(4),第二组夹紧辊(5),收膜辊(6),第一速度检测传感器 (7),薄膜(8),第二速度检测传感器(9); 其中:放膜辊(1)与第一组夹紧辊(2)平行布置在框架上,第一组夹紧辊(2)和高温辊 (4) 平行布置在框架上; 高温辊(4)和第二组夹紧辊(5)平行布置在框架上,第二组夹紧辊(5)和收膜辊(6) 平行布置在框架上; 第一速度检测传感器(7)布置在第二组夹紧辊(5)的下后方;第二速度检测传感器 (9)布置在第一组夹紧辊(2)的下前方; 薄膜(8)绕在放膜辊(1)上,顺次通过第一组夹紧辊(2)、高温辊(4)、第二组夹紧辊 (5) 和收膜棍(6)上。2. 按照权利要求1所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ΙΤ0结晶 设备,还包括一个能抽真空环境的封闭箱体(3); 放膜辊(1)、第一组夹紧辊(2)、高温辊(4)、第二组夹紧辊(5)、收膜辊(6)、第一速度检 测传感器(7)、薄膜(8)和第二速度检测传感器(9)均布置在能抽真空环境的封闭箱体(3) 内。3. 按照权利要求1所述的卷绕式ΙΤ0结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ΙΤ0结晶 设备,还包括控制单元,控制单元为PC。4. 按照权利要求1所述的卷绕式ITO结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ITO结晶 设备,还包括电机驱动装置,电机驱动装置分别连接放膜辊(1)、高温辊(4)和收膜辊(6)。【文档编号】C01G15/00GK104192891SQ201410367386【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年7月30日 优先权日:2014年7月30日 【专利技术者】王宇 申请人:沈阳镨和真空电子设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种卷绕式ITO结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊(1),第一组夹紧辊(2),高温辊(4),第二组夹紧辊(5),收膜辊(6),第一速度检测传感器(7),薄膜(8),第二速度检测传感器(9);其中:放膜辊(1)与第一组夹紧辊(2)平行布置在框架上,第一组夹紧辊(2)和高温辊(4)平行布置在框架上;高温辊(4)和第二组夹紧辊(5)平行布置在框架上,第二组夹紧辊(5)和收膜辊(6)平行布置在框架上;第一速度检测传感器(7)布置在第二组夹紧辊(5)的下后方;第二速度检测传感器(9)布置在第一组夹紧辊(2)的下前方;薄膜(8)绕在放膜辊(1)上,顺次通过第一组夹紧辊(2)、高温辊(4)、第二组夹紧辊(5)和收膜辊(6)上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王宇
申请(专利权)人:沈阳镨和真空电子设备有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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