一种卷绕式ITO结晶设备制造技术

技术编号:10748696 阅读:126 留言:0更新日期:2014-12-10 19:32
一种卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊,第一组夹紧辊,高温辊,第二组夹紧辊,收膜辊,第一速度检测传感器,薄膜,第二速度检测传感器;其中:放膜辊与第一组夹紧辊平行布置在框架上,第一组夹紧辊和高温辊平行布置在框架上;高温辊和第二组夹紧辊平行布置在框架上,第二组夹紧辊和收膜辊平行布置在框架上;第一速度检测传感器布置在第二组夹紧辊的下后方;第二速度检测传感器布置在第一组夹紧辊的下前方;薄膜绕在放膜辊上,顺次通过第一组夹紧辊、高温辊、第二组夹紧辊和收膜辊上。本发明专利技术的优点:加热辊能与零张力的薄膜完整贴合,且能保证每一点都能受热均匀,可以有效解决薄膜宽度的限制,可制备大尺寸ITO结晶膜。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊,第一组夹紧辊,高温辊,第二组夹紧辊,收膜辊,第一速度检测传感器,薄膜,第二速度检测传感器;其中:放膜辊与第一组夹紧辊平行布置在框架上,第一组夹紧辊和高温辊平行布置在框架上;高温辊和第二组夹紧辊平行布置在框架上,第二组夹紧辊和收膜辊平行布置在框架上;第一速度检测传感器布置在第二组夹紧辊的下后方;第二速度检测传感器布置在第一组夹紧辊的下前方;薄膜绕在放膜辊上,顺次通过第一组夹紧辊、高温辊、第二组夹紧辊和收膜辊上。本专利技术的优点:加热辊能与零张力的薄膜完整贴合,且能保证每一点都能受热均匀,可以有效解决薄膜宽度的限制,可制备大尺寸ITO结晶膜。【专利说明】一种卷绕式I TO结晶设备
本专利技术涉及Ι--结晶膜生产设备,特别涉及了一种卷绕式ΙΤ0结晶设备。
技术介绍
现在对于薄膜ΙΤ0结晶来说,薄膜主要的承载方式为平面式承载,即在0张力情 况下薄膜依附于平面板上,放置于加热真空腔室内。这种方式的缺点,薄膜宽度不能大于 500_,因为宽度过大,会造成四周与中心受热不均匀,影响结晶效果。 【专利技术内容】 本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种卷绕式ITO结晶设备,其特征在于:所述的卷绕式ITO结晶设备,包括放膜辊(1),第一组夹紧辊(2),高温辊(4),第二组夹紧辊(5),收膜辊(6),第一速度检测传感器(7),薄膜(8),第二速度检测传感器(9);其中:放膜辊(1)与第一组夹紧辊(2)平行布置在框架上,第一组夹紧辊(2)和高温辊(4)平行布置在框架上;高温辊(4)和第二组夹紧辊(5)平行布置在框架上,第二组夹紧辊(5)和收膜辊(6)平行布置在框架上;第一速度检测传感器(7)布置在第二组夹紧辊(5)的下后方;第二速度检测传感器(9)布置在第一组夹紧辊(2)的下前方;薄膜(8)绕在放膜辊(1)上,顺次通过第一组夹紧辊(2)、高温...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王宇
申请(专利权)人:沈阳镨和真空电子设备有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1