【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种用于微流控设备的基底,其包括:聚合物基板;至少一个传感器,所述传感器形成于所述聚合物基板上,用于检测样品中所含的至少一种目标分析物,其中,所述传感器包括至少一个工作电极和至少一个参比电极;多个纳米结构,所述多个纳米结构沉积在所述工作电极上,用于增加所述工作电极的表面积,以及识别元件,所述识别元件与所述纳米结构结合或沉积在所述纳米结构上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员:V·马图尔,V·内夫埃克尔,R·马修,
申请(专利权)人:皮拉马尔企业有限公司,
类型:发明
国别省市:印度;IN
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