导电薄膜、其制备方法及应用技术

一种导电薄膜，包括层叠的TITO层及ReO3层，其中，TITO为Ti-Sn-In2O3。上述导电薄膜通过在TITO层的表面沉积及高功函的ReO3层制备双层导电薄膜，既能保持TITO层的良好的导电性能，又使导电薄膜的功函数得到了显著的提高。本发明专利技术还提供一种导电薄膜的制备方法及应用。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种导电薄膜，包括层叠的TITO层及ReO3层，其中，TITO为Ti-Sn-In2O3。上述导电薄膜通过在TITO层的表面沉积及高功函的ReO3层制备双层导电薄膜，既能保持TITO层的良好的导电性能，又使导电薄膜的功函数得到了显著的提高。本专利技术还提供一种导电薄膜的制备方法及应用。【专利说明】导电薄膜、其制备方法及应用
本专利技术涉及半导体光电材料，特别是涉及导电薄膜、其制备方法、使用该导电薄膜的有机电致发光器件的基底、其制备方法及有机电致发光器件。
技术介绍
导电薄膜电极是有机电致发光器件(OLED)的基础构件，其性能的优劣直接影响着整个器件的发光效率。其中，氧化镉的掺杂半导体是近年来研究最广泛的透明导电薄膜材料，具有较高的可见光透光率和低的电阻率。但要提高器件的发光效率，要求透明导电薄膜阳极具有较高的表面功函数。而铝、镓和铟掺杂的氧化锌的功函数一般只有4.3eV，经过UV光辐射或臭氧等处理之后也只能达到4.5~5.leV，与一般的有机发光层的HOMO能级(典型的为5.7~6.3eV)还有比较大的能级差距，造成载流子注入势垒的增加，妨碍发光效率的提闻。
技术实现思路
基于此，有必要针对导电薄膜功函数较低的问题，提供一种纳米线的透明导电薄膜、其制备方法、使用该导电薄膜的有机电致发光器件的基底、其制备方法及有机电致发光器件。 一种导电薄膜， 包括层叠的TITO层及ReO3层，其中，TITO为T1-Sn_ln203。 所述导电薄膜是纳米线结构的导电薄膜，所述纳米线直径为40nm~380nm。 所述TITO层的厚度为80nm~600nm,所述ReO3层的厚度为3nm~85nm。 —种导电薄膜的制备方法，包括以下步骤: 将TITO靶材及ReO3靶材及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，其中，真空腔体的真空度为 1.0X KT3Pa ~1.0X l(T5Pa，其中，TITO 为 T1-Sn-1n2O3 ； 在所述衬底表面溅镀TITO层，溅镀所述TITO层的工艺参数为:基靶间距为45mm~95mm，激光的能量为80W~300W，压强为3Pa~30Pa，通入惰性气体，惰性气体的流量为1sccm~40sccm,衬底温度为25CTC~75CTC ； 在所述TITO层表面溅镀ReO3层，溅镀所述ReO3层的工艺参数为:基靶间距为45mm~95mm，激光的能量为80W~300W，压强为3Pa~30Pa，通入惰性气体，惰性气体的流量为1sccm~40sccm,衬底温度为250°C~750°C ;及 剥离所述衬底，得到所述导电薄膜。 所述TITO靶材由以下步骤得到:将T12, In2O3和SnO2粉体按照摩尔比为(0.1~10):(70~98): (0.5~20)混合均匀，将混合均匀的粉体在900°C~1300°C下烧结制成靶材，其中，TITO 为 T1-Sn-1n2O30 一种有机电致发光器件的基底，包括依次层叠的衬底、层叠的TITO层及ReO3层，其中，TITO 为 T1-Sn-1n2O3O 所述基底中的导电薄膜是纳米线结构的导电薄膜，所述纳米线直径为40nm~380nm。 一种有机电致发光器件的基底的制备方法，包括以下步骤: 将TITO靶材及ReO3靶材及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，其中，真空腔体的真空度为 1.0X KT3Pa ~1.0X l(T5Pa，其中，TITO 为 T1-Sn-1n2O3 ； 在所述衬底表面溅镀TITO层，溅镀所述TITO层的工艺参数为:基靶间距为45mm~95mm，激光的能量为80W~300W，压强为3Pa~30Pa，通入惰性气体，惰性气体的流量为1sccm~40sccm,衬底温度为25CTC~75CTC ； 在所述TITO层表面溅镀ReO3层，溅镀所述ReO3层的工艺参数为:基靶间距为45mm~95mm，激光的能量为80W~300W，压强为3Pa~30Pa，通入惰性气体，惰性气体的流量为1sccm~40sccm,衬底温度为25CTC~75CTC。 所述TITO靶材由以下步骤得到:将T12, In2O3和SnO2粉体按照摩尔比为(0.1~10):(70~98): (0.5~20)混合均匀，将混合均匀的粉体在900°C~1300°C下烧结制成靶材。 一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、发光层以及阴极，所述阳极包括层叠的 TITO 层及 ReO3 层，其中，TITO 为 T1-Sn-1n2O315 上述导电薄膜通过在TITO层的表面沉积ReO3层制备双层导电薄膜，既能保持TITO层的良好的导电性能，又使导电薄膜的功函数得到了显著的提高，导电薄膜在300~900nm波长范围可见光透过率88%~91%，方块电阻范围15~78 Ω/ □，表面功函数5.7~ 6.3eV ;上述导电薄膜的制备方法，采用激光烧蚀靶材，使靶材中的材料被烧蚀成原子或离子团的粒子，粒子在基底上沉积的过程中，通过通入大量的惰性气体，使粒子钝化，在基板上分散成核，然后在各个成核点垂直生长，形成柱状的纳米线；使用该导电薄膜作为有机电致发光器件的阳极，导电薄膜的表面功函数与一般的有机发光层的HOMO能级之间差距较小，降低了载流子的注入势垒，可显著的提高发光效率。 【专利附图】【附图说明】 图1为一实施方式的导电薄膜的结构示意图； 图2为一实施方式的有机电致发光器件的基底的结构不意图； 图3为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图； 图4为实施例1制备的导电薄膜的透射光谱谱图； 图5为实施例1制备的导电薄膜的电镜扫描图； 图6为器件实施例的电压与电流和亮度关系图。 【具体实施方式】 下面结合附图和具体实施例对导电薄膜、其制备方法、使用该导电薄膜的有机电致发光器件的基底、其制备方法及有机电致发光器件进一步阐明。 请参阅图1，一实施方式的导电薄膜100包括层叠的TITO层10及ReO3层30，其中，TITO 为 T1-Sn-1n2O3O 所述导电薄膜100是纳米线结构的导电薄膜，所述纳米线直径为40nm~380nm,优选为85nm。 所述TITO层10的厚度为80nm~600nm，优选为360nm， 所述ReO3层30的厚度为3nm~85nm,优选为15nm。 上述导电薄膜100通过在TITO层10的表面沉积ReO3层30制备双层导电薄膜，既能保持TITO层10的良好的导电性能，又使导电薄膜100的功函数得到了显著的提高，导电薄膜100在300~900nm波长范围可见光透过率88%~91%，方块电阻范围15~78 Ω / 口，表面功函数5.7~6.3eV。 上述导电薄膜100的制备方法，包括以下步骤: SllOJf TITO靶材及ReO3靶材及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，其中，真空腔体的真空度为1.0 X 1-3Pa~1.0 X 1-5Pa,其中，TITO为T1-Sn-1n2O315 本实施方式中，所述TITO靶材由以下步骤得到:将T12, In2O3和SnO2粉体按照摩尔比为(0.1~10): (70~98): (0.5~20)混合均匀，将混合均匀的粉体在900°C~1300°C下烧结制成靶材。 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电薄膜，其特征在于，包括层叠的TITO层及ReO3层，其中，TITO为Ti‑Sn‑In2O3。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周明杰，王平，陈吉星，钟铁涛，
申请(专利权)人：海洋王照明科技股份有限公司，深圳市海洋王照明技术有限公司，深圳市海洋王照明工程有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44