导电薄膜、其制备方法及其应用技术

一种导电薄膜，包括层叠的RZO层及CrO3层，其中RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。上述导电薄膜通过在RZO层的表面沉积高功函的CrO3层制备双层导电薄膜，既能保持RZO层的良好的导电性能，又使导电薄膜的功函数得到了显著的提高。本发明专利技术还提供一种导电薄膜的制备方法及应用。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种导电薄膜，包括层叠的RZ0层及Cr03层，其中RZ0层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。上述导电薄膜通过在RZ0层的表面沉积高功函的&03层制备双层导电薄膜，既能保持RZ0层的良好的导电性能，又使导电薄膜的功函数得到了显著的提高。本专利技术还提供一种导电薄膜的制备方法及应用。【专利说明】导电薄膜、其制备方法及其应用
本专利技术涉及半导体光电材料，特别是涉及导电薄膜、其制备方法、使用该导电薄膜的有机电致发光器件的基底、其制备方法及有机电致发光器件。
技术介绍
导电薄膜电极是有机电致发光器件(OLED)的基础构件，其性能的优劣直接影响着整个器件的发光效率。其中，氧化镉的掺杂半导体是近年来研究最广泛的透明导电薄膜材料，具有较高的可见光透光率和低的电阻率。但要提高器件的发光效率，要求透明导电薄膜阳极具有较高的表面功函数。而铝、镓和铟掺杂的氧化锌的功函数一般只有4.3eV，经过UV光辐射或臭氧等处理之后也只能达到4.5?5.leV，与一般的有机发光层的HOMO能级(典型的为5.7?6.3eV)还有比较大的能级差距，造成载流子注入势垒的增加，妨碍发光效率的提闻。
技术实现思路
基于此，有必要针对导电薄膜功函数较低的问题，提供一种功函数较高的导电薄膜、其制备方法、使用该导电薄膜的有机电致发光器件的基底、其制备方法及有机电致发光器件。 一种导电薄膜，包括层叠的RZO层及CrO3层，所述RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。 所述RZO层的厚度为50nm?300nm,所述CrO3层的厚度为0.5nm?5nm。 一种导电薄膜的制备方法，包括以下步骤: 将RZO靶材及CrO3靶材及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，其中，真空腔体的真空度为1.0 X 10_3Pa?1.0 X W5Pa,所述RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种； 在所述衬底表面溅镀RZO层，溅镀所述RZO层的工艺参数为:基靶间距为45mm?95mm,溅射功率为30W?150W，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm ?35sccm,衬底温度为 25CTC ?75CTC ； 在所述RZO层表面溅镀CrO3层，溅镀所述CrO3层的工艺参数为:基靶间距为45mm?95mm，溅射功率为30W?150W，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm?35sccm,衬底温度为25CTC?75CTC ;及 剥离所述衬底，得到所述导电薄膜。 所述RZO靶材由以下步骤得到:将ZnO和R2O3粉体混合均匀得到混合物，其中，R2O3粉体占混合物的质量百分数为0.5%?10%，R2O3为三氧化铝、三氧化镓和三氧化铟中的至少一种，将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结制成靶材。 所述CrO3靶材由以下步骤得到:将CrO3粉体在800°C?1200°C下烧结制成靶材。 一种有机电致发光器件的基底，包括依次层叠的衬底、层叠的RZO层及CrO3层，其中，所述RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。 所述RZO层的厚度为50nm?300nm,所述CrO3层的厚度为0.5nm?5nm。 一种有机电致发光器件的基底的制备方法，包括以下步骤: 将RZO靶材及CrO3靶材及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，其中，真空腔体的真空度为1.0X KT3Pa?1.0X KT5Pa ； 在所述衬底表面溅镀RZO层，溅镀所述RZO层的工艺参数为:基靶间距为45mm?95mm,溅射功率为30W?150W，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm ?35sccm,衬底温度为 25CTC ?75CTC ； 在所述RZO层表面溅镀CrO3层，溅镀所述CrO3层的工艺参数为:基靶间距为45mm?95mm，溅射功率为30W?150W，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm ?35sccm,衬底温度为 25CTC ?75CTC。 所述RZO靶材由以下步骤得到:将ZnO和R2O3粉体混合均匀得到混合物，其中，R2O3粉体占混合物的质量百分数为0.5%?10%，R2O3为三氧化铝、三氧化镓和三氧化铟中的至少一种，将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结制成靶材； 所述CrO3靶材由以下步骤得到:将CrO3粉体在800°C?1200°C下烧结制成靶材。 一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、发光层以及阴极，所述阳极包括层叠的RZO层及CrO3层，其中RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。 上述导电薄膜通过在RZO层的表面沉积高功函的CrO3层制备双层导电薄膜，既能保持RZO层的良好的导电性能，又使导电薄膜的功函数得到了显著的提高，导电薄膜在300?900nm波长范围可见光透过率85%?90%，方块电阻范围10?95 Ω / 口，表面功函数 5.3?6.2eV ;上述导电薄膜的制备方法，仅仅使用磁控溅射镀膜设备即可连续制备RZO层及&03层，工艺较为简单；使用该导电薄膜作为有机电致发光器件的阳极，导电薄膜的表面功函数与一般的有机发光层的HOMO能级之间差距较小，降低了载流子的注入势垒，可显著的提高发光效率。 【专利附图】【附图说明】 图1为一实施方式的导电薄膜的结构示意图； 图2为一实施方式的有机电致发光器件的基底的结构不意图； 图3为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图； 图4为实施例1制备的导电薄膜的透射光谱谱图； 图5为器件实施例的电压与电流和亮度关系图。 【具体实施方式】 下面结合附图和具体实施例对导电薄膜、其制备方法、使用该导电薄膜的有机电致发光器件的基底、其制备方法及有机电致发光器件进一步阐明。 请参阅图1，一实施方式的导电薄膜100包括层叠的RZO层10及CrO3层20。 所述RZO层10的厚度为50nm?300nm,优选为150nm, 所述CrO3层20的厚度为0.5nm?5nm,优选为2nm。 上述导电薄膜100通过在RZO层10的表面沉积高功函的CrO3层20制备多层导电薄膜，既能保持RZO层10的良好的导电性能，又使导电薄膜100的功函数得到了显著的提高，导电薄膜100在300?900nm波长范围可见光透过率85%?90%，方块电阻范围10?95 Ω / 口，表面功函数5.3?6.2eV。 上述导电薄膜100的制备方法，包括以下步骤: SI 10、将RZO靶材及CrO3靶材及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，其中，真空腔体的真空度为1.0 X 10_3Pa?1.0 X 10_5Pa，所述RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。 本实施方式中所述RZO靶材由以下步骤得到:将ZnO和R2O3粉体混合均匀得到混合物，其中，R2O3粉体占混合物的质量百分数为0.5%?10%，R2O3为三氧化铝、三氧化镓和三氧化铟中的至少一种，将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结制成靶材。 衬底为玻璃衬底。优选的，衬底在使用前用丙酮本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电薄膜，其特征在于，包括层叠的RZO层及CrO3层，其中，所述RZO层为铝掺杂的氧化锌，镓掺杂氧化锌和铟掺杂氧化锌中的一种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周明杰，陈吉星，王平，冯小明，
申请(专利权)人：海洋王照明科技股份有限公司，深圳市海洋王照明技术有限公司，深圳市海洋王照明工程有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44